公开(公告)号：US5871654A

公开(公告)日：1999-02-16

申请号：US737923

申请日：1996-12-02

申请人： Kazuo Mannami ,  Ichiro Hayashi ,  Atsushi Tokuma

发明人： Kazuo Mannami ,  Ichiro Hayashi ,  Atsushi Tokuma

IPC分类号： G11B5/84 ,  B44C1/22

CPC分类号： G11B5/8404

摘要： To reduce occurrence of flaws in a polishing process by preventing an abrasive grain or metallic particles deposited on the surface of a glass substrate for a magnetic disk in a lapping process from entering into the subsequent polishing process. A lapping process for the main surface is a glass substrate for a magnetic disk is conducted; an etching process for the main surface of the glass substrate is conducted to the extent of a depth of 0.1 .mu.m to 3 .mu.m, followed by conducting a polishing process for the main surface of the glass substrate where the etching process has been conducted.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP96 / 00843 Sec。 371日期1996年12月2日第 102（e）1996年12月2日PCT PCT 1996年3月29日PCT公布。 WO96 / 30901 PCT出版物 日期1996年10月3日为了减少抛光过程中的缺陷的发生，通过防止在研磨过程中沉积在用于磁盘的玻璃基板的表面上的磨粒或金属颗粒进入随后的抛光工艺。 用于主表面的研磨工艺是用于磁盘的玻璃基板; 对玻璃基板的主表面进行蚀刻处理，深度为0.1μm〜3μm，对进行了蚀刻处理的玻璃基板的主表面进行研磨处理。