公开(公告)号：JPWO2009123311A1

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：JP2010505998

申请日：2009-04-03

Applicant: 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 高志 土橋 ,  高志 土橋 ,  雅成 高口 ,  雅成 高口 ,  上村　理 ,  理 上村 ,  太田　洋也 ,  洋也 太田 ,  一寿 郷原 ,  一寿 郷原

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/22

CPC classification number: H01J37/222 ,  H01J37/26 ,  H01J37/295 ,  H01J2237/24578

Abstract: 本発明の荷電粒子線顕微装置は、既知の構造を持つ試料(22)に荷電粒子線を平行に照射して得られる回折像において、試料の構造を反映した回折像のスポット間距離(r)を測定して、回折角度(θ)に依存した試料と検出器間の距離(L)の変化を補正する。これにより、回折像において光軸からの離軸距離で変化する歪みを補正でき、回折像のスポット位置の正確な解析を行うことにより精度の高い構造解析が可能となった。

公开(公告)号：JP5106627B2

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：JP2010505998

申请日：2009-04-03

Applicant: 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 高志 土橋 ,  雅成 高口 ,  理 上村 ,  洋也 太田 ,  一寿 郷原

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/22

CPC classification number: H01J37/222 ,  H01J37/26 ,  H01J37/295 ,  H01J2237/24578