摘要:
A magnetic molecular mixture containing at least one kind of ferromagnetic ion units and at least one kind of ferrimagnetic ion units, wherein the magnetic characteristics can be changed by controlling the ratio of the ion units, temperature and irradiation.
摘要:
Oxonitride mit Perowskitstruktur der allgemeinen Formel LnTaON₂, worin Ln für ein Seltenerdelement steht, sind bekannt und lassen sich durch Glühen eines Pulvergemischs aus einer Ta(V)verbindung und einer Ln-Verbindung in ammoniakhaltiger reduzierender Atmosphäre herstellen. Erfindungsgemäß lassen sich derartige Oxonitride mit erhöhter Farbbrillanz herstellen, indem das zu glühende Pulvergemisch zusätzlich einen Mineralisator aus der Reihe der Alkali- oder Erdalkalihalogenide, Na₃AlF₆, Na₂SiF₆, AlF₃ oder der Ammoniumsalze der Kohlensäure oder einer Mono- oder Dicarbonsäure mit 1 bis 4 C-Atomen in einer Menge von 0,1 bis 10 Gewichtsteilen, bezogen auf 1 Gewichtsteil des Gemischs aus der Ta- und Ln-Verbindung, enthält. Oxonitride der Formel LnTaON₂, insbesondere erfindungsgemäß hergestellte Oxonitride, lassen sich als gelborange bis rotbraune Farbpigmente verwenden.
摘要:
Un matériau céramique à base de Sialon, notamment de β'-Sialon est obtenu par réduction d'un précurseur aluminosilicaté par une phase gazeuse comprenant un mélange d'hydrogène et d'azote dopé par un composé carboné. Le composé carboné est un gaz contenant du carbone sous forme combinée, par exemple un alcane, et sa proportion en volume dans la phase gazeuse est inférieure à 3 %. Le procédé convient notamment pour former des revêtements à base de Sialon sur des substrats massifs ou fibreux. Pour des matériaux composites constitués d'une préforme fibreuse densifiée par une matrice, le procédé permet la formation d'un revêtement d'interphase sur les fibres de la préforme, avant densification de celle-ci, ou encore la formation d'une matrice à base de Sialon.
摘要:
One or more single crystals (4) having a composition xSiC.(1-x)AfN where x is 0.2 to 0.5, are formed epitaxially on a substrate (5) of Al z O 3 by heating sources of SiC (7) and AIN (8), disposed close to the substrate, at a temperature between 1900 and 2020°C in the presence of N 2 and H 2 directed to flow over the sources of SiC and AIN towards the substrate.
摘要翻译:通过SiC(7)和AlN(...)的加热源,在Al 2 O 3的基板(5)上外延地形成具有xSiC(1-x)A 1 N(1-x)A 1 N,其中x为0.2至0.5的一种或多种单晶(4) 8),在N2和H2的存在下在1900和2020℃之间的温度下靠近衬底放置,以便流过SiC和AlN源朝向衬底。