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公开(公告)号：CN111837074B
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN201980016708.7
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·W·H·德贾格 , S·F·乌伊斯特尔 , 玛丽亚-克莱尔·范拉尔 , R·C·马斯 , A·O·波利亚科夫 , T·朱兹海妮娜 , V·沃罗尼纳 , E·库尔干诺娃 , J·V·奥沃卡姆普 , B·卡斯川普 , M·范卡朋 , A·多尔戈夫
Abstract: 本发明公开用于形成图案化的材料层的方法和设备。在一种布置中，在沉积过程期间利用具有小于100nm的波长的电磁辐射来辐照衬底的表面的选定部分。此外，电场控制器被配置成施加被定向以便迫使二次电子远离所述衬底的电场。所述辐照在选定区中局部地驱动所述沉积过程且由此使所述沉积过程以由所述选定部分限定的图案形成材料层。
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公开(公告)号：CN108701576B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201680082561.8
申请日：2016-12-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·卡斯川普 , J·C·H·缪尔肯斯 , M·A·范登布林克 , 约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普 , E·P·斯马克曼 , T·朱兹海妮娜 , C·A·维索尔伦
IPC: H01J37/065 , H01J37/15
Abstract: 本发明公开了一种电子束检查设备，该设备包括：多个电子束柱(600)，每个电子束柱配置成提供电子束且检测来自物体的散射电子或二次电子；和致动器系统(600，610)，其配置成使所述电子束柱中的一个或更多个相对于所述电子束柱中的另外的一个或更多个移动(640，630)。所述致动器系统可包括多个第一可移动结构，所述多个第一可移动结构与多个第二可移动结构至少部分地重叠，所述第一可移动结构和所述第二可移动结构支撑所述多个电子束柱。
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公开(公告)号：CN111837074A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201980016708.7
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·W·H·德贾格 , S·F·乌伊斯特尔 , 玛丽亚-克莱尔·范拉尔 , R·C·马斯 , A·O·波利亚科夫 , T·朱兹海妮娜 , V·沃罗尼纳 , E·库尔干诺娃 , J·V·奥沃卡姆普 , B·卡斯川普 , M·范卡朋 , A·多尔戈夫
Abstract: 本发明公开用于形成图案化的材料层的方法和设备。在一种布置中，在沉积过程期间利用具有小于100nm的波长的电磁辐射来辐照衬底的表面的选定部分。此外，电场控制器被配置成施加被定向以便迫使二次电子远离所述衬底的电场。所述辐照在选定区中局部地驱动所述沉积过程且由此使所述沉积过程以由所述选定部分限定的图案形成材料层。
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公开(公告)号：CN110832402A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201880044464.9
申请日：2018-05-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·B·珍宁科 , V·沃罗尼纳 , T·朱兹海妮娜 , B·彼得森 , J·A·C·M·皮耶宁堡
IPC: G03F9/00 , H01L23/544
Abstract: 本发明涉及一种用于显露由层覆盖的衬底上的传感器目标的方法，所述方法包括以下步骤：确定所述衬底上的具有良率目标部分的第一区域的部位和所述衬底上的具有非良率目标部分的第二区域的部位；至少部分去除覆盖所述第二区域中的特征的所述层的特征区以显露出所述第二区域中的特征；测量所述第二区域中的被显露出的传感器特征的部位；基于所述第二区域中的被显露出的传感器特征的被测量的部位确定所述第一区域中的传感器目标的部位；和使用所述第一区域中的传感器目标的被确定的部位至少部分去除覆盖所述第一区域中的所述传感器目标的所述层的传感器目标区。
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公开(公告)号：CN108701576A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082561.8
申请日：2016-12-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·卡斯川普 , J·C·H·缪尔肯斯 , M·A·范登布林克 , 约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普 , E·P·斯马克曼 , T·朱兹海妮娜 , C·A·维索尔伦
IPC: H01J37/065 , H01J37/15
CPC classification number: H01J37/263 , H01J37/023 , H01J37/15 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/0245 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明公开了一种电子束检查设备，该设备包括：多个电子束柱(600)，每个电子束柱配置成提供电子束且检测来自物体的散射电子或二次电子；和致动器系统(600，610)，其配置成使所述电子束柱中的一个或更多个相对于所述电子束柱中的另外的一个或更多个移动(640，630)。所述致动器系统可包括多个第一可移动结构，所述多个第一可移动结构与多个第二可移动结构至少部分地重叠，所述第一可移动结构和所述第二可移动结构支撑所述多个电子束柱。
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公开(公告)号：CN108351586A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680064044.8
