具有电磁波检测功能的晃眼防护装置

    公开(公告)号:CN101002705B

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200610170329.8

    申请日:2006-12-28

    发明人: 许文宁

    摘要: 本发明涉及具有电磁波检测功能的晃眼防护装置,为解决以往一字形形态在特定方向发生误操作的问题,由2个以上线圈组成电磁波探测装置,拓宽了纵向和横向的测定空间,从而能够准确探测电磁波。本发明特征是包括:光学检测装置、电磁波探测装置、电磁波检测装置、用户界面、主控制装置、以及透光控制装置;其中,光学检测装置检测焊接或切割作业中产生的弧光;电磁波探测装置通过2个以上线圈探测焊接或切割作业中产生的电磁波;电磁波检测装置将通过电磁波探测装置输入的共振信号与可变设定的基准值进行比较;用户界面包括选择或表示上述光学检测装置及电磁波检测装置中某一个的显示装置;主控制装置在光学检测装置检测到弧光时向电磁波检测装置发出电磁波检测装置启动信号,监测从电磁波检测装置输出后输入的电磁波信号变化,并输出监测结果;透光控制装置根据主控制装置的输出信号控制晃眼防护板的透光率。

    具有电磁波检测功能的晃眼防护装置

    公开(公告)号:CN101002705A

    公开(公告)日:2007-07-25

    申请号:CN200610170329.8

    申请日:2006-12-28

    发明人: 许文宁

    摘要: 本发明涉及具有电磁波检测功能的晃眼防护装置,为解决以往一字形形态在特定方向发生误操作的问题,由2个以上线圈组成电磁波探测装置,拓宽了纵向和横向的测定空间,从而能够准确探测电磁波。本发明特征是包括:光学检测装置、电磁波探测装置、电磁波检测装置、用户界面、主控制装置、以及透光控制装置;其中,光学检测装置检测焊接或切割作业中产生的弧光;电磁波探测装置通过2个以上线圈探测焊接或切割作业中产生的电磁波;电磁波检测装置将通过电磁波探测装置输入的共振信号与可变设定的基准值进行比较;用户界面包括选择或表示上述光学检测装置及电磁波检测装置中某一个的显示装置;主控制装置在光学检测装置检测到弧光时向电磁波检测装置发出电磁波检测装置启动信号,监测从电磁波检测装置输出后输入的电磁波信号变化,并输出监测结果;透光控制装置根据主控制装置的输出信号控制晃眼防护板的透光率。

    一种光固化快速成型设备的激光功率在线检测与控制方法

    公开(公告)号:CN1994725A

    公开(公告)日:2007-07-11

    申请号:CN200610104988.1

    申请日:2006-11-28

    IPC分类号: B29C67/00 G02B26/02 G02F1/35

    摘要: 本发明公开了一种光固化快速成型设备的激光功率在线检测与控制方法,其特征在于,该方法在快速成型设备的激光器与振镜扫描头之间设置一个光衰减片,该光衰减片由直流可逆电动机带动,在树脂槽上设有一个光敏传感器,用于适时在线检测激光器的激光功率;激光器发出的光束经由光路系统投射至光衰减片,再进入振镜扫描头照射到树脂槽工作平面上,并由光敏传感器检测激光功率,检测后的功率信号被转换成电信号,经由控制器比例积分控制后与预设值相比较,控制功率驱动电路发出驱动电流,驱动直流可逆电动机定量转动,控制调节衰减片的角度,保证激光器的输出功率的恒定。克服了传统采用人工监视调节的缺点,提高了测量精度和自动化程度。

    曝光装置的照度不匀度的测定方法和修正方法

    公开(公告)号:CN1396494A

    公开(公告)日:2003-02-12

    申请号:CN02121807.2

    申请日:2002-04-26

    IPC分类号: G03F7/20 H01L21/027

    摘要: 一种曝光装置的照度不匀度的测定方法,向光掩膜照射从照明光学系统射出的照明光,对于通过投影光学系统而在感光衬底上的有限区域内投影并曝光通过该光掩膜的光的曝光装置,进行所述投影光学系统引起的、在所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度的测定,其特征在于,包括:按在所述感光衬底上的有限区域内的多个成像点的每一个,计算从所述光掩膜的一点射出并到达成像点的光线的、在所述投影光学系统的透射率的平均值,根据按所述成像点求出的透射率的平均值,算出所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度。

    光投影装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103502721B

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:CN201280020880.8

    申请日:2012-04-20

    摘要: 提供一种能够仅对物体照射光的光投影装置。具备:光投影部(1),其将物体(11)和该物体(11)的背面设为可投影范围;影区域检测部(2),其对由于投影光(L1)而在物体(11)的背面产生的影进行检测;以及控制部(3),其校正影区域(13)使得光投影部(1)的投影区域与影区域(13)在物体(11)的背面上一致,将校正后的影区域(13)设定为光投影范围,将该影区域(13)以外的区域设定为非光投影范围,设定对所设定的光投影范围投影的投影光(L1),其中,光投影部(1)对所设定的光投影范围投影所设定的投影光,由此对物体(11)所存在的范围投影投影光(L1)。

    光投影装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103502721A

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:CN201280020880.8

    申请日:2012-04-20

    摘要: 提供一种能够仅对物体照射光的光投影装置。具备:光投影部(1),其将物体(11)和该物体(11)的背面设为可投影范围;影区域检测部(2),其对由于投影光(L1)而在物体(11)的背面产生的影进行检测;以及控制部(3),其校正影区域(13)使得光投影部(1)的投影区域与影区域(13)在物体(11)的背面上一致,将校正后的影区域(13)设定为光投影范围,将该影区域(13)以外的区域设定为非光投影范围,设定对所设定的光投影范围投影的投影光(L1),其中,光投影部(1)对所设定的光投影范围投影所设定的投影光,由此对物体(11)所存在的范围投影投影光(L1)。

    显示屏角度调整系统及方法

    公开(公告)号:CN102024384A

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:CN200910307493.2

    申请日:2009-09-23

    发明人: 汪卓浩

    IPC分类号: G09F9/00 G01J1/42

    CPC分类号: G01J1/26 G01J1/4204

    摘要: 一种显示屏角度调整系统,包括若干传感器及与若干传感器及显示屏相连的一调整装置,若干传感器分别侦测显示屏的周围对应的若干方向的光源强度,并将显示屏周围若干方向的光源强度发送给调整装置,调整装置包括一计算模块,用于将光源强度相加并求取光源强度的平均值;一比较模块,用于比较若干方向的光源强度是否大于平均值及一预设值,若是,则计算出将某一或某些方向提高角度的度数;及一控制模块,用于控制显示屏的某方向提高相应的角度。本发明还提供了一种显示屏角度调整方法。本发明显示屏角度调整系统及方法可自动地调整显示屏的倾斜视角。

    曝光装置的照度不匀度的测定方法和修正方法

    公开(公告)号:CN100397404C

    公开(公告)日:2008-06-25

    申请号:CN02121807.2

    申请日:2002-04-26

    摘要: 一种曝光装置的照度不匀度的测定方法,向光掩膜照射从照明光学系统射出的照明光,对于通过投影光学系统而在感光衬底上的有限区域内投影并曝光通过该光掩膜的光的曝光装置,进行所述投影光学系统引起的、在所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度的测定,其特征在于,包括:按在所述感光衬底上的有限区域内的多个成像点的每一个,计算从所述光掩膜的一点射出并到达成像点的光线的、在所述投影光学系统的透射率的平均值,根据按所述成像点求出的透射率的平均值,算出所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度。