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公开(公告)号：CN106338887A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201610836221.1
申请日：2016-09-20
Applicant: 深圳市容大感光科技股份有限公司
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0041
Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包含：(A)20-75重量％的可碱水溶性光固化树脂，(B)3-20重量％的功能性单体，(C)3-14重量％的环氧树脂，(D)2-10重量％的光引发剂，(E)15-30重量％的填料，(F)4-25重量％的溶剂，和(G)1-10重量％的添加剂，其中，各组分重量百分比均基于组合物的总重量计，且各组分重量百分比之和为100重量％；本发明还涉及所述的光致抗蚀剂组合物用于图案蚀刻的用途。所述光致抗蚀剂组合物可耐强碱性蚀刻且满足厚层蚀刻工艺要求。
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公开(公告)号：CN107523829A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201710303452.0
申请日：2017-05-02
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: C23F1/02 , B32B37/10 , B32B38/10 , C23F1/18 , C23F1/28 , G03F7/0035 , G03F7/0041 , G03F7/095 , G03F7/2002 , G03F7/40 , F16H55/17
Abstract: 本发明提供金属部件的制造方法以及电子设备的制造方法，该金属部件的制造方法能够实现角部的精密加工，使齿轮等的齿顶的曲率半径比以往小。该金属部件的制造方法包含如下工序：工序(a)，在金属膜上形成掩模用膜，在俯视时，该掩模用膜具有第1边、第2边和从第1边与第2边之间的区域延伸出的延伸部；以及工序(b)，通过对金属膜进行蚀刻，形成角部，在俯视时，该角部具有第3边和第4边。
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公开(公告)号：CN105175315A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201510547622.0
申请日：2010-03-17
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: C07D211/94 , C07D491/113 , G03F7/00 , G03F7/031 , G03F7/40 , G03F7/004 , G03F7/027
CPC classification number: G03F7/028 , C07D211/94 , C07D491/113 , C08F110/02 , C08F110/06 , C08F265/02 , C08K5/3435 , G03F7/0007 , G03F7/031 , G03F7/40 , C08L33/06 , G03F7/0041 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及一种用于制造滤色片的含羟胺酯的可自由基聚合组合物。本发明进一步涉及一种新颖羟胺酯。本发明进一步涉及羟胺酯在所有需要后烘烤的液晶显示器组件中的用途。本发明涉及一种可自由基聚合组合物，其包含：(a)至少一种可碱显影树脂；(b)至少一种丙烯酸酯单体；(c)至少一种光引发剂；(d)至少一种式I的羟胺酯化合物；其中Ra表示酰基；Rb和Rc中的一个表示氢且另一个表示取代基；或者Rb和Rc二者各自表示氢或者相同或不同的取代基；或者Rb和Rc一起表示氧；或者Rb和Rc一起形成环；R1-R4各自表示C1-C6烷基；且R5和R6各自彼此独立地表示氢、C1-C6烷基或C6-C10芳基；或者R5和R6一起表示氧。
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公开(公告)号：CN101681109A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880018454.4
申请日：2008-05-20
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: G03F7/0041 , G03F7/0045 , H01L31/1888 , Y02E10/50 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供了一种制品，所述制品包括基底，所述基底包括可酸蚀刻层、水溶性聚合物基质和光酸产生剂。本发明还提供了一种图案化的方法，所述方法可提供可用于形成电活性器件的图案化层。
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公开(公告)号：CN103827750B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201280044672.1
申请日：2012-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0041 , C08F12/20 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F212/32 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/2059 , G03F7/325 , H01J37/3174
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法以下列顺序包括：步骤(1)：用电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物形成膜，所述电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物含有树脂(A)、化合物(B)和溶剂(C)，所述树脂(A)具有酸分解性重复单元并且能够通过酸的作用降低所述树脂(A)在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，所述化合物(B)能够在用电子束或极紫外线辐射照射时产生酸；步骤(2)：用电子束或极紫外线辐射将所述膜曝光；和步骤(4)：在所述膜的曝光之后通过用包含有机溶剂的显影液将所述膜显影而形成阴图型图案，其中基于所述组合物的全部固体含量，所述化合物(B)的含量是21质量％至70质量％。
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公开(公告)号：CN106046696A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201510919487.8
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08G73/0672 , G03F7/0041 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L51/0018
Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。
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公开(公告)号：CN105261569A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201510557280.0
申请日：2015-09-02
Applicant: 业成光电(深圳)有限公司 , 英特盛科技股份有限公司
IPC: H01L21/48
CPC classification number: H01B19/04 , C03C15/00 , C09K13/04 , C09K13/08 , G03F7/0041 , H01B3/088 , H01L21/4803
Abstract: 本发明涉及一种用于电子装置的绝缘基板的盲孔的制造方法。该制造方法包含以下步骤：形成图案化光阻层于绝缘基板上。图案化光阻层具有开口，且开口暴露一部份绝缘基板。进行湿蚀刻制程，以移除暴露的绝缘基板，且于开口内形成盲孔。该制造方法可明显改善蚀刻液的侧蚀现象及降低盲孔边缘的残留宽度，进而提升利用湿蚀刻法形成盲孔的精密程度。
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公开(公告)号：CN103121951A
公开(公告)日：2013-05-29
申请号：CN201210597635.5
申请日：2012-11-05
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07C67/11 , C07C69/67 , G03F7/09 , C08F220/32 , C08F220/28 , C08F220/18 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0041 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 单体，聚合物和光致抗蚀剂组合物。提供了一种以下通式(I)的单体，其中：R1表示氢或甲基
