公开(公告)号：US20070292244A1

公开(公告)日：2007-12-20

申请号：US11424461

申请日：2006-06-15

申请人： ROBERT B. MOORE ,  Eric Ruhland ,  Satish Sundar ,  Mario David Silvetti

发明人： ROBERT B. MOORE ,  Eric Ruhland ,  Satish Sundar ,  Mario David Silvetti

IPC分类号： H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67742 ,  H01L21/67201 ,  Y10S414/135 ,  Y10T29/49826

摘要： A new apparatus for processing substrates is disclosed. A multi-level load lock chamber having four environmentally isolated chambers interfaces with a transfer chamber that has a robotic assembly. The robotic assembly has two arms that each can move horizontally as the robotic assembly rotates about its axis. The arms can reach into the isolated chambers of the load lock to receive substrates from the bottom isolated chambers, transport the substrates to process chambers, and then place the substrates in the upper chambers. The isolated chambers in the load lock chamber may have a pivotably attached lid that may be opened to access the inside of the isolated chambers.

摘要翻译： 公开了一种用于处理衬底的新设备。 具有四个环境隔离室的多级装载锁定室与具有机器人组件的传送室接口。 机器人组件具有两个臂，每个臂可随着机器人组件围绕其轴旋转而水平移动。 臂可以到达负载锁的隔离室，以从底部隔离室接收衬底，将衬底输送到处理室，然后将衬底放置在上腔室中。 负载锁定室中的隔离室可以具有可枢转地连接的盖，其可以打开以进入隔离室的内部。

公开(公告)号：US20060219179A1

公开(公告)日：2006-10-05

申请号：US11423966

申请日：2006-06-14

申请人： Satish Sundar

发明人： Satish Sundar

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4585 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68728

摘要： In one embodiment, a substrate centering apparatus for centering a substrate on a substrate support is provided. In one embodiment, the invention comprises an apparatus that is mounted to an underside of a substrate support and includes a lever that projects upward through a support surface of the substrate support. The lever may be biased toward a center of the substrate support to contact an edge of a substrate. A mechanism is coupled to the lever and moves the lever radially outward to release the substrate. In one embodiment, the mechanism is actuated as the substrate support moves downward to a position that facilitates substrate handoff.

摘要翻译： 在一个实施例中，提供了一种用于将衬底定心在衬底支撑件上的衬底定心装置。 在一个实施例中，本发明包括安装到基板支撑件的下侧的装置，并且包括通过基板支撑件的支撑表面向上突出的杠杆。 杠杆可以朝着基板支撑件的中心偏置以接触基板的边缘。 机构联接到杠杆并且将杆径向向外移动以释放基板。 在一个实施例中，当衬底支撑件向下移动到便于衬底切换的位置时，机构被致动。

公开(公告)号：US07107125B2

公开(公告)日：2006-09-12

申请号：US10697731

申请日：2003-10-29

申请人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario David Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario David Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： G05B15/00 ,  G05B19/00

CPC分类号： H01L21/67259 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/681

摘要： A robotic positioning system that cooperates with a sensing system to correct robot motion is provided. The sensing system is decoupled from the sensors used conventionally to control the robot's motion, thereby providing repeatable detection of the robot's true position. In one embodiment, the positioning system includes a robot, a controller, a motor sensor and a decoupled sensor. The robot has at least one motor for manipulating a linkage controlling the displacement of a substrate support coupled thereto. The motor sensor is provides the controller with motor actuation information utilized to move the substrate support. The decoupled sensor provides information indicative of the true position the substrate support that may be utilized to correct the robot's motion.

摘要翻译： 提供了与传感系统配合以校正机器人运动的机器人定位系统。 感测系统与常规用于控制机器人运动的传感器分离，从而提供机器人真实位置的可重复检测。 在一个实施例中，定位系统包括机器人，控制器，马达传感器和去耦传感器。 机器人具有至少一个用于操纵联动装置的电动机，控制联接到其上的衬底支架的位移。 马达传感器为控制器提供用于移动基板支架的马达驱动信息。 解耦传感器提供指示可用于校正机器人运动的基板支撑件的真实位置的信息。

公开(公告)号：US06327517B1

公开(公告)日：2001-12-04

申请号：US09626899

申请日：2000-07-27

申请人： Satish Sundar

发明人： Satish Sundar

IPC分类号： G06F1900

CPC分类号： H01L21/681

摘要： A system and an associated method for positioning a substrate includes transferring a substrate along a path intersecting a plane of a sensor beam; determining a center point and an orientation indicator of the substrate utilizing signals from the sensor beam; and positioning a substrate according to the center point and the orientation indicator of the substrate.

