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公开(公告)号：US08026040B2
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。
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公开(公告)号：US20080196626A1
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。
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公开(公告)号：US07666575B2
公开(公告)日：2010-02-23
申请号：US11550459
申请日：2006-10-18
申请人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
发明人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.
摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含至少一个结构单元（6）的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6）烷基和芳族基团，R 14和R 15独立地为（C 1 -C 10）烷基 。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。
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公开(公告)号：US20080096125A1
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：US11550459
申请日：2006-10-18
申请人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
发明人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.
摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含结构（6）的至少一个单元的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6） C 1 -C 6烷基和芳基，R 14和R 15独立地是（C 1 -C 6）烷基和芳基， C 1 -C 10烷基。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。
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公开(公告)号：US07638262B2
公开(公告)日：2009-12-29
申请号：US11502706
申请日：2006-08-10
申请人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
发明人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' 独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）烃基 连接部分。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。
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公开(公告)号：US20080038659A1
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：US11502706
申请日：2006-08-10
申请人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
发明人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' '独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C 1 -C 20 -C 20）烃基部分，W是（C 1 H 12） C 20 -C 20烃基连接部分，Y'独立地为（C 1 -C 20）烃基连接部分 。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。
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公开(公告)号：US20090035704A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：US11833361
申请日：2007-08-03
申请人： Hong Zhuang , Huirong Yao , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Weihong Liu , Jianhui Shan , Zhong Xiang
发明人： Hong Zhuang , Huirong Yao , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Weihong Liu , Jianhui Shan , Zhong Xiang
CPC分类号： C09D163/00 , C09D133/06 , C09D167/00 , G03F7/091
摘要： The present invention relates to an underlayer coating composition capable of being crosslinked comprising a polymer, a compound capable of generating a strong acid, and optionally a crosslinker, where the polymer comprises at least one absorbing chromophore and at least one moiety selected from an epoxy group, an aliphatic hydroxy group and mixtures thereof.The invention further relates to a process of imaging the underlayer coating compositions.
摘要翻译： 本发明涉及能够交联的底层涂料组合物，其包含聚合物，能够产生强酸的化合物和任选的交联剂，其中聚合物包含至少一个吸收发色团和至少一个选自环氧基的部分 ，脂族羟基及其混合物。 本发明还涉及对下层涂料组合物进行成像的方法。
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8.发明授权Neutral layer polymer composition for directed self assembly and processes thereof 有权用于定向自组装的中性层聚合物组合物及其工艺公开(公告)号：US08835581B2
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：US13492125
申请日：2012-06-08
申请人： Hengpeng Wu , Orest Polishchuk , Yi Cao , SungEun Hong , Jian Yin , Guanyang Lin , Margareta Paunescu , Mark Neisser
发明人： Hengpeng Wu , Orest Polishchuk , Yi Cao , SungEun Hong , Jian Yin , Guanyang Lin , Margareta Paunescu , Mark Neisser
IPC分类号： C08F4/04 , C07C245/04
CPC分类号： C08F4/04 , C07C245/04 , C08F8/12 , C08F212/08 , C08F2800/20 , C08F2810/40 , G03F7/0002 , C08F220/14
摘要： The present invention relates to a novel polymeric composition comprising a novel polymer having two or more repeat units and a terminus having the structure (1): wherein R1 represents a C1-C20 substituted or unsubstituted alkyl group, w is a number from 1-8, X is oxygen (O) or nitrogen (N), and Rd is a reactive group. The invention also relates to a process for forming a pattern using the novel polymeric composition. The invention further relates to a process of making the novel polymer.
摘要翻译： 本发明涉及包含具有两个或多个重复单元的新型聚合物和具有结构（1）的末端的新型聚合物组合物：其中R1表示C1-C20取代或未取代的烷基，w为1-8 ，X是氧（O）或氮（N），Rd是反应性基团。 本发明还涉及使用新型聚合物组合物形成图案的方法。 本发明还涉及制备该新型聚合物的方法。
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公开(公告)号：US20050214674A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：US10808884
申请日：2004-03-25
申请人： Yu Sui , Hengpeng Wu , Wenbing Kang , Mark Neisser , Tomohide Katayama , Shuji Ding-Lee , Aritaka Hishida , Joseph Oberlander , Medhat Toukhy
发明人： Yu Sui , Hengpeng Wu , Wenbing Kang , Mark Neisser , Tomohide Katayama , Shuji Ding-Lee , Aritaka Hishida , Joseph Oberlander , Medhat Toukhy
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S438/952
摘要： The present invention relates to a positive bottom photoimageable antireflective coating composition which is capable of being developed in an aqueous alkaline developer, wherein the antireflective coating composition comprises a polymer comprising at least one recurring unit with a chromophore group and one recurring unit with a hydroxyl and/or a carboxyl group, a vinyl ether terminated crosslinking agent, and optionally, a photoacid generator and/or an acid and/or a thermal acid generator. The invention further relates to a process for using such a composition.
摘要翻译： 本发明涉及能够在含水碱性显影剂中显影的正底部可光成像抗反射涂料组合物，其中抗反射涂料组合物包含含有至少一个具有发色团的重复单元的聚合物和一个具有羟基的重复单元， /或羧基，乙烯基醚封端的交联剂，以及任选的光酸产生剂和/或酸和/或热酸发生剂。 本发明还涉及使用这种组合物的方法。
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公开(公告)号：US09040659B2
公开(公告)日：2015-05-26
申请号：US14175203
申请日：2014-02-07
申请人： Jian Yin , Hengpeng Wu , Muthiah Thiyagarajan , SungEun Hong , Mark Neisser , Yi Cao
发明人： Jian Yin , Hengpeng Wu , Muthiah Thiyagarajan , SungEun Hong , Mark Neisser , Yi Cao
IPC分类号： C08G64/00 , B05D5/00 , B01D15/36 , B01J45/00 , C08J3/00 , B01J39/04 , B01J41/04 , B05D1/00 , B05D3/00 , C08F6/02
CPC分类号： B05D5/00 , B01D15/361 , B01J39/05 , B01J41/07 , B01J45/00 , B05D1/005 , B05D3/00 , C08F6/02 , C08J3/00 , C08L53/00
摘要： The present invention relates to a method for treating a block copolymer solution, wherein the method comprises: providing a solution comprising a block copolymer in a non aqueous solvent; and, treating the solution to remove metals using an ion exchange resin. The invention also relates to a method of forming patterns using the treated block copolymer.
摘要翻译： 本发明涉及一种处理嵌段共聚物溶液的方法，其中该方法包括：在非水溶剂中提供包含嵌段共聚物的溶液; 并使用离子交换树脂处理该溶液以除去金属。 本发明还涉及使用经处理的嵌段共聚物形成图案的方法。
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