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公开(公告)号：CN107835741B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201680035703.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森 , 特里·O·科利尔
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/023 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B17/06 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , G02B6/00
Abstract: 本公开涉及分段式转印带(100)和非分段式转印带(800)，所述转印带包括至少一个图形层。所述转印带包括可移除模板层(110)；转印层(180)，所述转印层包括具有至少一个第一图形层(140)的回填层(120)，和粘合剂层(150)。分段式转印带还包括在分段式转印带中的至少一个转印型区段(185)、至少一个非转印型区段(187)，并且包括至少一个切口(190)。本公开还提供光学组件，例如微光学组件，所述光学组件可由包括至少一个图形层的所述转印带制造。本公开还提供形成所述转印带的方法以及制作所述微光学组件的方法。
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公开(公告)号：CN110114419A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201780081493.8
申请日：2017-12-27
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 克拉里·哈特曼-汤普森 , 乔纳森·A·阿尼姆-阿多 , 贾斯廷·P·迈尔 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 布赖恩·V·亨特
Abstract: 本发明公开了可固化的可涂覆型组合物，所述可固化的可涂覆型组合物包含具有高折射率的硅烷经表面处理的无机纳米颗粒和可固化的反应混合物。所述可固化的反应混合物包含第一(甲基)丙烯酸酯单体，其包含折射率为1.6或更高的高折射率(甲基)丙烯酸酯单体；第二(甲基)丙烯酸酯单体，其包含折射率小于1.6的较低折射率(甲基)丙烯酸酯单体；以及至少一种引发剂。由所述组合物制备的固化的光学涂层是光学透明的，具有至少88％的可见光透射率和5％或更小的雾度，并且具有至少1.78的折射率，并且能够通过10毫米芯轴柔性测试。
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公开(公告)号：CN119256028A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202380041666.9
申请日：2023-05-22
Applicant: 3M创新有限公司
IPC: C08F220/18 , C08F265/06 , C09D4/06 , C09J4/06 , C08F290/06 , C08F299/00 , C09J7/00
Abstract: 本文描述了一种复合粘合剂组合物。该组合物包含：分散在(甲基)丙烯酸酯系基质中的多个聚合物纳米颗粒；并且该(甲基)丙烯酸酯系基质衍生自C1至C12(甲基)丙烯酸酯单体和(甲基)丙烯酸酯大分子单体。在一些实施方案中，这些复合粘合剂显示出良好的抗冲击性和良好的动态抗剪切性。在一个实施方案中，将离子液体添加到该复合粘合剂中以实现电剥离。
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公开(公告)号：CN107820461B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201680035855.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , B32B37/12 , B32B38/00 , B32B38/04 , B32B38/18 , B44C1/16
Abstract: 本公开涉及可用于仅转印转印带的区段的一部分的分段式转印带及其制备方法。所述分段式转印带包括具有结构化表面的可移除模板层；包括回填层和粘合剂层的转印层，其中所述回填层具有结构化第一主表面；在所述转印层中形成的至少一个可转印区段；在所述转印层中形成的至少一个不可转印区段，所述至少一个不可转印区段包括粘合剂表面，其中钝化层设置于所述至少一个不可转印区段的粘合剂表面的至少一部分上；以及从所述粘合剂层的第一主表面延伸并进入所述可移除模板层的至少一部分中的至少一个截口。本公开还提供了微光学组件以及由所述分段式转印带制备微光学组件的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110178242B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201780066875.3
申请日：2017-10-17
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 尼古拉斯·C·埃里克森 , 摩西·M·戴维 , 孙晓光 , 马诺耶·尼马尔 , 黑恩·希科劳 , 罗慧 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 吉利安·M·纳尔森 , 贾斯廷·P·迈尔 , 钱之华 , 戴维·J·罗韦 , 罗伯特·L·布劳特 , 戴维·G·弗赖尔 , 海厄森斯·L·莱丘加
