公开(公告)号：US08941815B2

公开(公告)日：2015-01-27

申请号：US12821015

申请日：2010-06-22

申请人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Jozef Petrus Henricus Benschop ,  Nicolaas Ten Kate ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Alexander Nikolov Zdravkov ,  Hrishikesh Patel ,  Sander Van Opstal

发明人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Jozef Petrus Henricus Benschop ,  Nicolaas Ten Kate ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Alexander Nikolov Zdravkov ,  Hrishikesh Patel ,  Sander Van Opstal

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70808

摘要： A cover is provided for a substrate table in an immersion lithographic apparatus that covers at least the gap between a substrate and a recess in a substrate table in which the substrate is received.

摘要翻译： 为浸没式光刻设备中的衬底台设置盖子，该衬底台至少覆盖衬底和接收衬底的衬底台中的凹部之间的间隙。

公开(公告)号：US20110228248A1

公开(公告)日：2011-09-22

申请号：US13047251

申请日：2011-03-14

申请人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Alexander Nikolov Zdravkov ,  Jan Willem Stouwdam ,  Bernardus Lambertus Johannes Bijl

发明人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Alexander Nikolov Zdravkov ,  Jan Willem Stouwdam ,  Bernardus Lambertus Johannes Bijl

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70716

摘要： A cover is provided for a substrate table in an immersion lithographic apparatus that covers at least the gap between a substrate and a recess in a substrate table in which the substrate is received.

摘要翻译： 为浸没式光刻设备中的衬底台设置盖子，该衬底台至少覆盖衬底和接收衬底的衬底台中的凹部之间的间隙。

公开(公告)号：US20090168037A1

公开(公告)日：2009-07-02

申请号：US12292963

申请日：2008-12-01

申请人： Roger Johannes Maria Hubertus Kroonen ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Ten Kate ,  Ronald Van Der Ham ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Michel Riepen ,  Gerardus Arnoldus Hendricus Fanciscus Janssen ,  Reinder Wietse Roos ,  Mattijs Hogeland

发明人： Roger Johannes Maria Hubertus Kroonen ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Ten Kate ,  Ronald Van Der Ham ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Michel Riepen ,  Gerardus Arnoldus Hendricus Fanciscus Janssen ,  Reinder Wietse Roos ,  Mattijs Hogeland

IPC分类号： G03B27/60 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a substrate table for holding a substrate and a liquid supply system for supply liquid to the substrate. The apparatus is constructed and arranged to allow the liquid to flow off the substrate and over at least two edges of a top surface of the substrate table. The geometry of the edge may be optimized to reduce a static thickness of a layer of liquid on the top surface.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻投影装置。 该装置包括用于保持基板的基板台和用于向基板供应液体的液体供应系统。 该装置被构造和布置成允许液体从衬底流出并且在衬底台的顶表面的至少两个边缘之上。 可优化边缘的几何形状以减少顶表面上的液体层的静态厚度。

公开(公告)号：US07253875B1

公开(公告)日：2007-08-07

申请号：US11366803

申请日：2006-03-03

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Ronald Van Der Ham ,  Niek Jacobus Johannes Roset

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Ronald Van Der Ham ,  Niek Jacobus Johannes Roset

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70908

摘要： A lithographic apparatus includes a measurement system to measure the position and/or movement of a substrate support relative to a reference frame. The measurement system includes a target mounted to one of the substrate support and the reference frame, a radiation source mounted to the other one of the substrate support and the reference frame and a sensor configured to detect a pattern of radiation propagating from the target, indicating the position or movement of the substrate support. The substrate support includes one or more gas outlets configured to provide a flow of gas that encapsulates the volume of space through which the beam of radiation propagates to the target.

摘要翻译： 光刻设备包括用于测量衬底支撑件相对于参考框架的位置和/或运动的测量系统。 测量系统包括安装到基板支撑件和参考框架中的一个的目标，安装到基板支撑件和参考框架中的另一个的辐射源以及被配置为检测从目标传播的辐射图案的传感器，指示 衬底支撑件的位置或运动。 衬底支撑件包括一个或多个气体出口，其构造成提供封装辐射束通过其传播到靶的空间体积的气体流。

公开(公告)号：US09235138B2

公开(公告)日：2016-01-12

申请号：US13542530

申请日：2012-07-05

申请人： Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Nicolaas Ten Kate ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Michel Riepen ,  Henricus Jozef Castelijns ,  Cornelius Maria Rops ,  Jim Vincent Overkamp

发明人： Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Nicolaas Ten Kate ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Michel Riepen ,  Henricus Jozef Castelijns ,  Cornelius Maria Rops ,  Jim Vincent Overkamp

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341

摘要： A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the fluid handling structure having, at a boundary from a space configured to contain immersion fluid to a region external to the fluid handling structure: a meniscus pinning feature to resist passage of immersion fluid in a radially outward direction from the space; and a plurality of gas supply openings in a linear array at least partly surrounding and radially outward of the one or more meniscus pinning features, wherein the plurality of gas supply openings in a linear array are of a similar or the same size.

摘要翻译： 一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构在从被配置为将浸没流体包含在流体处理结构外部的区域的空间的边界处具有：弯液面锁定特征，以阻止浸没流体在径向向外 方向从空间; 以及线性阵列中的至少部分地围绕并径向向外的一个或多个弯液面钉扎特征的多个气体供应开口，其中线性阵列中的多个气体供应开口具有相似或相同的尺寸。

公开(公告)号：US20110188049A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：US13084372

申请日：2011-04-11

申请人： Ronald VAN DER HAM ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Herman Vogel ,  Niek Jacobus Johannes Roset

发明人： Ronald VAN DER HAM ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Herman Vogel ,  Niek Jacobus Johannes Roset

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70866 ,  Y10T137/8593

摘要： An assembly including a conditioning system and an object moveable into and/or out of an area to be conditioned is disclosed. The conditioning system has fluid outlet passages to supply conditioning fluid to the area to be conditioned and is configured to adjust outflow of the conditioning fluid from the fluid outlet passages depending on a position of the object.

