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公开(公告)号：CN112731770A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202011588035.3
申请日：2016-10-18
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了根据激光器以其被操作的重复率对激光器性能的在线校准。校准可以是周期性的，并且可以在非曝光时段期间的计划期间进行。可以使用各种标准来自动选择产生可靠的符合规范的性能的重复率。然后使重复率的可靠值可用于扫描仪以作为所允许的值，并且然后允许激光器/扫描仪系统使用那些允许的重复率。
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公开(公告)号：CN110178087A
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201780083474.9
申请日：2017-12-04
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
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公开(公告)号：CN108474689A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680073543.3
申请日：2016-10-18
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了根据激光器以其被操作的重复率对激光器性能的在线校准。校准可以是周期性的，并且可以在非曝光时段期间的计划期间进行。可以使用各种标准来自动选择产生可靠的符合规范的性能的重复率。然后使重复率的可靠值可用于扫描仪以作为所允许的值，并且然后允许激光器/扫描仪系统使用那些允许的重复率。
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公开(公告)号：CN110178087B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201780083474.9
申请日：2017-12-04
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
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公开(公告)号：CN105229535A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201480028983.8
申请日：2014-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/225 , H01S3/104 , H01S3/0975
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70025 , G03F7/70516 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/225
摘要： 一种选择待施加至辐射源的变量的周期性调制(401)的方法，其中源传递辐射以用于投射至衬底上以及其中在衬底和辐射之间存在以扫描速度的相对运动，方法包括：针对系统参数集合以及针对衬底上的位置，计算量值，量值是源自于被施加至源的变量的调制的对于被传递至该位置的能量剂量(403)贡献的度量，其中对能量剂量的贡献被计算为以下项的卷积：辐射的分布(402)，以及对由源传递的辐射的辐照度的贡献；以及选择调制频率，在该频率处针对系统参数集合和衬底上的位置的量值满足特定准则。
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公开(公告)号：CN113703287A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202111015096.5
申请日：2017-12-04
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种减少准分子光源中的散斑的方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
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公开(公告)号：CN108474689B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201680073543.3
申请日：2016-10-18
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了根据激光器以其被操作的重复率对激光器性能的在线校准。校准可以是周期性的，并且可以在非曝光时段期间的计划期间进行。可以使用各种标准来自动选择产生可靠的符合规范的性能的重复率。然后使重复率的可靠值可用于扫描仪以作为所允许的值，并且然后允许激光器/扫描仪系统使用那些允许的重复率。
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公开(公告)号：CN111819741A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017695.5
申请日：2019-02-21
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·P·戈德弗里德 , F·埃弗茨 , W·P·E·M·奥普特·鲁特
摘要： 一种用于控制激光器的控制系统，包括：用于感测物理值的传感器，物理值指示由激光器发出的激光束的特性；开关；第一控制器和第二控制器。每个控制器被配置为：从传感器接收又一传感器值；基于接收到的又一传感器值调整接收到的设定点值以给出输出值；并且使激光器根据该输出值进行操作。开关被配置为在控制器之间切换，使得输出值以循环的方式从每个控制器被提供。
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公开(公告)号：CN105229535B
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201480028983.8
申请日：2014-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/225 , H01S3/104 , H01S3/0975
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70025 , G03F7/70516 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/225
摘要： 一种选择待施加至辐射源的变量的周期性调制(401)的方法，其中源传递辐射以用于投射至衬底上以及其中在衬底和辐射之间存在以扫描速度的相对运动，方法包括：针对系统参数集合以及针对衬底上的位置，计算量值，量值是源自于被施加至源的变量的调制的对于被传递至该位置的能量剂量(403)贡献的度量，其中对能量剂量的贡献被计算为以下项的卷积：辐射的分布(402)，以及对由源传递的辐射的辐照度的贡献；以及选择调制频率，在该频率处针对系统参数集合和衬底上的位置的量值满足特定准则。
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