申请日：2016-08-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： Z·S·豪厄林 , E·W·F·卡西米里 , T·朱兹海妮娜 , 保罗·詹森 , M·A·J·库伊肯 , M·H·A·里恩德尔斯 , S·奥斯特霍夫 , 玛丽亚·皮特 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森
IPC: G03F1/62
CPC classification number: G03F1/62 , G03F7/70983
Abstract: 一种用于制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区和围绕所述内部区的边框区；将所述叠层定位于支撑件上，使得曝光所述平坦衬底的所述内部区；和使用非液体蚀刻剂来选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区，使得所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边框，所述边框由所述平坦衬底的所述边框区形成。
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公开(公告)号：CN104995715A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480008683.3
申请日：2014-01-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , H01L21/033 , H01L21/308 , H01L29/66
CPC classification number: H01L21/3086 , B82Y10/00 , G03F1/50 , G03F1/80 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , H01L21/0337 , H01L29/0673 , H01L29/66439 , H01L29/66795 , H01L29/775 , H01L29/785
Abstract: 一种形成多个规律地间隔的光刻特征的方法，所述方法包括：在衬底上的多个沟道中提供能够自组装的嵌段共聚物，所述嵌段共聚物具有第一嵌段和第二嵌段，每个沟道包括相对的侧壁和基部，所述侧壁具有侧壁间的宽度，其中第一沟道具有大于第二沟道的宽度；使能够自组装的嵌段共聚物在每个沟道中自组装成有序层，所述层具有与第二嵌段的第二域交替的第一嵌段的第一域，其中所述第一沟道和第二沟道具有相同数量的每种相应的域；以及选择性地移除第一域，以沿着每个沟道形成具有第二区域的规律地间隔的成行的光刻特征，其中，在第一沟道中的特征的节距大于在第二沟道中特征的节距。
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公开(公告)号：CN115244211A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202180018817.X
申请日：2021-02-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: C23C16/04 , C23C16/26 , C23C16/455 , C23C16/46 , C23C16/48 , C23C16/56 , C23C14/04 , H01L21/02 , G03F7/004 , G03F7/16 , G03F7/36
Abstract: 披露了用于形成材料的经图案化的层的方法和设备。在一个布置中，提供呈气态形式的沉积过程材料。通过引起气态沉积过程材料的冷凝或沉积，在衬底上形成所述沉积过程材料的层。照射沉积过程材料的所述层的选定部分以对所述选定部分中的所述沉积过程材料进行改性。
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公开(公告)号：CN108351586B
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN201680064044.8
申请日：2016-08-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： Z·S·豪厄林 , E·W·F·卡西米里 , T·朱兹海妮娜 , 保罗·詹森 , M·A·J·库伊肯 , M·H·A·里恩德尔斯 , S·奥斯特霍夫 , 玛丽亚·皮特 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森
IPC: G03F1/62
Abstract: 一种用于制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区和围绕所述内部区的边框区；将所述叠层定位于支撑件上，使得曝光所述平坦衬底的所述内部区；和使用非液体蚀刻剂来选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区，使得所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边框，所述边框由所述平坦衬底的所述边框区形成。
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公开(公告)号：CN104995715B
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201480008683.3
申请日：2014-01-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , H01L21/033 , H01L21/308 , H01L29/66
CPC classification number: H01L21/3086 , B82Y10/00 , G03F1/50 , G03F1/80 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , H01L21/0337 , H01L29/0673 , H01L29/66439 , H01L29/66795 , H01L29/775 , H01L29/785
Abstract: 一种形成多个规律地间隔的光刻特征的方法，所述方法包括：在衬底上的多个沟道中提供能够自组装的嵌段共聚物，所述嵌段共聚物具有第一嵌段和第二嵌段，每个沟道包括相对的侧壁和基部，所述侧壁具有侧壁间的宽度，其中第一沟道具有大于第二沟道的宽度；使能够自组装的嵌段共聚物在每个沟道中自组装成有序层，所述层具有与第二嵌段的第二域交替的第一嵌段的第一域，其中所述第一沟道和第二沟道具有相同数量的每种相应的域；以及选择性地移除第一域，以沿着每个沟道形成具有第二区域的规律地间隔的成行的光刻特征，其中，在第一沟道中的特征的节距大于在第二沟道中特征的节距。
