基于AlGaSbN/GaN异质结的高电子迁移率晶体管及制备方法

    公开(公告)号:CN114975623A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210658275.9

    申请日:2022-06-10

    摘要: 本发明公开了一种基于AlGaSbN/GaN异质结的高电子迁移率晶体管及制备方法,主要解决现有HEMT器件势垒层Al组分及二维电子气浓度低的问题。其自下而上包括:c面蓝宝石衬底层(1)、AlN成核层(2)、GaN缓冲层(3)和势垒层(4),该势垒层的两端分别设有漏源电极(6,7),中间设有栅电极(8),势垒层未淀积电极的位置处为栅介质层(5),其上设有Si3N4钝化层(9),该势垒层采用AlGaSbN材料,以增加Al组分,实现与GaN缓冲层(3)的晶格匹配;该栅介质层采用SiO2材料,以减小栅极漏电。本发明提升了二维电子气的浓度和工作效率,可用来制作GaN基高压大功率电子器件和射频电子器件。

    一种应用于MOCVD设备的可伸缩基座

    公开(公告)号:CN113862780A

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202110939567.5

    申请日:2021-08-16

    摘要: 本发明公开了一种应用于MOCVD设备的可伸缩基座,所述基座包括:基体、压力传感器、伸缩杆、控制装置;其中,所述基体包括母材和涂层;所述基体内部均匀的分布多个伸缩杆;所述压力传感器位于所述伸缩杆顶部;所述控制装置位于所述基体底部中间;所述控制装置内部署有数据处理模块;所述控制装置、压力传感器和伸缩杆部署有通信模块。所述基座能够根据压力信息进行智能伸缩,能够解决在外延生长时由于温度升高导致衬底与基座发生分离的现象,能够保证基座与衬底实时保持贴合状态,从而使衬底各处能够均匀加热,使衬底各处的温度均匀分布,以提高外延生长得到的半导体材料的晶体薄膜质量。

    基于In原子扩散进入多量子阱的红光LED器件及制备方法

    公开(公告)号:CN114864766A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210657492.6

    申请日:2022-06-10

    摘要: 本发明公开了一种基于In原子扩散进入多量子阱的红光LED及制备方法,主要解决现有红光LED高In组分InGaN生长困难,In原子偏析严重,量子限制斯塔克效应显著,导致发光二极管效率低的问题。其自下而上包括:c面蓝宝石衬底层(1)、AlN成核层(2)、n型GaN层(3)、InxGa1‑xN/GaN多量子阱(4)、电子阻挡层(6)和p型层(7),该p型层上设有正电极(8),该n型GaN层上设有负电极(9),该多量子阱与电子阻挡层之间溅射有金属In层(5),通过热扩散,使得多量子阱层中In组分增加,发射波长变长。本发明提高了发光二极管效率,可用于制作高效率的发射红光器件,实现氮化物的全色显示。