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    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats
    1.
    发明公开
    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats 有权
    装置用于照射衬底

    公开(公告)号：EP2192366A3

    公开(公告)日：2014-01-01

    申请号：EP09171971.6

    申请日：2009-10-01

    申请人： Uviterno AG

    发明人： Semanic, Asmir

    IPC分类号： F26B3/28 ,  F21V29/02

    CPC分类号： F26B3/28 ,  B41F23/0409 ,  B41F23/0453

    摘要： Eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen weist eine längliche UV-Lampe (3) mit Reflektor (4) entlang einer Längsachse (A) auf. Die Lampe (3) ist derart in einem Gehäuse (1) angeordnet, dass UV-Strahlen direkt oder indirekt an einer Austrittsseite aus dem Gehäuse (1) austreten. Es ist eine erste Kühlanordnung (7, 8, 13, 14) zum Kühlen der UV-Lampe (3) durch einen Kühlgasstrom vorgesehen und eine zweite Kühlanordnung (5, 5', 17) zum Kühlen des Kühlgasstromes mittels eines Fluids. Die Austrittsseite des Gehäuses (1) ist durch eine UV-durchlässige Platte (2) abgeschlossen. Zum Kühlen der UV-Lampe (3) sind nun mindestens zwei quer zur Längsachse (A) blasende Einheiten mit je einem Gebläse (8) vorgesehen, durch deren Luftführung die Kühlluft auf die UV-Lampe (3) leitbar, an den Wandungen des Reflektors (4) vorbei leitbar und schliesslich wieder dem Gebläse (8) zuführbar ist. Die zweite Kühlanordnung (5, 5', 17) weist Kühlflächen (13, 15) am Wege der Kühlluft auf und führt so die Wärme nach aussen ab.

    Bodenbehandlungsmaschine und Verfahren zum Behandeln von Bodenflächen
    4.
    发明公开
    Bodenbehandlungsmaschine und Verfahren zum Behandeln von Bodenflächen 有权
    Bodenbehandlungsmaschine und Verfahren zum Behandeln vonBodenflächen

    公开(公告)号：EP2752726A1

    公开(公告)日：2014-07-09

    申请号：EP13150493.8

    申请日：2013-01-08

    申请人： Cleanfix Reinigungssysteme AG

    发明人： LAMON, Pierre ,  TERRIEN, Grégoire ,  Jeannotat, Yannis ,  FLÜCK, Roland

    IPC分类号： G05D1/02 ,  A47L11/40

    CPC分类号： A47L11/4061 ,  A47L2201/04 ,  G05D1/0219 ,  G05D1/024 ,  G05D2201/0203

    摘要： Eine Bodenbehandlungsmaschine (1) zum Behandeln von Bodenflächen umfasst ein Gehäuse (2), zwei Antriebsräder (3), mindestens ein Stützrad (4), eine Antriebsvorrichtung (5), eine Steuerung (6), mindestens ein Scan-Sensor (8), der in einer im Wesentlichen horizontalen Ebene über einen vorgegebenen Winkelbereich Distanzmessungen durchführbar macht, und eine Bodenbehandlungseinrichtung (9), die eine Behandlung des Bodens erzielbar macht. Die Steuerung (6) weist einen Behandlungsmodus auf, der mit wenigen Fahr- und Speicherschritten ein einfaches und sicheres Wählen eines erfolgreichen Fahrweges garantiert. Die Berandung der Bodenfläche wird als Hindernis behandelt. Zum Festhalten der behandelten Fläche werden Anfangs- und Endpunkten von abgefahrenen Wegsegmenten und zu den Endpunkten einer der Zustände "vollständig behandelt" oder "unvollständig behandelt" sowie eine Richtungsinformation gespeichert.

