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公开(公告)号：CN114981943A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202180009531.5
申请日：2021-01-15
Applicant: ATIK株式会社 , ATONARP株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种用于稳定引入传感器的气流的系统，该系统包括传感器连接管和从传感器连接管开始分叉以便将部分气体排出而不是引入传感器的旁通管，且该系统相应地配置成每次在预定范围内都稳定地向传感器提供一部分内部气体，而不受处理室压力状态变化的影响。根据本发明，在用于半导体制造设备等的情况下，与连接到施加真空的处理室的传感器装置相连时，气流稳定系统可以在MS内部压力由于处理室的压力波动而突然发生变化时防止由于传感器装置分析值变化较大引起的分析值数据可靠性降低，提高了MS传感器装置的耐用性/寿命，降低了维修/保养的需求，从而减轻了管理负担。
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