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公开(公告)号:CN105803445A
公开(公告)日:2016-07-27
申请号:CN201510876031.8
申请日:2015-12-03
申请人: 日本表面化学株式会社
CPC分类号: C23C22/06 , C23C22/07 , C23C22/17 , C23C22/34 , C23C22/40 , C23C22/46 , C23C22/53 , C23C22/73 , C23C22/83 , C23C2222/10 , C23C22/82
摘要: 本发明提供不含钴化合物、耐蚀性和耐伤性优异、处理液的稳定性高、顾及环境问题等的三价铬黑色化学转化膜处理液,含三价铬的水溶性修饰处理液以及使用这些处理液的金属基材的处理方法。三价铬黑色化学转化膜处理液,所述处理液是用于金属基材表面的化学转化膜处理液,含有如下组分且不含钴化合物:三价铬化合物;两种或多于两种的有机酸或有机酸盐、或者一种或多于一种的有机硫化合物;以及硝酸根离子。
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公开(公告)号:CN105102689A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201480018943.5
申请日:2014-03-24
申请人: 日本表面化学株式会社
IPC分类号: C25D3/56
摘要: 本发明提供一种高镍镀浴,是弱酸性的镀浴,且即使在3A/dm2以上的电流密度下也可以稳定地获得镍的比例为11~19%(更优选为12~18%)的镀膜。本发明提供含有以下式表示的胺化合物的酸性锌镍合金电镀液。H2N-R1-R2(其中,R1为[(CH2)M-NH]L、或(CH2)N,R2为H、NH2、或R3,R3为碳数为1、2、3、4、或5的链烷醇基或烷氧基,L为2、3、4、或5,M为2、3、4、或5,N为3、4、或5)。
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公开(公告)号:CN109778295A
公开(公告)日:2019-05-21
申请号:CN201810931207.9
申请日:2018-08-15
申请人: 日本表面化学株式会社
IPC分类号: C25F3/16
摘要: 本发明提供一种实质上不含磷以及氮的电解抛光液。该电解抛光液是金属用电解抛光液,其中,至少含有以下(1)~(2)的成分:(1)选自无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐中的至少一种;(2)选自一元及多元醇中的至少一种,所述电解抛光液实质上不含氮以及磷,pH小于2。
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公开(公告)号:CN105803437B
公开(公告)日:2019-12-24
申请号:CN201510881507.7
申请日:2015-12-03
申请人: 日本表面化学株式会社
摘要: 本发明提供不含钴化合物、耐蚀性和耐伤性优异、处理液的稳定性高、同时顾及环境问题等的三价铬化学转化膜处理液以及使用该处理液的金属基材的处理方法。三价铬化学转化膜处理液,所述处理液是用于金属基材表面的化学转化膜处理液,含有如下组分且不含钴化合物:三价铬化合物;乳酸钛;除钴以外的一种或多于一种的过渡金属化合物;两种或多于两种的有机酸或有机酸盐;以及从氯离子、硝酸根离子和硫酸根离子中选择的至少一种离子。
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公开(公告)号:CN105102689B
公开(公告)日:2017-12-05
申请号:CN201480018943.5
申请日:2014-03-24
申请人: 日本表面化学株式会社
IPC分类号: C25D3/56
摘要: 本发明提供一种高镍镀浴,是弱酸性的镀浴,且即使在3A/dm2以上的电流密度下也可以稳定地获得镍的比例为11~19%(更优选为12~18%)的镀膜。本发明提供含有以下式表示的胺化合物的酸性锌镍合金电镀液。H2N-R1-R2(其中,R1为[(CH2)M-NH]L、或(CH2)N,R2为H、NH2、或R3,R3为碳数为1、2、3、4、或5的链烷醇基或烷氧基,L为2、3、4、或5,M为2、3、4、或5,N为3、4、或5)。
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公开(公告)号:CN105803437A
公开(公告)日:2016-07-27
申请号:CN201510881507.7
申请日:2015-12-03
申请人: 日本表面化学株式会社
摘要: 本发明提供不含钴化合物、耐蚀性和耐伤性优异、处理液的稳定性高、同时顾及环境问题等的三价铬化学转化膜处理液以及使用该处理液的金属基材的处理方法。三价铬化学转化膜处理液,所述处理液是用于金属基材表面的化学转化膜处理液,含有如下组分且不含钴化合物:三价铬化合物;乳酸钛;除钴以外的一种或多于一种的过渡金属化合物;两种或多于两种的有机酸或有机酸盐;以及从氯离子、硝酸根离子和硫酸根离子中选择的至少一种离子。
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