摘要翻译： 用于定位衬底的系统和相关联的方法包括沿着与传感器束的平面相交的路径传送衬底; 使用来自传感器束的信​​号确定衬底的中心点和取向指示器; 并且根据基板的中心点和取向指示器来定位基板。

公开(公告)号：US5905302A

公开(公告)日：1999-05-18

申请号：US752462

申请日：1996-11-18

申请人： Christopher Lane ,  Satish Sundar

发明人： Christopher Lane ,  Satish Sundar

IPC分类号： H01L21/673 ,  H01L23/02

CPC分类号： H01L21/67742 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67201

摘要： The present invention provides a wafer cassette generally comprising one or more wafer support plates defining two or more coplanar wafer seats, a movable stem supporting the wafer support plates, and an actuating member connected to the stem to move the wafer support plates.

摘要翻译： 本发明提供了一种晶片盒，其通常包括限定两个或更多个共面晶片座的一个或多个晶片支撑板，支撑晶片支撑板的可移动的杆以及连接到杆的致动构件以移动晶片支撑板。

公开(公告)号：US20120271590A1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：US13523751

申请日：2012-06-14

申请人： Vijay Sakhare ,  Sekar Krishnasamy ,  Mordechai Leska ,  Donald Foldenauer ,  Rinat Shimshi ,  Marvin L. Freeman ,  Jeffery Hudgens ,  Satish Sundar

发明人： Vijay Sakhare ,  Sekar Krishnasamy ,  Mordechai Leska ,  Donald Foldenauer ,  Rinat Shimshi ,  Marvin L. Freeman ,  Jeffery Hudgens ,  Satish Sundar

IPC分类号： G06F15/00

CPC分类号： H01L21/681 ,  B25J9/1692 ,  G01B11/03 ,  G01B21/042 ,  G05B2219/37278 ,  G05B2219/37608 ,  G05B2219/39047 ,  G05B2219/39056 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748

摘要： Described herein is a method and apparatus for performing calibrations on robotic components. In one embodiment, a method for performing robotic calibrations includes moving the calibrating device across a target (e.g., a wafer chuck). Next, the method includes measuring distances between light spots from the sensors and a perimeter of the target using the sensors located on the calibrating device. Next, the method includes determining a displacement of the calibrating device relative to a center of the target. Then, the method includes determining a rotation angle of the calibrating device relative to a system of coordinates of the target. Next, the method includes calibrating a robot position of the robot based on the displacement and rotation angle of the calibrating device with respect to the target.

摘要翻译： 这里描述了一种用于对机器人部件执行校准的方法和装置。 在一个实施例中，用于执行机器人校准的方法包括使校准装置跨越目标（例如，晶片卡盘）移动。 接下来，该方法包括使用位于校准装置上的传感器来测量来自传感器的光点和目标周边之间的距离。 接下来，该方法包括确定校准装置相对于目标的中心的位移。 然后，该方法包括确定校准装置相对于目标系的坐标系的旋转角度。 接下来，该方法包括基于校准装置相对于目标的位移和旋转角度来校准机器人的机器人位置。

公开(公告)号：US20060245856A1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：US11423970

申请日：2006-06-14

申请人： Satish Sundar ,  Sanjeev Baluja

发明人： Satish Sundar ,  Sanjeev Baluja

IPC分类号： H01L21/677

CPC分类号： H01L21/68707 ,  Y10S414/141

摘要： In one embodiment, the invention is a substrate edge gripper assembly for positioning a semiconductor substrate upon a transfer robot. In one embodiment, a modular assembly comprises spring loaded jaws that are mounted on either side of a robot end effector. The jaws are adapted to be actuated by a feature remote from the robot end effector to release the substrate for delivery.

