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公开(公告)号:CN102217152B
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN200980145932.2
申请日:2009-07-06
申请人: 诺依曼系统集团公司
IPC分类号: H01S3/095
CPC分类号: H01S3/095 , B01D53/18 , B01D2251/106 , B01D2251/2065 , B01D2251/30 , B01D2251/40 , B01D2251/80 , B01D2257/302 , B01D2257/304 , B01D2257/404 , B01D2257/406 , B01D2257/504 , B01D2257/602 , B01D2259/124 , H01S3/036 , H01S3/2215
摘要: 本发明涉及气液接触器和排放物清洁系统及方法,更具体地涉及被构建成能够产生均匀间隔的水平液体射流的喷嘴阵列,其形状能使来自气流的干扰最小化。本发明的一个实施方案涉及包括液体入口和出口以及气体入口和出口的气液接触器模块。喷嘴阵列与液体入口和气体入口连通。喷嘴阵列被构建成能够产生均匀间隔的水平液体射流,其形状能使来自气流的干扰最小化,并且能使气流和液流的相互作用最大化,同时又能迅速补充液体。
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公开(公告)号:CN102217152A
公开(公告)日:2011-10-12
申请号:CN200980145932.2
申请日:2009-07-06
申请人: 诺依曼系统集团公司
IPC分类号: H01S3/095
CPC分类号: H01S3/095 , B01D53/18 , B01D2251/106 , B01D2251/2065 , B01D2251/30 , B01D2251/40 , B01D2251/80 , B01D2257/302 , B01D2257/304 , B01D2257/404 , B01D2257/406 , B01D2257/504 , B01D2257/602 , B01D2259/124 , H01S3/036 , H01S3/2215
摘要: 本发明涉及气液接触器和排放物清洁系统及方法,更具体地涉及被构建成能够产生均匀间隔的水平液体射流的喷嘴阵列,其形状能使来自气流的干扰最小化。本发明的一个实施方案涉及包括液体入口和出口以及气体入口和出口的气液接触器模块。喷嘴阵列与液体入口和气体入口连通。喷嘴阵列被构建成能够产生均匀间隔的水平液体射流,其形状能使来自气流的干扰最小化,并且能使气流和液流的相互作用最大化,同时又能迅速补充液体。
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公开(公告)号:CN102215934A
公开(公告)日:2011-10-12
申请号:CN200980145235.7
申请日:2009-09-28
申请人: 诺依曼系统集团公司
IPC分类号: B01D47/02
CPC分类号: B01D53/1475 , B01D53/1493 , B01D53/18 , B01D53/62 , B01D53/78 , B01D2251/106 , B01D2251/2065 , B01D2251/30 , B01D2251/40 , B01D2251/402 , B01D2251/404 , B01D2251/502 , B01D2251/80 , B01D2252/20447 , B01D2257/302 , B01D2257/304 , B01D2257/404 , B01D2257/406 , B01D2257/504 , B01D2257/602 , B01D2259/124 , B01D2259/126 , C10L3/10 , C10L3/102 , H01S3/095 , H01S3/2215 , Y02C10/04 , Y02C10/06
摘要: 本发明涉及一种气液接触器以及流出物清洁系统和方法,且更具体地说,涉及构造成产生具有降低的线性稳定性的均匀间隔的扁平液体射流。本发明的一个实施例针对与气液接触器喷嘴一起使用的稳定单元和/或用于稳定射流形成的增强物,更具体地说,针对降低由气液接触器的喷嘴形成的液体射流的稳定性。本发明的另一个方面涉及在降低液体射流的稳定性的条件下运行装置,例如液滴生成器装置。本发明的再一个方面涉及利用含水浆料运行装置。本发明的又一个方面针对一种用于基本上分离至少两种流体的装置。
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