Abstract: 本发明描述了具有包括纳米结构化表面的第一层的纳米结构化制品。该纳米结构化表面包括从该第一层的基部表面延伸的多个支柱。该支柱的平均高度大于该支柱的平均侧向尺寸。支柱之间的中心至中心间距不大于2000nm。平均侧向尺寸不小于50nm。多个支柱中的每个支柱至少具有下部和上部，其中下部位于上部与基部表面之间并且上部和下部具有不同的组成。纳米结构化制品包括设置在多个支柱上方并连续延伸到基部表面的第二层。
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公开(公告)号：CN110114419B
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN201780081493.8
申请日：2017-12-27
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 克拉里·哈特曼-汤普森 , 乔纳森·A·阿尼姆-阿多 , 贾斯廷·P·迈尔 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 布赖恩·V·亨特
Abstract: 本发明公开了可固化的可涂覆型组合物，所述可固化的可涂覆型组合物包含具有高折射率的硅烷经表面处理的无机纳米颗粒和可固化的反应混合物。所述可固化的反应混合物包含第一(甲基)丙烯酸酯单体，其包含折射率为1.6或更高的高折射率(甲基)丙烯酸酯单体；第二(甲基)丙烯酸酯单体，其包含折射率小于1.6的较低折射率(甲基)丙烯酸酯单体；以及至少一种引发剂。由所述组合物制备的固化的光学涂层是光学透明的，具有至少88％的可见光透射率和5％或更小的雾度，并且具有至少1.78的折射率，并且能够通过10毫米芯轴柔性测试。
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公开(公告)号：CN110178242A
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201780066875.3
申请日：2017-10-17
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 尼古拉斯·C·埃里克森 , 摩西·M·戴维 , 孙晓光 , 马诺耶·尼马尔 , 黑恩·希科劳 , 罗慧 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 吉利安·M·纳尔森 , 贾斯廷·P·迈尔 , 钱之华 , 戴维·J·罗韦 , 罗伯特·L·布劳特 , 戴维·G·弗赖尔 , 海厄森斯·L·莱丘加
Abstract: 本发明描述了具有包括纳米结构化表面的第一层的纳米结构化制品。该纳米结构化表面包括从该第一层的基部表面延伸的多个支柱。该支柱的平均高度大于该支柱的平均侧向尺寸。支柱之间的中心至中心间距不大于2000nm。平均侧向尺寸不小于50nm。多个支柱中的每个支柱至少具有下部和上部，其中下部位于上部与基部表面之间并且上部和下部具有不同的组成。纳米结构化制品包括设置在多个支柱上方并连续延伸到基部表面的第二层。
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公开(公告)号：CN107835741A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201680035703.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森 , 特里·O·科利尔
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B17/06 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , G02B6/00
Abstract: 本公开涉及分段式转印带(100)和非分段式转印带(800)，所述转印带包括至少一个图形层。所述转印带包括可移除模板层(110)；转印层(180)，所述转印层包括具有至少一个第一图形层(140)的回填层(120)，和粘合剂层(150)。分段式转印带还包括在分段式转印带中的至少一个转印型区段(185)、至少一个非转印型区段(187)，并且包括至少一个切口(190)。本公开还提供光学组件，例如微光学组件，所述光学组件可由包括至少一个图形层的所述转印带制造。本公开还提供形成所述转印带的方法以及制作所述微光学组件的方法。
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公开(公告)号：CN107820461A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201680035855.5
申请日：2016-06-13
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森
IPC: B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , B32B37/12 , B32B38/00 , B32B38/04 , B32B38/18 , B44C1/16
Abstract: 本公开涉及可用于仅转印转印带的区段的一部分的分段式转印带及其制备方法。所述分段式转印带包括具有结构化表面的可移除模板层；包括回填层和粘合剂层的转印层，其中所述回填层具有结构化第一主表面；在所述转印层中形成的至少一个可转印区段；在所述转印层中形成的至少一个不可转印区段，所述至少一个不可转印区段包括粘合剂表面，其中钝化层设置于所述至少一个不可转印区段的粘合剂表面的至少一部分上；以及从所述粘合剂层的第一主表面延伸并进入所述可移除模板层的至少一部分中的至少一个截口。本公开还提供了微光学组件以及由所述分段式转印带制备微光学组件的方法。
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