摘要翻译： 在一个实施例中，本发明是用于将半导体衬底定位在传送机器人上的衬底边缘夹持器组件。 在一个实施例中，模块化组件包括安装在机器人端部执行器的任一侧上的弹簧加载的夹爪。 钳口适于由远离机器人末端执行器的特征致动以释放用于输送的基底。

公开(公告)号：US20060224276A1

公开(公告)日：2006-10-05

申请号：US11424377

申请日：2006-06-15

申请人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： G06F19/00 ,  H01L21/306 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67259 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/681

摘要： A robotic positioning system that cooperates with a sensing system to correct robot motion is provided. The sensing system is decoupled from the sensors used conventionally to control the robot's motion, thereby providing repeatable detection of the robot's true position. In one embodiment, the positioning system includes a robot, a controller, a motor sensor and a decoupled sensor. The robot has at least one motor for manipulating a linkage controlling the displacement of a substrate support coupled thereto. The motor sensor is provides the controller with motor actuation information utilized to move the substrate support. The decoupled sensor provides information indicative of the true position the substrate support that may be utilized to correct the robot's motion.

摘要翻译： 提供了与传感系统配合以校正机器人运动的机器人定位系统。 感测系统与常规用于控制机器人运动的传感器解耦，从而提供机器人真实位置的可重复检测。 在一个实施例中，定位系统包括机器人，控制器，马达传感器和去耦传感器。 机器人具有至少一个用于操纵联动装置的电动机，控制联接到其上的衬底支架的位移。 马达传感器为控制器提供用于移动基板支架的马达驱动信息。 解耦传感器提供指示可用于校正机器人运动的基板支撑件的真实位置的信息。

公开(公告)号：US06856863B1

公开(公告)日：2005-02-15

申请号：US09626362

申请日：2000-07-27

申请人： Satish Sundar

发明人： Satish Sundar

IPC分类号： B25J9/10 ,  B25J9/00 ,  B25J9/16 ,  B25J9/22 ,  B65G49/07 ,  G05B19/401 ,  G05B19/404 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G05B19/18

CPC分类号： H01L21/67259 ,  B25J9/1692 ,  G05B19/4015 ,  G05B2219/39024 ,  G05B2219/45031

摘要： An automatic calibration method and apparatus for robots, particularly robots used in substrate processing systems. The method for calibrating a robot in a processing chamber comprises: determining a useable free-space for the robot in a processing system; determining a distance between a position of a robot end effector and a target position in the useable free-space; and generating a path within the useable space from the position of the robot end effector to the target position using incremental displacements of the robot end effector that minimize the distance between the robot end effector and the target position. The apparatus for calibrating a robot in a processing system comprises: a sensor disposed at a location to be taught; a receiver disposed on a robot end effector; and a microprocessor connected to receive signals from the sensor and the receiver to determine a distance between the sensor and the receiver, wherein the microprocessor generates a path using incremental movements that minimizes the distance between the sensor and the receiver.

摘要翻译： 用于机器人的自动校准方法和装置，特别是用于衬底处理系统中的机器人。 用于在处理室中校准机器人的方法包括：在处理系统中确定机器人的可用空闲空间; 确定机器人末端执行器的位置与可用空间中的目标位置之间的距离; 以及使用最小化机器人端部执行器与目标位置之间的距离的机器人端部执行器的增量位移，在从机器人端部执行器的位置到目标位置的可用空间内生成路径。 用于在处理系统中校准机器人的装置包括：设置在要教导的位置的传感器; 设置在机器人端部执行器上的接收器; 以及微处理器，其连接以从传感器和接收器接收信号以确定传感器和接收器之间的距离，其中微处理器使用使传感器和接收器之间的距离最小化的增量移动来产生路径。

公开(公告)号：US06224312B1

公开(公告)日：2001-05-01

申请号：US08749614

申请日：1996-11-18

申请人： Satish Sundar

发明人： Satish Sundar

IPC分类号： B65G4907

CPC分类号： H01L21/67167 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67742 ,  Y10S414/139

摘要： An apparatus for processing wafers generally comprising a transfer chamber, a loadlock chamber mounted on the transfer chamber, one or more processing chambers mounted on the transfer chamber, a wafer handling member disposed in the transfer chamber, and a system controller programmed to move wafers through the transfer chamber following time optimal paths.

摘要翻译： 一种用于处理晶片的设备，其通常包括传送室，安装在传送室上的负载锁定室，安装在传送室上的一个或多个处理室，设置在传送室中的晶片处理部件，以及被编程为将晶片移动通过的系统控制器 传输室跟随时间最优路径。