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公开(公告)号：CN101790764B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200880105195.9
申请日：2008-08-15
申请人： 西默股份有限公司
IPC分类号： G21G4/00
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , H05G2/005 , H05G2/008 , Y10S422/906
摘要： 本文记载设备及其相应使用方法，该设备可包括界定闭环流体路径的密封结构以及在等离子体场所产生等离子体的系统，例如激光致等离子体系统，其中等离子体场所可与流体路径流体连通。对该设备而言，可将气体设置在可包含离子止动缓冲气和/或腐蚀剂的密封结构中。可提供泵以强制气体通过闭环流体路径。可提供从在流体路径中的流动的气体去除热量的一个或多个热交换器。在一些配置中，可使用过滤器从在流体路径中流动的气体中去除至少一部分靶核素。
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公开(公告)号：CN101790763A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200880105064.0
申请日：2008-08-15
申请人： 西默股份有限公司
IPC分类号： G21G4/00
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70883 , G03F7/70908
摘要： 一种气体流动管理系统，包括：至少部分地围住第一空间和第二空间的第一和第二密封壁；在第一空间中产生等离子体的系统，该等离子体发出远紫外光；约束从第一空间流向第二空间的流动的伸长本体，该本体至少部分地围住一过道并具有使EUV光从第一空间进入过道的第一开口端以及使EUV光离开过道进入第二空间的第二开口端，该本体的形状建立相对第一和第二端具有减小横截面积的位置；以及离开一孔口的气体流，该孔口被设置成在本体的第一端和具有减小横截面积的位置之间的某一位置将气体引入所述过道。
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公开(公告)号：CN101978792B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN200980109891.1
申请日：2009-02-17
申请人： 西默股份有限公司
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 本发明公开了多个设备，这些设备可包括EUV反射光学装置，该光学装置具有限定旋转轴和圆形外围的旋转表面。该光学装置可被定位成使其轴相对于水平面以非零角度倾斜，并在水平面中建立该外围的垂直投影，且该外围投影在水平面中约束一区域。该设备可进一步包括输送靶材料的系统，该系统具有位于水平面中且在由该外围投影所约束的区域之外的靶材料释放点，以及产生激光束以辐照该靶材料以产生EUV发射的系统。
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公开(公告)号：CN101790763B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN200880105064.0
申请日：2008-08-15
申请人： 西默股份有限公司
IPC分类号： G21G4/00
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70883 , G03F7/70908
摘要： 一种气体流动管理系统，包括：至少部分地围住第一空间和第二空间的第一和第二密封壁；在第一空间中产生等离子体的系统，该等离子体发出远紫外光；约束从第一空间流向第二空间的流动的伸长本体，该本体至少部分地围住一过道并具有使EUV光从第一空间进入过道的第一开口端以及使EUV光离开过道进入第二空间的第二开口端，该本体的形状建立相对第一和第二端具有减小横截面积的位置；以及离开一孔口的气体流，该孔口被设置成在本体的第一端和具有减小横截面积的位置之间的某一位置将气体引入所述过道。
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公开(公告)号：CN102256429A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110094574.6
申请日：2004-04-07
申请人： 西默股份有限公司
摘要： 揭示一种从EUV光源EUV集光器反射表面去除碎片的方法与设备，反射表面含第一材料，碎片含第二材料和/或第二材料的化合物。该系统与方法包括一受控的溅射离子源，该溅射离子源包括含溅射离子材料原子的气体；和一把溅射离子材料的原子激发成电离态的激发机构，电离态被选成具有围绕选定能量峰的分布，对第二材料具有高的溅射概率，而对第一材料具有极低的溅射概率。激发机构包括一RF或微波感应机构。气体保持于部分决定选定能量峰的压力，激发机构产生溅射离子材料的离子流入量，从反射器表面形成第二材料的原子溅射密度，它等于或超过第二材料等离子体碎片原子的流入速率。对指定的反射表面期望寿命选择溅射速率。反射表面可被覆盖。集光器包括椭圆镜与包含径向延伸沟道的碎片屏。第一材料是钼，第二材料为锂，离子材料为氦，系统具有从反射表面蒸发第二材料的加热器，激发机构在点火时刻之间连接反射表面，反射表面有阻挡层。集光器是组合了掠入射角反射器壳体的球面镜，通过对反射器壳体上的多层堆选用层材料，壳体可用作光谱滤波器。溅射可结合加热，后者去除锂，前者去除锂化合物，可用等离子体生成的离子作溅射而不用受激的气体原子。
