反射镜,包含这种反射镜的投射物镜,以及包含这种投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备

    公开(公告)号:CN103229248B

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201180056893.6

    申请日:2011-09-13

    Abstract: 本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’),其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%,以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’),其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成,其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层,该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’),其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外,本发明涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B),用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm rms HSFR,和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%,及/或作为阻挡层,用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。

    尤其用于微光刻投影曝光设备的镜子

    公开(公告)号:CN105518532A

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201480049179.8

    申请日:2014-06-25

    Inventor: M.赫尔曼

    Abstract: 本发明涉及一种镜子,尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44);其中在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43),其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出。

    一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法

    公开(公告)号:CN105441892A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201511026931.X

    申请日:2015-12-31

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法,包括以下步骤:1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底,该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下;2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体;3)开启直流磁控溅射电源,执行钯靶材和钇靶材的预溅射;4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域,控制样品架的停留时间或运动速度,完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比,本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高,该方法工艺重复性好,可控性强,在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。

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