公开(公告)号：US20070075278A1

公开(公告)日：2007-04-05

申请号：US11243180

申请日：2005-10-05

申请人： Laurentius Jorritsma ,  Johannes Baselmans

发明人： Laurentius Jorritsma ,  Johannes Baselmans

IPC分类号： G01N21/86

CPC分类号： G02B27/0025 ,  G02B3/0006 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70308

摘要： Focal plane errors across the field of an array of focusing elements are reduced by using a non-planar correction surface, shaped such that focal points of the focusing elements lie closer to a single plane than they would if the correction surface were planar. For example, this can be used when an array of focusing elements is used in a projection system of a lithography system.

摘要翻译： 通过使用非平面校正表面来减少聚焦元件阵列的焦平面误差，该非平面校正表面被成形为使得聚焦元件的焦点比如果校正表面是平面的那样更靠近单个平面。 例如，当在光刻系统的投影系统中使用聚焦元件的阵列时，可以使用这一点。

公开(公告)号：US20070030470A1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：US11546394

申请日：2006-10-12

申请人： Patricius Tinnemans ,  Johannes Baselmans ,  Laurentius Jorritsma

发明人： Patricius Tinnemans ,  Johannes Baselmans ,  Laurentius Jorritsma

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70475

摘要： A lithography apparatus including a projection system configured to project a beam of radiation onto a substrate as an array of sub-beams of radiation and an array of individually controllable elements configured to modulate the sub-beams of radiation. The apparatus also includes a data-path including at least one data manipulation device arranged to at least partly convert data defining a requested pattern to a control signal suitable for controlling the array of individually controllable elements to form substantially the requested pattern on the substrate. The data manipulation device is arranged to carry out the conversion by applying a pseudo-inverted form of a point-spread function matrix to a column vector representing the requested pattern. The point-spread function matrix includes information about the shape and relative position of the point-spread function of each spot to be exposed on the substrate by one of the sub-beams of radiation at a given time.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括投影系统，该投影系统被配置为将辐射束投射到衬底上作为辐射子束阵列和被配置成调制辐射子束的单独可控元件的阵列。 该装置还包括数据路径，其包括至少一个数据操作装置，该至少一个数据操作装置被布置成至少部分地将定义所请求的模式的数据转换为适于控制独立可控元件的阵列的控制信号，以在基板上形成基本上所请求的图案。 数据处理装置被配置为通过将点扩展函数矩阵的伪反转形式应用于表示所请求的图案的列向量来执行转换。 点扩散函数矩阵包括在给定时间通过辐射子束之一在衬底上暴露于每个点的点扩散函数的形状和相对位置的信息。

公开(公告)号：US20070013886A1

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：US11524262

申请日：2006-09-21

申请人： Johannes Baselmans ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Bob Streefkerk

发明人： Johannes Baselmans ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus is disclosed which includes a liquid supply system having an inlet configured to supply a liquid to a space between a projection system of the lithographic apparatus and a substrate and an outlet configured to remove at least part of the liquid, the liquid supply system configured to rotate the inlet, the outlet, or both, about an axis substantially perpendicular. to an exposure plane of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻设备，其包括液体供应系统，该液体供应系统具有被配置为将液体供应到光刻设备的投影系统与基板之间的空间的入口以及被构造成去除至少部分液体的出口，液体供应 系统构造成围绕基本上垂直的轴线旋转入口，出口或两者。 到基板的曝光平面。

