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公开(公告)号：CN107820461B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201680035855.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , B32B37/12 , B32B38/00 , B32B38/04 , B32B38/18 , B44C1/16
Abstract: 本公开涉及可用于仅转印转印带的区段的一部分的分段式转印带及其制备方法。所述分段式转印带包括具有结构化表面的可移除模板层；包括回填层和粘合剂层的转印层，其中所述回填层具有结构化第一主表面；在所述转印层中形成的至少一个可转印区段；在所述转印层中形成的至少一个不可转印区段，所述至少一个不可转印区段包括粘合剂表面，其中钝化层设置于所述至少一个不可转印区段的粘合剂表面的至少一部分上；以及从所述粘合剂层的第一主表面延伸并进入所述可移除模板层的至少一部分中的至少一个截口。本公开还提供了微光学组件以及由所述分段式转印带制备微光学组件的方法。
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公开(公告)号：CN107835741B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201680035703.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森 , 特里·O·科利尔
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/023 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B17/06 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , G02B6/00
Abstract: 本公开涉及分段式转印带(100)和非分段式转印带(800)，所述转印带包括至少一个图形层。所述转印带包括可移除模板层(110)；转印层(180)，所述转印层包括具有至少一个第一图形层(140)的回填层(120)，和粘合剂层(150)。分段式转印带还包括在分段式转印带中的至少一个转印型区段(185)、至少一个非转印型区段(187)，并且包括至少一个切口(190)。本公开还提供光学组件，例如微光学组件，所述光学组件可由包括至少一个图形层的所述转印带制造。本公开还提供形成所述转印带的方法以及制作所述微光学组件的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107820573B
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201680037570.5
申请日：2016-06-29
Applicant: 3M创新有限公司
Abstract: 本发明所公开的光定向制品包括结构化层、粘合剂密封层和阻隔元件。所述结构化层包括与主表面相对的多个微结构化元件。所述粘合剂密封层具有第一区域和第二区域。所述第二区域与所述结构化层接触。所述阻隔元件位于所述第一区域。所述具有阻隔元件的第一区域以及所述第二区域具有足够不同的特性，以在所述粘合剂密封层与所述结构化层之间形成低折射率层。所述阻隔元件包含弹性模量小于4.4GPa的交联聚合物基体。
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公开(公告)号：CN107835741A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201680035703.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森 , 特里·O·科利尔
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B17/06 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , G02B6/00
Abstract: 本公开涉及分段式转印带(100)和非分段式转印带(800)，所述转印带包括至少一个图形层。所述转印带包括可移除模板层(110)；转印层(180)，所述转印层包括具有至少一个第一图形层(140)的回填层(120)，和粘合剂层(150)。分段式转印带还包括在分段式转印带中的至少一个转印型区段(185)、至少一个非转印型区段(187)，并且包括至少一个切口(190)。本公开还提供光学组件，例如微光学组件，所述光学组件可由包括至少一个图形层的所述转印带制造。本公开还提供形成所述转印带的方法以及制作所述微光学组件的方法。
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公开(公告)号：CN107820573A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201680037570.5
申请日：2016-06-29
Applicant: 3M创新有限公司
Abstract: 本发明所公开的光定向制品包括结构化层、粘合剂密封层和阻隔元件。所述结构化层包括与主表面相对的多个微结构化元件。所述粘合剂密封层具有第一区域和第二区域。所述第二区域与所述结构化层接触。所述阻隔元件位于所述第一区域。所述具有阻隔元件的第一区域以及所述第二区域具有足够不同的特性，以在所述粘合剂密封层与所述结构化层之间形成低折射率层。所述阻隔元件包含弹性模量小于4.4GPa的交联聚合物基体。
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公开(公告)号：CN107820461A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201680035855.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , B32B37/12 , B32B38/00 , B32B38/04 , B32B38/18 , B44C1/16
Abstract: 本公开涉及可用于仅转印转印带的区段的一部分的分段式转印带及其制备方法。所述分段式转印带包括具有结构化表面的可移除模板层；包括回填层和粘合剂层的转印层，其中所述回填层具有结构化第一主表面；在所述转印层中形成的至少一个可转印区段；在所述转印层中形成的至少一个不可转印区段，所述至少一个不可转印区段包括粘合剂表面，其中钝化层设置于所述至少一个不可转印区段的粘合剂表面的至少一部分上；以及从所述粘合剂层的第一主表面延伸并进入所述可移除模板层的至少一部分中的至少一个截口。本公开还提供了微光学组件以及由所述分段式转印带制备微光学组件的方法。
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