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    Photoresist composition
    31.
    发明授权
    Photoresist composition 失效
    光刻胶组成

    公开(公告)号：US06806026B2

    公开(公告)日：2004-10-19

    申请号：US10159635

    申请日：2002-05-31

    申请人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Brock ,  Richard A. DiPietro ,  Debra Fenzel-Alexander ,  Carl Larson ,  David R. Medeiros ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong ,  Gregory M. Wallraff

    发明人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Brock ,  Richard A. DiPietro ,  Debra Fenzel-Alexander ,  Carl Larson ,  David R. Medeiros ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong ,  Gregory M. Wallraff

    IPC分类号： G03F7039

    CPC分类号： C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/108

    摘要： A photoresist composition is provided that includes a polymer having at least one acrylate or methacrylate monomer having a formula: where R1 represents hydrogen (H), a linear or branched alkyl group of 1 to 20 carbons, or a semi- or perfluorinated linear or branched alkyl group of 1 to 20 carbons; and where R2 represents an unsubstituted aliphatic group or a substituted aliphatic group having zero or one trifluoromethyl (CF3) group attached to each carbon of the substituted aliphatic group, or a substituted or unsubstituted aromatic group; and where R3 represents hydrogen (H), methyl (CH3), trifluoromethyl (CF3), difluoromethyl (CHF2), fluoromethyl (CH2F), or a semi- or perfluorinated aliphatic chain; and where R4 represents trifluoromethyl (CF3), difluoromethyl (CHF2), fluoromethyl (CH2F), or a semi- or perfluorinated substituted or unsubstituted aliphatic group. A method of patterning a substrate using the photoresist composition is also provided herein.

    摘要翻译： 提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包括具有至少一种具有下式的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯单体的聚合物：其中R 1表示氢（H），1-20个碳的直链或支链烷基，或半或全氟 1〜20个碳原子的直链或支链烷基; 并且其中R 2表示未取代的脂族基团或具有连接在取代的脂族基团的每个碳上的零个或一个三氟甲基（CF 3）基团的取代的脂族基团，或取代或未取代的芳族基团; 并且其中R 3表示氢（H），甲基（CH 3），三氟甲基（CF 3），二氟甲基（CHF 2），氟甲基（CH 2 F）或半或全氟化脂族链; 并且其中R 4表示三氟甲基（CF 3），二氟甲基（CHF 2），氟甲基（CH 2 F）或半或全氟取代或未取代的脂族基团。 本文还提供了使用光致抗蚀剂组合物图案化衬底的方法。

    Polymer blend and associated methods of preparation and use
    36.
    发明授权
    Polymer blend and associated methods of preparation and use 失效
    聚合物混合物及相关的制备和使用方法

    公开(公告)号：US06794110B2

    公开(公告)日：2004-09-21

    申请号：US10090646

    申请日：2002-03-04

    申请人： Gregory Breyta ,  Hiroshi Ito ,  Hoa D. Truong

    发明人： Gregory Breyta ,  Hiroshi Ito ,  Hoa D. Truong

    IPC分类号： G03F7004

    CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08L33/16 ,  C08L2205/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/108 ,  C08L2666/04

    摘要： A polymer blend is provided for use in a lithographic photoresist composition, particularly a chemical amplification photoresist. In a preferred embodiment, the polymer blend is substantially transparent to deep ultraviolet radiation, i.e., radiation of a wavelength less than 250 nm, including wavelengths of 157 nm, 193 nm and 248 nm, and has improved sensitivity and resolution. Processes for preparing and using the polymer blend are also provided, as are lithographic photoresist compositions that contain the polymer blend.

    摘要翻译： 提供聚合物共混物用于光刻抗蚀剂组合物，特别是化学扩增光致抗蚀剂。 在优选的实施方案中，聚合物共混物对深紫外辐射（即，波长小于250nm，包括157nm，193nm和248nm的波长）的辐射基本上是透明的，并且具有改进的灵敏度和分辨率。 还提供了制备和使用聚合物共混物的方法，以及含有聚合物共混物的平版光刻胶组合物。

    Method for using compositions containing fluorocarbinols in lithographic processes
    40.
    发明授权
    Method for using compositions containing fluorocarbinols in lithographic processes 有权
    在光刻工艺中使用含有氟代甲醇的组合物的方法

    公开(公告)号：US08124327B2

    公开(公告)日：2012-02-28

    申请号：US12794208

    申请日：2010-06-04

    申请人： Gregory Breyta ,  Daniel Paul Sanders ,  Hoa D. Truong

    发明人： Gregory Breyta ,  Daniel Paul Sanders ,  Hoa D. Truong

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    摘要： The present invention involves a method for generating a photoresist image on a substrate. The method comprises coating a substrate with a film comprising a polymer comprising fluorocarbinol monomers; imagewise exposing the film to radiation; heating the film to a temperature of, at, or below about 90° C. and developing the image. The present invention also relates to a method for generating a photoresist image on a substrate where a polymer comprising fluorocarbinol monomers is used as a protective top coat.

    摘要翻译： 本发明涉及一种在衬底上产生光刻胶图像的方法。 该方法包括用包含含氟甲醇单体的聚合物的膜涂覆基材; 将膜成像曝光于辐射; 将膜加热至约90℃或低于约90℃的温度并显影图像。 本发明还涉及一种在基材上产生光致抗蚀剂图像的方法，其中使用含有氟甲醇单体的聚合物作为保护面漆。