公开(公告)号：US06251254B1

公开(公告)日：2001-06-26

申请号：US09406785

申请日：1999-09-28

申请人： Masaaki Katoh ,  Miwako Nara ,  Yukiei Matsumoto ,  Setsuro Ogata

发明人： Masaaki Katoh ,  Miwako Nara ,  Yukiei Matsumoto ,  Setsuro Ogata

IPC分类号： C25D306

CPC分类号： C25D17/10

摘要： An electrode adapted for chromium plating from trivalent chromium baths which comprises a conductive base, an electrode material layer comprising iridium oxide formed thereon, and a porous layer formed on the surface of the electrode material layer. The porous can comprise an oxide containing at least one element selected from the group consisting of silicon, molybdenum, titanium, tantalum, zirconium, and tungsten. Use of this electrode for chromium plating reduces the oxidation of trivalent chromium into hexavalent chromium.

摘要翻译： 一种适于从三价铬浴镀铬的电极，其包括导电性基体，包含形成在其上的氧化铱的电极材料层和形成在电极材料层的表面上的多孔层。 多孔可以包含含有选自硅，钼，钛，钽，锆和钨中的至少一种元素的氧化物。 使用该电极进行镀铬，可以将三价铬氧化成六价铬。