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1.发明公开
公开(公告)号：EP4293411A2
公开(公告)日：2023-12-20
申请号：EP23201834.1
申请日：2019-09-09
申请人： Rodenstock GmbH
IPC分类号： G02B27/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element (100), umfassend ein Substrat (20) und ein interferometrisch reflexminderndes Schichtsystem (10) auf einer Oberfläche (22) des Substrats (20). Das Schichtsystem (10) umfasst einen Stapel von mindestens vier aufeinanderfolgenden Schichtpaketen (42, 44, 46, 48). Jedes Schichtpaket (42, 44, 46, 48) umfasst eine erste Teilschicht (60) mit einer ersten optischen Dicke und eine zweite Teilschicht (62) mit einer zweiten optischen Dicke. Ein Brechungsindex der jeweils substratnäheren Teilschicht (60) ist größer als ein Brechungsindex der jeweils substratferneren Teilschicht (62). Das Schichtsystem (10) weist eine Helligkeit, eine Buntheit und einen Bunttonwinkel einer Restreflexfarbe auf. Der Betrag einer relativen Änderung des Bunttonwinkels in einem Intervall eines Betrachtungswinkels mit den Grenzwerten 0° und 30° bezogen auf eine Oberflächennormale (70) auf das Schichtsystem (10) ist kleiner als der Betrag einer relativen Änderung der Buntheit C* im Intervall des Betrachtungswinkels. Der skotopische Reflexionsgrad im Intervall des Betrachtungswinkels ist höchstens 1,5%.
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公开(公告)号：EP1952089A1
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：EP06818536.2
申请日：2006-11-14
申请人： Rodenstock GmbH
IPC分类号： G01B7/16
CPC分类号： G01B7/16 , G01L5/0047
摘要： The present invention relates to a method and an apparatus for determining mechanical stresses in a coating of a substrate (12, 12'). In this case, the method comprises the steps of: arranging the substrate (12) on at least one holder (10) and on at least one actuating element (14) which can be at least partially moved relative to the holder (10), wherein the actuating element (14) comprises a piezoelectric actuator (16), using the actuating element (14) to mechanically prestress the substrate (12, 12') by applying an electrical starting voltage (V0) to the piezoelectric actuator (16) in such a manner that the piezoelectric actuator (16) causes the actuating element (14) to be partially deflected by a predetermined or determinable starting deflection (L0) relative to the holder (10); applying at least part of the coating to at least one deposition area (13') of the substrate (12'); determining a change (ΔL) in the deflection of the actuating element (14) using a sensor element (20).
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5.发明公开
公开(公告)号：EP4293411A3
公开(公告)日：2024-03-13
申请号：EP23201834.1
申请日：2019-09-09
申请人： Rodenstock GmbH
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element (100), umfassend ein Substrat (20) und ein interferometrisch reflexminderndes Schichtsystem (10) auf einer Oberfläche (22) des Substrats (20). Das Schichtsystem (10) umfasst einen Stapel von mindestens vier aufeinanderfolgenden Schichtpaketen (42, 44, 46, 48). Jedes Schichtpaket (42, 44, 46, 48) umfasst eine erste Teilschicht (60) mit einer ersten optischen Dicke und eine zweite Teilschicht (62) mit einer zweiten optischen Dicke. Ein Brechungsindex der jeweils substratnäheren Teilschicht (60) ist größer als ein Brechungsindex der jeweils substratferneren Teilschicht (62). Das Schichtsystem (10) weist eine Helligkeit, eine Buntheit und einen Bunttonwinkel einer Restreflexfarbe auf. Der Betrag einer relativen Änderung des Bunttonwinkels in einem Intervall eines Betrachtungswinkels mit den Grenzwerten 0° und 30° bezogen auf eine Oberflächennormale (70) auf das Schichtsystem (10) ist kleiner als der Betrag einer relativen Änderung der Buntheit C* im Intervall des Betrachtungswinkels. Der skotopische Reflexionsgrad im Intervall des Betrachtungswinkels ist höchstens 1,5%.
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8.发明公开
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公开(公告)号：EP3657222A1
公开(公告)日：2020-05-27
申请号：EP19215119.9
申请日：2015-10-19
申请人： Rodenstock GmbH
摘要： Die Erfindung betrifft eine interferometische Schichtsystem-Plattform für optische Elemente (100) mit einem interferometrischen Schichtsystem (100), mit wenigstens einem Stapel (14) von aufeinander folgenden Schichtpaketen (20, 22, 24, 26, 28), wobei jedes Schichtpaket (20, 22, 24, 26, 28) eine erste Teilschicht (30) mit einer ersten optischen Dicke (t1) und eine zweite Teilschicht (32) mit einer zweiten, von der ersten optischen Dicke (t1) verschiedenen optischen Dicke (t2) umfasst. Dabei weist das Schichtpaket (20, 22, 24, 26, 28) optische Eigenschaften auf, die abhängig von einem Parameter (σ) vorgegeben sind, der eine Funktion eines Verhältnisses von Quotienten (v i ) der optischen Dicke (t1) jeweils einer höherbrechenden Teilschicht (30) und der optischen Dicke (t2) einer niedrigerbrechenden Teilschicht (32) des Schichtpakets (20, 22, 24, 26, 28) ist, wobei der Index i die Reihenfolge der aufeinander folgenden Schichtpakete (20, 22, 24, 26, 28) im Stapel (14) bezeichnet.
Das Produkt aus einer Reflektivität (Rm) des Stapels (14) von Schichtpaketen (20, 22, 24, 26, 28) und dem Parameter (σ) ist kleiner als 1 bei einer Entspiegelung und/oder antireflektierenden Wirkung des Stapels (14) von Schichtpaketen (20, 22, 24, 26, 28), oder größer oder gleich 1 für eine Verspiegelung.
Die Erfindung betrifft ferner ein optisches Element (100) mit einem solchen Schichtsystem (10).-
公开(公告)号：EP3243091A1
公开(公告)日：2017-11-15
申请号：EP15784019.0
申请日：2015-10-19
申请人： Rodenstock GmbH
摘要： The invention relates to a layer system (10) comprising at least one stack (14) of successive multilayers (20, 22, 24, 26, 28), wherein each multilayer (20, 22, 24, 26, 28) comprises a first partial layer (30) with a first optical thickness (t1) and a second partial layer (32) with a second optical thickness (t2) that is different from the first optical thickness (t1). The multilayer (20, 22, 24, 26, 28) has optical characteristics that are specified depending on a parameter (σ) which is a function of a ratio of quotients (v
i ) of the optical thickness (t1) of a partial layer (30) with higher refractive characteristics and the optical thickness (t2) of a partial layer (32) with lower refractive characteristics of the respective multilayers (20, 22, 24, 26, 28), wherein the index i denotes the order of the successive multilayers (20, 22, 24, 26, 28) in the stack (14). The product of a reflectivity (Rm) of the stack (14) of multilayers (20, 22, 24, 26, 28) and the parameter (σ) is less than for an anti-reflection and/or anti-glare action of the stack (14) of multilayers (20, 22, 24, 26, 28), or is greater than or equal to 1 for a mirroring. The invention also relates to an optical element (100) comprising such a layer system (10) and to a method for producing such a layer system (10).
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