摘要:
ß-Ketophosphonsäure gemäß der allgemeinen Formel I:
in der A = ein aliphatischer C 1 -C 18 -Rest ist, der durch -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-O- unterbrochen sein kann; n = 1, 2, 3 oder 4 ist; m = 1 oder 2 ist; X = entfällt oder ein C 1 -C 10 -Rest ist, der durch -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-NH- oder -CO-NR 1 - unterbrochen sein kann, wobei R 1 H oder C 1 -C 7 -Alkyl ist; und PG = eine radikalisch polymerisierbare Gruppe ist. Die ß-Ketophosphonsäuren eigenen sich insbesondere zur Herstellung von Dentalwerkstoffen.
摘要翻译:SS-Ketophosphonsäure根据通式I:其中A =是脂族C1-C18基团,其可通过中断-O - , - S - , - CO-O-,-O-CO-O-; n = 1,2,3或4; m = 1或2; X =不存在或为C 1 -C 10基团,其可通过中断-O - , - S - , - CO-O-,-O-CO-NH-或-CO-NR1,其中R1是H或C1 -C 7烷基; PG =自由基聚合性基团。 β-酮基膦酸特别适用于生产牙科材料。
摘要:
Die Erfindung betrifft ein radikalisch polymerisierbares Monomer der Formel (I)
Die Erfindung betrifft auch polymerisierbare Zusammensetzungen, die die erfindungsgemäßen Monomere enthalten, sowie deren Verwendung als Dentalmaterialien und zur Herstellung von Dentalwerkstoffen, insbesondere Kompositen, Zementen, Adhäsiven oder Beschichtungen.
摘要:
Novel acrylic phosphonic acid compounds are claimed Acrylic phosphonic acid compounds (I) of formula (1) are claimed. Independent claims are included for: (i) a dental material containing the acrylic phosphonic acid (I) and (ii) polymers and copolymers prepared by (co)polymerization of the acrylic phosphonic acid (I). R = 1-10C alkylene or 6-14 C alkylene; R = H, 1-10C alkyl or 6-10C aryl; Y = oxygen, sulfur, 1-8C alkylene or is missing; n = 1-5; X = CN when 1 is 1 and Z is missing; X = CONR with R equal to H, 1-10C alkyl or 6-10C aryl whereby when n is 1, Z is H or 1-10C alkyl or phenyl and when n=2-5, Z is an aliphatic, aromatic or araliphatic 1-14C hydrocarbon whereby Z and R may form part of an overall ring
摘要:
Dentalmaterial enthaltend einen Cluster gemäß der allgemeinen Formel [(M 1 ) a (M 2 ) b O c (OH) d (OR) e (L-Sp-Z) f ] (I), in der M 1 , M 2 unabhängig voneinander jeweils für ein Metallatom der III. oder V. Hauptgruppe oder der I. bis VIII. Nebengruppe des Periodensystems der Elemente stehen; R eine Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist; L eine koordinierende Gruppe mit 2 bis 6 komplexierenden Zentren ist; Sp eine Spacergruppe ist oder entfällt; Z eine polymerisationsfähige Gruppe ist; a eine Zahl von 1 bis 20 ist; b eine Zahl von 0 bis 10 ist; c eine Zahl von 1 bis 30 ist; d, e unabhängig voneinander jeweils eine Zahl von 0 bis 30 sind; f eine Zah1 von 2 bis 30 ist, wobei eine eventuell vorhandene Ladung des Clusters (I) durch Gegenionen ausgeglichen wird.
摘要:
Hydrolysestabile und polymerisierbare Acrylphosphonsäure mit der allgemeinen Formel (I) die sich besonders als Bestandteil von Dentalmaterialien eignet.
摘要翻译:要求新的丙烯酸膦酸化合物要求保护式(1)的丙烯酸膦酸化合物(I)。 包括:(i)包含丙烯酸膦酸(I)的牙科材料和(ii)通过丙烯酸膦酸(I)的(共)聚合制备的聚合物和共聚物。 R 1 = 1-10C亚烷基或6-14个C亚烷基; R 2 = H,1-10C烷基或6-10C芳基; Y =氧,硫,1-8C亚烷基或缺失; n = 1-5; X = CN,当1为1且Z为缺失时; X = CONR 3,其中R 3等于H,1-10C烷基或6-10C芳基,因此当n为1时,Z为H或1-10C烷基或苯基,当n = 2-5时,Z为 脂族,芳族或芳脂族1-14C烃,由此Z和R 3可以形成整个环的一部分
摘要:
Radikalisch polymerisierbarer Dentalwerkstoff, der (a) mindestens ein polyfunktionelles radikalisch polymerisierbares Monomer, (b) mindestens ein weiteres radikalisch polymerisierbares Monomer, das mono- oder polyfunktionell sein kann, (c) mindestens einen Photoinitiator für die radikalische Polymerisation und (d) mindestens einen Füllstoff enthält. Der Werkstoff ist dadurch gekennzeichnet, dass die Mischung der Monomere (a) und (b) einen Brechungsindex von 1,50 bis 1,70 aufweist und dass der Brechungsindex der Monomermischung vor der Härtung dem Brechungsindex des verwendeten Füllstoffs entspricht oder um bis zu 0,013 größer ist und nach der Härtung um mindestens 0,02 größer als der Brechungsindex des Füllstoffs ist.
摘要:
Radikalisch polymerisierbarer Dentalwerkstoff der mindestens eine Verbindung der Formel I enthält:
Der Werkstoff enthält vorzugsweise zusätzlich ein radikalisch polymerisierbares Monomer, einen Initiator für die radikalische Polymerisation und Füllstoff. Er zeichnet sich durch eine geringe Polymerisationskontraktionsspannung aus.