    摘要翻译： 地板处理机（1）具有壳体（2），两个驱动轮（3），支撑轮（4），驱动单元和控制器，其中提供了一种处理模式，用于固定垂直于 通过以正反方向固定治疗方向，间隔治疗方向。 选择间隔，使得当在相邻的驱动线上沿相反方向行进时，驱动线之间的区域被处理区域正确地处理。 包括以下独立权利要求：（1）处理地板表面的方法; 和（2）用于执行处理地板表面的方法的计算机程序产品。

    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen
    6.
    发明公开
    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen 审中-公开
    装置，通过紫外线的照射装置的基板

    公开(公告)号：EP2031330A3

    公开(公告)日：2014-03-05

    申请号：EP08162491.8

    申请日：2008-08-18

    申请人： Uviterno AG

    发明人： Auerswald, Jerry ,  Semanic, Asmir ,  Richartz, Stefan ,  Huber, Reto

    IPC分类号： F26B3/28 ,  B41F23/04 ,  F21V29/02

    CPC分类号： F21V29/65 ,  B41F23/0453 ,  F26B3/28

    摘要： Eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen, weist eine UV-Lampe (9) und einen zugeordneten Reflektor (24) auf, welche derart in einem Gehäuse (2) angeordnet sind, dass UV-Strahlen direkt oder indirekt auf einer Austrittsseite (10) aus dem Gehäuse (2) austreten. Eine Kühleinrichtung (17, 21, 23) zum Kühlen der UV-Lampe (9), insbesondere unter Verwendung zweier Kühlfluide ([1], [2], 23) ist ebenfalls vorgesehen. Das Gehäuse (2) weist wenigstens einen Einlass (22) für ein von einem Förderer (21) zwangsläufig zur Strömung angetriebenes Kühlgas und wenigstens einen Auslass (20) dafür auf, so dass Kühlgas durch das Gehäuse (2) hindurchleitbar ist. Diese Vorrichtung zeichnet sich dadurch aus, dass
    a) der UV-Lampe (9) ein beweglicher Verschluss (12, 13) zugeordnet ist; dass
    b) der Verschluss (12, 13) mit einem Antrieb (14-16) versehen und mit dessen Hilfe um die Längsachse der UV-Lampe (9) entlang einer Rotationsbahn drehbar ist, und dass
    c) wenigstens ein Teil des Verschlusses (12, 13) mit Förderflügeln (17) für das Kühlgas versehen ist.

    Lüftungsschacht, Abdeckwand hierfür sowie Verfahren und Verwendung
    10.
    发明公开
    Lüftungsschacht, Abdeckwand hierfür sowie Verfahren und Verwendung 审中-公开
    通风井，盖板，这和方法和使用

    公开(公告)号：EP2586635A3

    公开(公告)日：2013-10-16

    申请号：EP12188812.7

    申请日：2012-10-17

    申请人： SCHLEGEL AG

    发明人： Saller, Maximilian

    IPC分类号： B60H1/34 ,  B60H1/00 ,  F24F13/02 ,  B61D27/00

    CPC分类号： B60H1/3407 ,  B60H1/00564 ,  B61D27/009 ,  F24F13/02 ,  F24F13/06 ,  F24F2013/0608

    摘要： Ein Lüftungsschacht (7) für Fahrzeuge, insbesondere Waggons, weist einen Schachthohlraum (8) dicht umgebende Schachtwände (9) sowie eine Abdeckwand (1a) auf, die mit Löchern (2) für den Durchtritt von Luft ausgestattet ist. An der Abdeckwand (1 a) ist im Schachthohlraum (8) mindestens ein Verstärkungsstreifen (3b) mit den Löchern (2) der Abdeckwand (1 a) entsprechenden Löchern (4) zur Bildung von Luftdüsen angeklebt. Der mindestens eine Verstärkungsstreifen (3b) ist im wesentlichen über die gesamte, der Abdeckwand (1 a) zugekehrte Fläche mittels einer Klebeschicht (5b) an dieser angeklebt, wobei der mindestens eine Verstärkungsstreifen (3b) aus flachem Kunststoff besteht.