公开(公告)号：US20070268547A1

公开(公告)日：2007-11-22

申请号：US11790222

申请日：2007-04-24

申请人： Azat Latypov ,  Kars Troost ,  Johannes Baselmans

发明人： Azat Latypov ,  Kars Troost ,  Johannes Baselmans

IPC分类号： G02B26/00 ,  G02F1/00

CPC分类号： G03F7/70291

摘要： A method and system for determining specific pixel modulation states of a spatial light modulator (SLM) to print a desired pattern on a substrate are disclosed. The method includes selecting at least one super-pixel in an object plane of the desired pattern, the super-pixel being formed of at least two pixels. At least one edge of the desired pattern crosses a boundary within the super-pixel, the at least one edge being defined by specific slope and position parameters relative to the super-pixel. The method also includes (i) forming an interpolation table to tabulate pre-calculated pixel modulation states and (ii) determining the specific pixel modulation states for each of the pixels in accordance with the interpolation table. Disclosed also are a method and system for providing a spatial light modulator (SLM). The SLM includes a plurality of mirrors structured to form groups of super-pixels. Each super-pixel (i) includes two or more mirrors from the plurality of mirrors and (ii) is configured to switch only one pixel of light. Each of the two or more mirrors can be separately actuated.

摘要翻译： 公开了一种用于确定空间光调制器（SLM）的特定像素调制状态以在衬底上打印所需图案的方法和系统。 所述方法包括：在所述期望图案的物平面中选择至少一个超像素，所述超像素由至少两个像素形成。 所需图案的至少一个边缘穿过超像素内的边界，所述至少一个边缘由相对于超像素的特定斜率和位置参数限定。 该方法还包括（i）形成内插表以列出预先计算的像素调制状态，以及（ii）根据内插表确定每个像素的特定像素调制状态。 还公开了一种用于提供空间光调制器（SLM）的方法和系统。 SLM包括被构造成形成超像素组的多个反射镜。 每个超像素（i）包括来自多个反射镜的两个或更多个反射镜，并且（ii）被配置为仅切换一个像素的光。 两个或更多个反射镜中的每一个可以被单独地致动。

公开(公告)号：US20070153249A1

公开(公告)日：2007-07-05

申请号：US11311643

申请日：2005-12-20

申请人： Kars Troost ,  Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  James Greeneich

发明人： Kars Troost ,  Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  James Greeneich

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70508

摘要： A lithographic apparatus and method in which a relatively high resolution exposure, for example of a repeating pattern, is trimmed using a relatively low resolution exposure. According, a compromise between provision of a high resolution pattern and flexibility in the pattern to be formed is provided.

摘要翻译： 使用相对低分辨率曝光来修整例如重复图案的相对高分辨率曝光的光刻设备和方法。 提供了提供高分辨率图案和形成的图案的灵活性之间的妥协。

公开(公告)号：US20070145306A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11705147

申请日：2007-02-12

申请人： Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker

发明人： Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker

IPC分类号： G03B27/42 ,  G01N21/86

CPC分类号： G03F7/70516 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70591

摘要： To calibrate a lithographic apparatus having a programmable patterning means, a sensor, such as a CCD, CMOS sensor or photo-diode array, having detector elements larger than the size of a spot corresponding to a single pixel of the programmable patterning means is used. Pixels are selectively activated singly or in groups.

摘要翻译： 为了校准具有可编程图案形成装置的光刻设备，使用具有大于对应于可编程图案形成装置的单个像素的点的尺寸的检测器元件的诸如CCD，CMOS传感器或光电二极管阵列的传感器。 像素被单独或分组选择性地激活。

公开(公告)号：US20070075315A1

公开(公告)日：2007-04-05

申请号：US11257398

申请日：2005-10-25

申请人： Willem Venema ,  Johannes Baselmans

发明人： Willem Venema ,  Johannes Baselmans

IPC分类号： H01L29/04 ,  H01L29/15 ,  H01L31/036 ,  H01L21/84 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70791 ,  H01L27/1296

摘要： To prevent a substrate from expanding significantly to generate overlay errors an exposure operation takes place in two parts. A first part exposes boundary areas and a second part exposes the larger, bulk areas. In one example, a portion of the substrate is fixed and the substrate is exposed progressively from parts furthest from the fixed portions towards the fixed portion. In another example, a plurality of high velocity scans take place instead of a single slow scan, and the substrate is allowed to cool between the high velocity scans. In another example, a lithographic apparatus is heated in order to maintain a temperature differential between the apparatus and the surrounding environment, and to minimize any fluctuation due to the exposing radiation.

