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公开(公告)号：JPWO2019050047A1
公开(公告)日：2020-10-29
申请号：JP2018033712
申请日：2018-09-11
Applicant: 明和化成株式会社
Inventor： 黒岩 貞昭
Abstract: 一般式(1)で示されるノボラック型フェノール樹脂(A)とアリーレン骨格及びナフタレン骨格のうち少なくとも一つを構造中に含むノボラック型フェノール樹脂(B)とを(A)と(B)との質量比が5〜95:95〜5となる量で含むことを特徴とするフォトレジスト用フェノール樹脂組成物である。 【化1】 (一般式(1)中、R 1 は、水素、又は炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基を表し、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、R 1 の少なくとも一つは炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基である。pは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。qは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、p+q≦4である。nは、0以上の整数を表す。)
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公开(公告)号：JP2017025236A
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：JP2015146993
申请日：2015-07-24
Applicant: 明和化成株式会社
Abstract: 【課題】フォトレジスト組成物としたときにより高いレベルで高耐熱性、高感度、高残膜率及び高解像度をバランスよく有することができ、且つ、フォトレジスト組成物としたときの保存安定性に優れるノボラック型フェノール樹脂、その製造方法、及び該ノボラック型フェノール樹脂を含むフォトレジスト組成物を提供する。 【解決手段】m−クレゾール及び/又はp−クレゾールからなるフェノール成分(a1)と、2,3,5−トリメチルフェノール及び/又は3,5−キシレノールからなるフェノール成分(a2)と、ホルムアルデヒド成分(b)とを酸触媒(c)の存在下で反応して得られたノボラック型フェノール樹脂であって、前記反応は、酸触媒(c)と共に助触媒(d)であるメルカプト基含有化合物の存在下で行われたことを特徴とするノボラック型フェノール樹脂である。 【選択図】なし
Abstract translation: 在较高的水平高的耐热性通过在光致抗蚀剂组合物中，高灵敏度可以具有良好的平衡Kozanmaku速率和分辨率高，并且，在保存稳定性，当光刻胶组合物 酚醛清漆型酚醛树脂优良，其制造方法，以及提供一种含有该线型酚醛树脂的光刻胶组合物。 和A间甲酚和/或酚组分包括对甲酚（a1）中，由2,3,5-三甲基苯酚和/或3,5-二甲苯酚，甲醛成分的苯酚组分（a2）的（ 通过在酸催化剂（C）的存在下反应获得的b）A A A酚醛清漆酚树脂，反应的存在下，含巯基化合物是酸催化剂（C）与助催化剂（d）中 它是酚醛清漆酚醛树脂，其特征在于它是下进行。 系统技术领域
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