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公开(公告)号：CN102971922A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201180030300.9
申请日：2011-05-24
申请人： 西默股份有限公司
IPC分类号： H01S3/00
CPC分类号： H01S3/0078 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70908 , G03F7/70933 , H01S3/076 , H01S3/1055 , H01S3/117 , H01S3/2232 , H05G2/008
摘要： 本文描述一种设备，所述设备可以包括：光学放大器，所述光学放大器具有包括波长λ1和λ2的增益带，其中λ1≠λ2；预脉冲种子激光器，所述预脉冲种子激光器具有把预脉冲输出调谐到波长λ1的调谐模块；主脉冲种子激光器，所述主脉冲种子激光器产生波长λ2的激光输出；以及光束组合器，用于通过光学放大器在公共路径上引导预脉冲输出和主脉冲输出。
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公开(公告)号：CN101790764A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200880105195.9
申请日：2008-08-15
申请人： 西默股份有限公司
IPC分类号： G21G4/00
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , H05G2/005 , H05G2/008 , Y10S422/906
摘要： 本文记载设备及其相应使用方法，该设备可包括界定闭环流体路径的密封结构以及在等离子体场所产生等离子体的系统，例如激光致等离子体系统，其中等离子体场所可与流体路径流体连通。对该设备而言，可将气体设置在可包含离子止动缓冲气和/或腐蚀剂的密封结构中。可提供泵以强制气体通过闭环流体路径。可提供从在流体路径中的流动的气体去除热量的一个或多个热交换器。在一些配置中，可使用过滤器从在流体路径中流动的气体中去除至少一部分靶核素。
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公开(公告)号：CN1771072A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200480009342.4
申请日：2004-04-07
申请人： 西默股份有限公司
IPC分类号： A61N5/00
CPC分类号： H05G2/001 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , G21K1/062
摘要： 揭示一种从EUV光源EUV集光器反射表面去除碎片的方法与设备，反射表面含第一材料，碎片含第二材料和/或第二材料的化合物。该系统与方法包括一受控的溅射离子源，该溅射离子源包括含溅射离子材料原子的气体；和一把溅射离子材料的原子激发成电离态的激发机构，电离态被选成具有围绕选定能量峰的分布，对第二材料具有高的溅射概率，而对第一材料具有极低的溅射概率。激发机构包括一RF或微波感应机构。气体保持于部分决定选定能量峰的压力，激发机构产生溅射离子材料的离子流入量，从反射器表面形成第二材料的原子溅射密度，它等于或超过第二材料等离子体碎片原子的流入速率。对指定的反射表面期望寿命选择溅射速率。反射表面可被覆盖。集光器包括椭圆镜与包含径向延伸沟道的碎片屏。第一材料是钼，第二材料为锂，离子材料为氦，系统具有从反射表面蒸发第二材料的加热器，激发机构在点火时刻之间连接反射表面，反射表面有阻挡层。集光器是组合了掠入射角反射器壳体的球面镜，通过对反射器壳体上的多层堆选用层材料，壳体可用作光谱滤波器。溅射可结合加热，后者去除锂，前者去除锂化合物，可用等离子体生成的离子作溅射而不用受激的气体原子。
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公开(公告)号：CN1295729A
公开(公告)日：2001-05-16
申请号：CN99803585.8
申请日：1999-02-16
申请人： 西默股份有限公司
发明人： D·S·诺尔斯 , J·H·阿佐拉 , H·A·贝萨奥克里 , P·P·达斯 , A·叶尔绍夫一世 , T·尤哈兹 , R·M·内斯 , R·G·奥扎斯基 , W·N·帕特罗 , D·A·罗斯韦尔 , R·L·桑德斯特伦 , R·C·乌佳导斯基 , T·A·沃森 , I·V·福缅科夫
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/1055 , H01S3/134 , H01S3/1392 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 一种可靠的、模块化的、制造质量的窄带KrF激子激光器,能够产生1000Hz,带宽约0.6pm或更小的10mJ激光脉冲。本发明特别适合在集成电路的平板印刷中长期昼夜工作。在现有技术激光器上的改进包括:单个上游预电离器管(56)和隔音板。较佳实施例包括降低氟的浓度;阳极支撑条的形状,有利于降低在鼓风机的轴承上的空气动力学反作用力;经修改的脉冲功率系统提供较快的脉冲上升时间;反射率明显地增加的输出耦合器(65);带CaF棱镜光束扩展器的线变窄模块;更正确的波长计;用新的、改进的脉冲能量算法编程的激光器计算机控制器。
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