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公开(公告)号：JP6960789B2
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：JP2017138325
申请日：2017-07-14
Applicant: キヤノントッキ株式会社
IPC: H01L51/50 , H05B33/10 , H01L21/677 , B65G49/07 , C23C14/50
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公开(公告)号：JP2021527951A
公开(公告)日：2021-10-14
申请号：JP2020568741
申请日：2019-06-17
Applicant: 村田機械株式会社
Inventor： ショーバー トーマス , ラールバッハ ベルンド , ヴォハンカ クリスチャン , フェナー イヴ , ドヴィズ ゲルハルド , フィデス ジョン
IPC: B65G49/07 , B65G57/22 , H01L21/673
Abstract: 基板搬送容器スタックは、それぞれの上に積み重ねられるか、又は積み重ね可能なただひとつのタイプからなる複数の基板搬送容器を含み、かつ基板搬送容器スタックの内部収容空間内にプレート形状の基板を搬送する。その基板搬送容器は、各々が位置決め構造を有す。もし、上段基板搬送容器と下段基板搬送容器が相対的に互いに対して適切な位置に配置されたならば、上段基板搬送容器と下段搬送容器の一組ペアの各々の位置決め構造が互いに係合する、又は係合可能になる。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021158380A
公开(公告)日：2021-10-07
申请号：JP2021104954
申请日：2021-06-24
Applicant: 株式会社東京精密
IPC: H01L21/683 , B65G49/07 , H01L21/66
Abstract: 【課題】反ったウェーハを矯正してチャックに吸着し、プロービングを可能にするプローバおよびウェーハチャックを提供する。 【解決手段】まず、反ったウェーハWの反りの中心を、真空経路23から吸着溝19に供給される負圧により吸着する。次に、ウェーハWの反りの中心から外側に向かって、真空経路23から吸着溝19に供給される負圧により吸着する。次に、ウェーハWのサイズに応じて、12インチ用ベルヌーイポート穴41または8インチ用ベルヌーイポート穴42に正圧を供給し、ウェーハWの外側でベルヌーイ効果を生じさせることによって、ウェーハWの外側の反りを矯正する。最後に、12インチ用ベルヌーイポート穴41または8インチ用ベルヌーイポート穴42への正圧供給を停止し、ウェーハWの外側を吸着溝19に吸着させる。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2021158326A
公开(公告)日：2021-10-07
申请号：JP2020060455
申请日：2020-03-30
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: B65G49/07 , H01L21/677
Abstract: 【課題】搬送装置の動作が不安定になることを抑制できる技術を提供する。 【解決手段】本開示の一態様による搬送装置は、真空搬送室内に設けられる搬送装置であって、前記真空搬送室と隔離された内部空間を含む構造体と、前記構造体に対して回転するアームと、前記構造体と前記アームとの間の摺動部を気密にシールする真空シール構造と、を有し、前記真空シール構造は、前記摺動部に設けられるシール部材と、前記構造体、前記アーム及び前記シール部材により形成され、潤滑剤が封入される封入部と、前記封入部の内圧を調整する圧力調整部と、を含む。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021136286A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020030106
申请日：2020-02-26
Applicant: 株式会社日本製鋼所
IPC: H01L21/268 , H01L21/20 , B65G49/07 , B65G51/03 , H01L21/677
Abstract: 【課題】基板の浮上精度を向上させることが可能な浮上搬送装置を提供することである。 【解決手段】一実施の形態にかかる浮上搬送装置1は、基板30の下面に気体を噴射して基板30を浮上させながら基板30を搬送する浮上搬送装置であって、基板30に気体を噴射する複数の噴射口11と、複数の噴射口11に気体を供給する下流側流路22と、下流側流路22に気体を供給する上流側流路21と、上流側流路21に気体を供給する気体供給口27と、を備え、上流側流路21の断面積が下流側流路22の断面積よりも大きくなるように構成されている。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6924488B2
公开(公告)日：2021-08-25
申请号：JP2018076810
申请日：2018-04-12
Applicant: 株式会社ハーモテック
IPC: B65G49/07 , B25J15/06 , H01L21/677
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公开(公告)号：JP6920141B2
公开(公告)日：2021-08-18
申请号：JP2017170162
申请日：2017-09-05
Applicant: 株式会社ディスコ
Inventor： 山中 聡
IPC: B24B37/34 , H01L21/304 , H01L21/677 , B65G49/07 , B24B41/06
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公开(公告)号：JP6918537B2
公开(公告)日：2021-08-11
申请号：JP2017058622
申请日：2017-03-24
Applicant: 東レエンジニアリング株式会社
IPC: H01L21/60 , B65G49/07 , H01L21/677 , H05K13/04 , H01L21/52
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公开(公告)号：JP2021114591A
公开(公告)日：2021-08-05
申请号：JP2020007837
申请日：2020-01-21
Applicant: キヤノン株式会社
Inventor： 小林 芳徳
IPC: G03F7/20 , B65G49/07 , H01L21/677
Abstract: 【課題】湾曲状態に個体差を有する基板の搬送あるいは取り扱いに有利な技術を提供する。 【解決手段】基板搬送システムは、基板をハンドで保持し搬送する搬送機構と、前記基板の湾曲状態を検出するためのセンサと、前記搬送機構を制御する制御部とを備え、前記搬送機構は、前記基板を保持する第1保持部と前記ハンドとの間での前記基板の受け渡し、および、前記基板を保持する第2保持部と前記ハンドとの間での前記基板の受け渡しにおいて、前記ハンドを鉛直方向に移動させ、前記第1保持部と前記ハンドとの間での前記基板の受け渡しのための前記ハンドの鉛直方向の移動時に、前記センサを使って前記基板の第1湾曲状態が検出され、前記制御部は、前記第1湾曲状態に基づいて、前記第2保持部と前記ハンドとの間での前記基板の受け渡しにおける前記ハンドの移動を制御する。 【選択図】図1
