公开(公告)号：US20110287366A1

公开(公告)日：2011-11-24

申请号：US12674408

申请日：2009-06-22

申请人： Keon Woo Lee ,  Sung Hyun Kim ,  Sang Kyu Kwak ,  Dong Kung Oh ,  Chang Soon Lee ,  Chang Ho Cho ,  Kyoung Hoon Min

发明人： Keon Woo Lee ,  Sung Hyun Kim ,  Sang Kyu Kwak ,  Dong Kung Oh ,  Chang Soon Lee ,  Chang Ho Cho ,  Kyoung Hoon Min

IPC分类号： G03F7/028 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F4/38 ,  G02F1/13394 ,  G02F2001/133519 ,  G02F2001/13398 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031

摘要： A photoresist composition is provided. The photoresist composition comprises two or more kinds of photoinitiators having different activation wavelengths whose difference is at least 20 nm. The photoresist composition has high sensitivity and forms a pattern whose thickness is easy to control depending on the exposure intensity through a slit or transflective mask. Further provided are a transparent thin film formed using the photoresist composition and a liquid crystal display device comprising the thin film.

摘要翻译： 提供光致抗蚀剂组合物。 光致抗蚀剂组合物包含具有不同激活波长的两种或更多种光引发剂，其差异为至少20nm。 光致抗蚀剂组合物具有高灵敏度，并且根据通过狭缝或透反掩模的曝光强度形成其厚度易于控制的图案。 还提供了使用光致抗蚀剂组合物形成的透明薄膜和包括该薄膜的液晶显示装置。

公开(公告)号：US08389593B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US12654583

申请日：2009-12-23

申请人： Chang Ho Cho ,  Keon Woo Lee ,  Sung Hyun Kim ,  Sang Kyu Kwak ,  Dong Kung Oh ,  Chang Soon Lee

发明人： Chang Ho Cho ,  Keon Woo Lee ,  Sung Hyun Kim ,  Sang Kyu Kwak ,  Dong Kung Oh ,  Chang Soon Lee

IPC分类号： B29C71/04 ,  A61L2/08 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08J3/28 ,  C08K5/005 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027

摘要： A composition for forming column spacers is provided. The composition comprises a radical polymerization inhibitor. The use of the composition enables simultaneous formation of a saturated pattern and a semi-transmissive pattern as column spacer patterns having different shapes, whose difference in thickness is controllable as desired although the sensitivity is slightly reduced, through a slit or semi-transmissive mask by varying the kind and amount of the radical polymerization inhibitor. Further provided are column spacers formed using composition and a liquid crystal display using the column spacers.

摘要翻译： 提供了用于形成柱间隔物的组合物。 组合物包含自由基聚合抑制剂。 使用该组合物可以同时形成饱和图案和半透明图案，作为具有不同形状的柱状间隔物图案，其厚度差可以通过狭缝或半透明掩模通过狭缝或半透明掩模通过稍微降低灵敏度来控制，尽管灵敏度略微降低 改变自由基聚合抑制剂的种类和量。 还提供了使用组合物形成的柱间隔物和使用柱间隔物的液晶显示器。

公开(公告)号：US07556910B2

公开(公告)日：2009-07-07

申请号：US11605329

申请日：2006-11-29

申请人： Sung Hyun Kim ,  Kyung Jun Kim ,  Dong Chang Choi ,  Jeong Ae Yoon ,  Hee Kwan Park ,  Geun Young Cha ,  Keon Woo Lee ,  Il Eok Kwon ,  Dong Kung Oh ,  Jong Hyun Park ,  Xiang Li Li ,  Han Soo Kim ,  Min Young Lim ,  Chang Ho Cho

发明人： Sung Hyun Kim ,  Kyung Jun Kim ,  Dong Chang Choi ,  Jeong Ae Yoon ,  Hee Kwan Park ,  Geun Young Cha ,  Keon Woo Lee ,  Il Eok Kwon ,  Dong Kung Oh ,  Jong Hyun Park ,  Xiang Li Li ,  Han Soo Kim ,  Min Young Lim ,  Chang Ho Cho

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  C07D251/24

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G03F7/0295 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： The present invention relates to a photosensitive composition comprising a triazine-based photoactive compound containing oxime ester. The photosensitive composition according to the present invention has good sensitivity, retention rate, mechanical strength, heat resistance, chemical resistance and developing durability since it contains, as photopolymerization initiator, a compound having an oxime ester group and a triazine group in one molecule and thus effectively absorbs UV radiation. Therefore, the photosensitive composition according to the present invention is advantageous not only in curing of materials for color filters, resin black matrixes, column spacers, overcoats and passivation films of liquid crystal displays, but also in high temperature process characteristics.

摘要翻译： 本发明涉及包含含有肟酯的三嗪系光敏化合物的感光性组合物。 本发明的感光性组合物由于在一个分子中含有具有肟酯基和三嗪基的化合物作为光聚合引发剂，因此具有良好的灵敏度，保留率，机械强度，耐热性，耐药品性和显影耐久性，因此 有效吸收紫外线。 因此，根据本发明的感光性组合物不仅有利于固化用于滤色器，树脂黑矩阵，柱间隔物，外涂层和液晶显示器钝化膜的材料的固化，而且具有高温加工特性。