公开(公告)号：US20150076202A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：US14028787

申请日：2013-09-17

申请人： John V. Jensen ,  Michael C. Gibbon

发明人： John V. Jensen ,  Michael C. Gibbon

IPC分类号： A45F3/04

CPC分类号： A45F3/04 ,  A45F3/14 ,  A45F2003/142 ,  A45F2003/146 ,  B65D21/0233

摘要： A utility bucket backpack apparatus having an upper strap and a lower strap may have each of the upper and lower straps connected to two backpack straps. The lower strap may further be connected to a bottom strap. The upper strap may further be connected to two handle straps. The upper strap and the lower strap may also be removably connected to the outer circumference of a utility bucket.

摘要翻译： 具有上带和下带的公用桶背包装置可以将上带和下带中的每一个连接到两个背包带。 下带可以进一步连接到底带。 上带可以进一步连接到两个把手带。 上带和下带也可拆卸地连接到公用桶的外周。

公开(公告)号：US06499003B2

公开(公告)日：2002-12-24

申请号：US09034544

申请日：1998-03-03

申请人： Edwin Jones ,  Dusan Petranovic ,  Ranko Scepanovic ,  Richard Schinella ,  Nicholas F. Pasch ,  Mario Garza ,  Keith K. Chao ,  John V. Jensen ,  Nicholas K. Eib

发明人： Edwin Jones ,  Dusan Petranovic ,  Ranko Scepanovic ,  Richard Schinella ,  Nicholas F. Pasch ,  Mario Garza ,  Keith K. Chao ,  John V. Jensen ,  Nicholas K. Eib

IPC分类号： G06G748

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F7/70441

摘要： The present invention is a method and apparatus for applying proximity correction to a piece of a mask pattern, by segmenting the piece into a plurality of segments, and applying proximity correction to a first segment without taking into consideration the other segments of the piece.

摘要翻译： 本发明是一种方法和装置，用于通过将片段分段成多个片段，并将附近的校正应用于第一片段，而不考虑片段的其他片段，来对掩模图案进行接近校正。

公开(公告)号：US5705301A

公开(公告)日：1998-01-06

申请号：US607398

申请日：1996-02-27

申请人： Mario Garza ,  Nicholas K. Eib ,  John V. Jensen ,  Keith K. Chao

发明人： Mario Garza ,  Nicholas K. Eib ,  John V. Jensen ,  Keith K. Chao

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70483 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70441

摘要： A method is disclosed for identifying regions of an integrated circuit layout design where optical proximity correction will be most useful and then performing optical proximity correction on those regions only. More specifically, the method includes the following steps: (a) analyzing an integrated circuit layout design with a design role checker to locate features of the integrated circuit layout design meeting predefined criteria; and (b) performing optical proximity correction on the features meeting the criteria in order to generate a reticle design. The criteria employed by the design role checker to select features include outside corners on patterns, inside corners on features, feature size, feature shape, and feature angles.

摘要翻译： 公开了一种用于识别集成电路布局设计的区域的方法，其中光学邻近校正将是最有用的，然后仅在这些区域上进行光学邻近校正。 更具体地说，该方法包括以下步骤：（a）利用设计角色检查器分析集成电路布局设计，以定位满足预定标准的集成电路布局设计的特征; 和（b）对符合标准的特征进行光学邻近校正，以便产生掩模版设计。 设计角色检查器选择特征的标准包括图案上的外角，特征的内角，特征尺寸，特征形状和特征角度。