摘要翻译： 公开了一种组件，其包括调节系统和可移动到待调节区域中和/或之外的物体。 调节系统具有流体出口通道，以将调节流体供应到待调节的区域，并且构造成根据物体的位置调节调节流体与流体出口通道的流出。

公开(公告)号：US07924399B2

公开(公告)日：2011-04-12

申请号：US11389493

申请日：2006-03-27

申请人： Ronald Van Der Ham ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Herman Vogel ,  Niek Jacobus Johannes Roset

发明人： Ronald Van Der Ham ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Herman Vogel ,  Niek Jacobus Johannes Roset

IPC分类号： A61N5/00 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70866 ,  Y10T137/8593

摘要： An assembly including a conditioning system and an object movable into and/or out of an area to be conditioned is disclosed. The conditioning system has fluid outlet passages to supply conditioning fluid to the area to be conditioned and is configured to adjust outflow of the conditioning fluid from the fluid outlet passages depending on a position of the object.

摘要翻译： 公开了一种组件，其包括调节系统和可移动到待调节区域中和/或之外的物体。 调节系统具有流体出口通道，以将调节流体供应到待调节的区域，并且构造成根据物体的位置调节调节流体与流体出口通道的流出。

公开(公告)号：US08767169B2

公开(公告)日：2014-07-01

申请号：US13109036

申请日：2011-05-17

申请人： Niek Jacobus Johannes Roset ,  Nicolaas Ten Kate ,  Sergei Shulepov ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre

发明人： Niek Jacobus Johannes Roset ,  Nicolaas Ten Kate ,  Sergei Shulepov ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70716

摘要： A lithographic apparatus including a fluid handling structure configured to contain immersion fluid in a space adjacent to an upper surface of the substrate table and/or a substrate located in a recess of the substrate table, a cover having a planar main body that, in use, extends around a substrate from the upper surface to a peripheral section of an upper major face of the substrate in order to cover a gap between an edge of the recess and an edge of the substrate, and an immersion fluid film disruptor, configured to disrupt the formation of a film of immersion fluid between an edge of the cover and immersion fluid contained by the fluid handling structure during movement of the substrate table relative to the fluid handling structure.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括：流体处理结构，其构造成在与基板台的上表面相邻的空间中容纳浸没流体;和/或位于基板台的凹部中的基板;具有平面主体的盖，其在使用中 ，从衬底的上表面延伸到衬底的上主表面的周边部分，以覆盖凹部的边缘与衬底的边缘之间的间隙，以及浸没流体膜破坏器，其被配置为中断 在衬底台相对于流体处理结构移动期间，在盖的边缘和由流体处理结构容纳的浸没流体之间形成浸没流体的膜。

公开(公告)号：US20130077065A1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：US13623790

申请日：2012-09-20

申请人： Raymond Wilhelmus Louis LAFARRE ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Arjan Hubrecht Josef Anna Martens ,  Alexander Nikolov Zdravkov ,  Kornelis Tijmen Hoekerd ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

发明人： Raymond Wilhelmus Louis LAFARRE ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Arjan Hubrecht Josef Anna Martens ,  Alexander Nikolov Zdravkov ,  Kornelis Tijmen Hoekerd ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

IPC分类号： G03F7/20 ,  B32B3/02 ,  B08B3/04

CPC分类号： G03F7/2041 ,  B08B1/00 ,  B08B3/04 ,  B08B7/0028 ,  B08B7/0035 ,  B32B3/02 ,  B32B2432/00 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70925 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24752

摘要： A method and apparatus to clean a cover to seal a gap between an object located in a recess of a table and the upper surface of the table outside of the recess. In-line and off-line arrangements are disclosed. Cleaning can be carried out using abrasion, UV radiation or flushing with a cleaning fluid for example.

摘要翻译： 一种用于清洁盖子以密封位于桌子的凹部中的物体与在桌子的上表面之间的间隙的方法和设备。 公开了在线和离线布置。 可以使用磨损，紫外线辐射或用清洁液冲洗来进行清洁。

公开(公告)号：US20130016332A1

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：US13542530

申请日：2012-07-05

申请人： Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Nicolaas Ten Kate ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Michel Riepen ,  Henricus Jozef Castelijns ,  Cornelius Maria Rops ,  Jim Vincent Overkamp

发明人： Rogier Hendrikus Magdalena Cortie ,  Nicolaas Ten Kate ,  Niek Jacobus Johannes Roset ,  Michel Riepen ,  Henricus Jozef Castelijns ,  Cornelius Maria Rops ,  Jim Vincent Overkamp

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341

摘要： A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the fluid handling structure having, at a boundary from a space configured to contain immersion fluid to a region external to the fluid handling structure: a meniscus pinning feature to resist passage of immersion fluid in a radially outward direction from the space; and a plurality of gas supply openings in a linear array at least partly surrounding and radially outward of the one or more meniscus pinning features, wherein the plurality of gas supply openings in a linear array are of a similar or the same size.

摘要翻译： 一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构在从被配置为将浸没流体包含在流体处理结构外部的区域的空间的边界处具有：弯液面锁定特征，以阻止浸没流体在径向向外 方向从空间; 以及线性阵列中的至少部分地围绕并径向向外的一个或多个弯液面钉扎特征的多个气体供应开口，其中线性阵列中的多个气体供应开口具有相似或相同的尺寸。