公开(公告)号：US06704095B2

公开(公告)日：2004-03-09

申请号：US10060282

申请日：2002-01-30

申请人： Jörg Schultz

发明人： Jörg Schultz

IPC分类号： G03B2754

CPC分类号： G02B27/0983 ,  G02B17/0621 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G02B27/0905 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  Y10S359/90

摘要： There is provided an illumination system for a projection exposure system. The illumination system includes (a) a light source for the emission of wavelengths of ≦193 nm, (b) a device for producing secondary light sources, the device including a mirror having raster elements, (c) a diaphragm plane, (d) a first optical element for imaging the diaphragm plane in an exit pupil of the illumination system, (e) an object plane in which images of the raster elements are substantially in line and illuminate a predetermined field with an intensity distribution, and (f) a second optical element for producing a light distribution in the exit pupil. The light distribution is specified by a parameter selected from the group consisting of type and filling degree, and the parameter is modified by a technique selected from the group consisting of exchanging, displacing and deforming the second optical element.

摘要翻译： 提供了一种用于投影曝光系统的照明系统。 照明系统包括（a）用于发射波长<= 193nm的光源，（b）用于产生二次光源的装置，该装置包括具有光栅元件的反射镜，（c）光阑平面，（d ），用于对所述照明系统的出射光瞳成像所述光阑面的第一光学元件，（e）光栅元件的图像基本上成行并且以强度分布照射预定场的物平面，以及（f） 用于在出射光瞳中产生光分布的第二光学元件。 光分布由选自类型和填充度的参数指定，并且通过从由第二光学元件的交换，移位和变形的组中选择的技术来修改参数。