摘要翻译： 为了防止基板显着膨胀以产生覆盖误差，曝光操作分为两部分。 第一部分暴露了边界区域，第二部分暴露了较大的主体区域。 在一个示例中，基板的一部分被固定，并且基板从最远离固定部分的部分向固定部分逐渐曝光。 在另一个示例中，发生多个高速扫描而不是单次慢扫描，并且允许衬底在高速扫描之间冷却。 在另一示例中，为了保持设备和周围环境之间的温度差，加热光刻设备，并且使由于曝光辐射引起的任何波动最小化。

公开(公告)号：US20060221322A1

公开(公告)日：2006-10-05

申请号：US11093259

申请日：2005-03-30

申请人： Patricius Tinnemans ,  Johannes Baselmans

发明人： Patricius Tinnemans ,  Johannes Baselmans

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70508

摘要： An apparatus and method are used to form patterns on a substrate. The comprise a projection system, a patterning device, a low-pass filter, and a data manipulation device. The projection system projects a beam of radiation onto the substrate as an array of sub-beams of radiation. The patterning device modulates the sub-beams of radiation to substantially produce a requested dose pattern on the substrate. The low-pass filter operates on pattern data derived from the requested dose pattern in order to form a frequency-clipped target dose pattern that comprises only spatial frequency components below a selected threshold frequency. The data manipulation device produces a control signal comprising spot exposure intensities to be produced by the patterning device, based on a direct algebraic least-squares fit of the spot exposure intensities to the frequency-clipped target dose pattern. In various examples, filters for pattern sharpening, image log slope control, and/or CD biasing can also be used.

摘要翻译： 使用装置和方法在基板上形成图案。 包括投影系统，图案形成装置，低通滤波器和数据操作装置。 投影系统将辐射束投射到基板上作为辐射子束阵列。 图案形成装置调制辐射的子光束以在衬底上基本上产生所要求的剂量图案。 低通滤波器对从所请求的剂量图案导出的图形数据进行操作，以便形成仅包含低于选定阈值频率的空间频率分量的限幅目标剂量模式。 数据处理装置基于斑点曝光强度与限幅目标剂量图案的直接代数最小二乘拟合，产生包括由图案形成装置产生的点曝光强度的控制信号。 在各种示例中，还可以使用用于图案锐化，图像对数斜率控制和/或CD偏置的滤波器。

公开(公告)号：US20060158626A1

公开(公告)日：2006-07-20

申请号：US11298942

申请日：2005-12-12

申请人： Johannes Baselmans ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Jeroen Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Bob Streefkerk

发明人： Johannes Baselmans ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Jeroen Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F9/7023 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70883

摘要： A method for correcting an exposure parameter of an immersion lithographic apparatus is provided. In the method, an exposure parameter is measured using a measuring beam projected through a liquid between the projection system and a substrate table of the immersion lithographic apparatus and offset is determined based on a change of a physical property impacting a measurement made using the measuring beam to at least partly correct the measured exposure parameter. Also, there is provided an apparatus and method to measure a height of an optical element connected to liquid between the projection system and the substrate table in the immersion lithographic apparatus.

摘要翻译： 提供了一种用于校正浸没式光刻设备的曝光参数的方法。 在该方法中，使用通过投影系统和浸没式光刻设备的衬底台之间的液体投影的测量光束来测量曝光参数，并且基于影响使用测量光束进行的测量的物理性质的变化来确定偏移 至少部分地校正测量的曝光参数。 此外，提供了一种用于在浸没式光刻设备中测量连接到投影系统和基板台之间的液体的光学元件的高度的装置和方法。

公开(公告)号：US20060055905A1

公开(公告)日：2006-03-16

申请号：US10939947

申请日：2004-09-14

申请人： Johannes Baselmans ,  Anastasius Bruinsma ,  Pieter De Jager ,  Henri Vink

发明人： Johannes Baselmans ,  Anastasius Bruinsma ,  Pieter De Jager ,  Henri Vink

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70583

摘要： Use of a refraction grating to divide a beam of radiation into a plurality of sub-beams that are each directed onto an array of individually controllable elements, modulated thereby and projected onto a substrate as an array of spots.