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公开(公告)号：JP6841767B2
公开(公告)日：2021-03-10
申请号：JP2017555140
申请日：2016-12-08
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C07C39/235
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公开(公告)号：JP2020189973A
公开(公告)日：2020-11-26
申请号：JP2020085312
申请日：2020-05-14
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C09D183/04 , C08L83/16 , C08G77/60
Abstract: 【課題】基板への密着性が良好であり基板から剥離しにくい塗布膜を形成可能な組成物を与える新規な含ケイ素ポリマーと、当該含ケイ素ポリマーを含む膜形成用組成物と、当該膜形成用組成物を用いる含ケイ素ポリマー被膜の形成方法と、当該膜形成用組成物を用いるシリカ系被膜の形成方法と、及び前述の含ケイ素ポリマーの製造方法とを提供すること。 【解決手段】分子鎖中にポリ又はオリゴシロキサン鎖と、ポリ又はオリゴシラン鎖との少なくとも一方を含む含ケイ素ポリマーにおいて、例えば、エンチオール反応によって、分子鎖上に、縮合反応し得るシリル基と、スルフィド基とを有する基を導入する。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6723698B2
公开(公告)日：2020-07-15
申请号：JP2015146227
申请日：2015-07-23
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C08L101/00 , C08K5/3445
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公开(公告)号：JP2020101771A
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：JP2018241733
申请日：2018-12-25
Applicant: 東京応化工業株式会社
Abstract: 【課題】基板表面への量子ドットの分散や、量子ドットを含む膜を形成するための組成物の調製に用いた場合に、所望する量子収率を示す、量子ドットを備える基板や量子ドットを含む膜を形成し得る、量子ドット分散液の製造方法と、当該方法により好適に製造され得る量子ドット分散液とを提供すること。 【解決手段】表面の材質としてカルコゲン化物を含む量子ドット(A)を用い、当該量子ドット(A)をカルコゲン元素を有する有機溶媒(B1)を含む分散媒(B)中に分散させて量子ドット分散液を製造する。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6630154B2
公开(公告)日：2020-01-15
申请号：JP2016005639
申请日：2016-01-14
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/033 , G02B5/20 , G03F7/20 , H05K3/28 , C08K5/3445 , C08L101/00 , G03F7/004
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：JP2019048992A
公开(公告)日：2019-03-28
申请号：JP2018202663
申请日：2018-10-29
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C08F216/12 , B32B27/18 , B32B27/30 , C09J133/00 , C09J165/00 , C09J4/02 , C09J11/06 , C08F2/44
Abstract: 【課題】光の透過率及び屈折率が高く、複屈折を生じない硬化物が得られる組成物、該組成物の硬化物、並びに、光透過性部材と該硬化物とを含む光透過性積層体の提供。 【解決手段】(A)下記一般式で表されるビニル基、アルコキシ基又は水酸基含有縮合三環性化合物、(B)透明性樹脂、(C)重合性モノマー、並びに、(D)重合開始剤を含有する組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6484055B2
公开(公告)日：2019-03-13
申请号：JP2015029033
申请日：2015-02-17
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/00 , C08F212/08 , C08G8/04 , C08G63/12 , C08L101/12 , G03F7/004
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公开(公告)号：JP6462876B2
公开(公告)日：2019-01-30
申请号：JP2017527506
申请日：2016-07-08
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C08K5/101 , C09D183/04 , C09D7/20 , C09D183/16 , C08L83/16 , C08L83/04
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