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公开(公告)号:CN1301923A
公开(公告)日:2001-07-04
申请号:CN00131087.9
申请日:2000-12-23
申请人: LG电子株式会社
IPC分类号: F04C18/02
CPC分类号: F04C18/0269
摘要: 一种非对称涡旋压缩机,包括公转涡盘、十字环以及固定涡盘,与公转涡盘的卷状物相比,固定涡盘的卷状物沿渐开曲线延伸的方向在180°的范围内进一步延伸。公转涡盘卷状物的基圆中心的位置区域是:当沿一条把当前公转涡盘卷状物的基圆中心与其外端连接起来的直线测量时,该区域在圆周上处于当前公转涡盘卷状物延伸方向的30°和该卷状物卷绕方向的60°之间,而在径向上该区域处于公转涡盘卷状物的公转半径的0.1至0.5倍之间。
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公开(公告)号:CN1178004C
公开(公告)日:2004-12-01
申请号:CN00131087.9
申请日:2000-12-23
申请人: LG电子株式会社
IPC分类号: F04C18/02
CPC分类号: F04C18/0269
摘要: 一种非对称涡旋压缩机,包括公转涡旋件、十字环以及固定涡旋件,与公转涡旋件的涡卷相比,固定涡旋件的涡卷沿渐开曲线延伸的方向在180°的范围内进一步延伸。公转涡旋件涡卷的基圆中心的位置区域是:当沿一条把当前公转涡旋件涡卷的基圆中心与其外端连接起来的直线测量时,该区域在圆周上处于当前公转涡旋件涡卷延伸方向的30°和该涡卷卷绕方向的60°之间,而在径向上该区域处于公转涡旋件涡卷的公转半径的0.1至0.5倍之间。
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公开(公告)号:CN1598318A
公开(公告)日:2005-03-23
申请号:CN200410084931.0
申请日:2000-12-23
申请人: LG电子株式会社
IPC分类号: F04C18/02
CPC分类号: F04C18/0269
摘要: 一种非对称涡旋压缩机,包括公转涡盘、十字环以及固定涡盘,与公转涡盘的卷状物相比,固定涡盘的卷状物沿渐开曲线延伸的方向在180°的范围内进一步延伸。公转涡盘卷状物的基圆中心的位置区域是:当沿一条把当前公转涡盘卷状物的基圆中心与其外端连接起来的直线测量时,该区域在圆周上处于当前公转涡盘卷状物延伸方向的30°和该卷状物卷绕方向的60°之间,而在径向上该区域处于公转涡盘卷状物的公转半径的0.1至0.5倍之间。
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公开(公告)号:CN1598317A
公开(公告)日:2005-03-23
申请号:CN200410084930.6
申请日:2000-12-23
申请人: LG电子株式会社
IPC分类号: F04C18/02
CPC分类号: F04C18/0269
摘要: 一种非对称涡旋压缩机,包括公转涡盘、十字环以及固定涡盘,与公转涡盘的卷状物相比,固定涡盘的卷状物沿渐开曲线延伸的方向在180°的范围内进一步延伸。公转涡盘卷状物的基圆中心的位置区域是:当沿一条把当前公转涡盘卷状物的基圆中心与其外端连接起来的直线测量时,该区域在圆周上处于当前公转涡盘卷状物延伸方向的30°和该卷状物卷绕方向的60°之间,而在径向上该区域处于公转涡盘卷状物的公转半径的0.1至0.5倍之间。
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公开(公告)号:CN100366907C
公开(公告)日:2008-02-06
申请号:CN200410084930.6
申请日:2000-12-23
申请人: LG电子株式会社
IPC分类号: F04C18/02
CPC分类号: F04C18/0269
摘要: 一种非对称涡旋压缩机,包括公转涡旋件、十字环以及固定涡旋件,与公转涡旋件的涡卷相比,固定涡旋件的涡卷沿渐开曲线延伸的方向在180°的范围内进一步延伸。公转涡旋件涡卷的基圆中心的位置区域是:当沿一条把当前公转涡旋件涡卷的基圆中心与其外端连接起来的直线测量时,该区域在圆周上处于当前公转涡旋件涡卷延伸方向的30°和该涡卷卷绕方向的60°之间,而在径向上该区域处于公转涡旋件涡卷的公转半径的0.1至0.5倍之间。
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公开(公告)号:CN1311164C
公开(公告)日:2007-04-18
申请号:CN200410084931.0
申请日:2000-12-23
申请人: LG电子株式会社
IPC分类号: F04C18/02
CPC分类号: F04C18/0269
摘要: 一种非对称涡旋压缩机,包括公转涡盘、十字环以及固定涡盘,与公转涡盘的卷状物相比,固定涡盘的卷状物沿渐开曲线延伸的方向在180°的范围内进一步延伸。公转涡盘卷状物的基圆中心的位置区域是:当沿一条把当前公转涡盘卷状物的基圆中心与其外端连接起来的直线测量时,该区域在圆周上处于当前公转涡盘卷状物延伸方向的30°和该卷状物卷绕方向的60°之间,而在径向上该区域处于公转涡盘卷状物的公转半径的0.1至0.5倍之间。
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