公开(公告)号：US09018153B1

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US14079477

申请日：2013-11-13

Applicant: The Clorox Company

Inventor： David R. Scheuing ,  Arun Agarwal ,  David E. Dabney ,  Gregory P. Dado ,  Lafayette D. Foland ,  Shuman Mitra ,  Jacqueline M. Pytel ,  William L. Smith ,  Erika Szekeres ,  Michael R. Terry ,  Kenneth L. Vieira

IPC: C11D1/02 ,  C11D3/10 ,  C11D3/395

CPC classification number: C11D3/3953 ,  C11D3/34 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/3951 ,  C11D3/3956

Abstract: The invention relates to compositions including a hypohalite or hypochlorous acid and a soluble salt of 2,4,6 mesitylene sulfonate. The compositions may include a surfactant, a buffer, or combinations thereof. Other adjuvants may also be present. Such compositions do not require the inclusion of high concentrations of sodium hydroxide or other soluble hydroxide salts to drastically increase pH (and thus stability), although such hydroxides may be present if desired.

Abstract translation: 本发明涉及包含次卤酸盐或次氯酸和2,4,6-三甲苯磺酸盐的可溶性盐的组合物。 组合物可以包括表面活性剂，缓冲剂或其组合。 也可以存在其它佐剂。 这样的组合物不需要包含高浓度的氢氧化钠或其它可溶性氢氧化物盐，以显着增加pH（因而稳定性），尽管如果需要可存在这种氢氧化物。