公开(公告)号：US08054445B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US11499855

申请日：2006-08-07

申请人： Hans Jansen ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Anthonie Kuijper

发明人： Hans Jansen ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Anthonie Kuijper

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70616

摘要： A lithographic projection apparatus in which a liquid supply system and the geometry of the objects on the substrate table are arranged to avoid high velocity immersion liquid flowing over sensors.

摘要翻译： 一种光刻投影装置，其中液体供应系统和基板上的物体的几何形状被布置以避免流过传感器的高速浸没液体。

公开(公告)号：US07671968B2

公开(公告)日：2010-03-02

申请号：US11486378

申请日：2006-07-14

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Arno Jan Bleeker ,  Heine Melle Mulder ,  Oscar Franciscus Jozephus Noordman ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Laurentius Catrinus Jorritsma ,  Mark Trentelman ,  Gerrit Streutker

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Arno Jan Bleeker ,  Heine Melle Mulder ,  Oscar Franciscus Jozephus Noordman ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Laurentius Catrinus Jorritsma ,  Mark Trentelman ,  Gerrit Streutker

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70733 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70466

摘要： A lithographic apparatus includes a masking device that includes a first masking part configured to obscure a first part of a first patterning device before the pattern of the first patterning device is impinged by a radiation beam, a second masking part having an adjustable length, the second masking part configured to obscure a second part of the first patterning device after the pattern of the first patterning device is impinged by the radiation beam and to obscure a first part of a second patterning device before the pattern of the second patterning device is impinged by the radiation beam, and a third masking part configured to obscure a second part of the second patterning device after the pattern of the second patterning device is impinged by the radiation beam.

摘要翻译： 光刻设备包括掩模装置，该掩模装置包括第一掩蔽部分，其被配置为在第一图案形成装置的图案被辐射束撞击之前遮蔽第一图案形成装置的第一部分，第二掩模部分具有可调长度，第二掩模部分 掩模部件被配置为在第一图案形成装置的图案被辐射束撞击之后遮蔽第一图案形成装置的第二部分，并且在第二图案形成装置的图案被第二图案形成装置的图案撞击之前使第二图案形成装置的第一部分模糊 辐射束和第三掩模部分，其被配置为在第二图案形成装置的图案被辐射束撞击之后使第二图案形成装置的第二部分模糊。

公开(公告)号：US20080158528A1

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：US11984837

申请日：2007-11-21

申请人： Judocus Marie Dominicus Stoeldraijer ,  Erik Roelof Loopstra ,  Heine Melle Mulder ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Freerk Adriaan Stoffels ,  Laurentius Catrinus Jorritsma ,  Reiner Maria Jungblut

发明人： Judocus Marie Dominicus Stoeldraijer ,  Erik Roelof Loopstra ,  Heine Melle Mulder ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Freerk Adriaan Stoffels ,  Laurentius Catrinus Jorritsma ,  Reiner Maria Jungblut

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/68

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70158

摘要： In a lithographic apparatus, a corrective irradiation procedure is performed using an illumination mode arranged so as to heat a selected part of an element of the projection system near a pupil plane thereof that is relatively unheated during production exposure. The corrective irradiation procedure aims to improve uniformity of optical element heating of the projective system and/or to reduce a phase gradient.

摘要翻译： 在光刻设备中，使用照射模式来执行校正照射程序，所述照明模式被布置成在生产曝光期间将相对不加热的瞳孔平面附近的投影系统的元件的选定部分加热。 校正辐射程序旨在提高投影系统的光学元件加热的均匀性和/或降低相位梯度。

公开(公告)号：US20130286374A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：US13928203

申请日：2013-06-26

申请人： Arjen BOOGAARD ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Antonius Spee

发明人： Arjen BOOGAARD ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Antonius Spee

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958

摘要： An extreme ultraviolet exposure apparatus includes a radiation system configured to supply a beam of extreme ultraviolet radiation; a support configured to support a patterning device, the patterning device configured to pattern the beam of extreme ultraviolet radiation according to a desired pattern; a substrate table having an area configured to support a substrate; a projection system configured to project the patterned beam of extreme ultraviolet radiation onto a target portion of the substrate, the projection system comprising a reflective optical system; wherein at least a part of the apparatus that during use of the apparatus is exposed to the beam of extreme ultraviolet radiation is coated with a coating, the coating comprising a metal oxide, or a photocatalyst, or a semiconductor, or any combination thereof.

摘要翻译： 一种极紫外曝光装置包括一个被配置为提供一束极紫外线辐射的辐射系统; 构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置被配置为根据期望的图案来对所述紫外线辐射束进行图案化; 具有被配置为支撑衬底的区域的衬底台; 投影系统，被配置为将所述图案化的极紫外辐射束投影到所述基板的目标部分上，所述投影系统包括反射光学系统; 其中所述装置的至少一部分在所述装置的使用期间暴露于所述紫外线辐射束时被涂覆，所述涂层包含金属氧化物或光催化剂，或半导体或其任何组合。

公开(公告)号：US20090027642A1

公开(公告)日：2009-01-29

申请号：US12232967

申请日：2008-09-26

申请人： Arjen Boogaard ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Spee

发明人： Arjen Boogaard ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Spee

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958

摘要： An exposure apparatus includes a radiation system configured to supply a projection beam of radiation, and a patterning device configured to pattern the projection beam according to a desired pattern. The apparatus includes a substrate table having an area configured to support a substrate, and a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate. At least a part of the apparatus that during use of the apparatus is exposed to radiation is coated with a coating. The coating includes a metal oxide, or a photocatalyst, or a semiconductor, or any combination thereof.

摘要翻译： 曝光装置包括被配置为提供投影射线束的辐射系统，以及被配置为根据期望的图案对投影光束进行图案化的图案形成装置。 该装置包括具有配置为支撑基板的区域的基板台，以及配置成将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统。 在使用设备暴露于辐射的过程中，装置的至少一部分涂覆有涂层。 涂层包括金属氧化物或光催化剂，或半导体，或其任何组合。

公开(公告)号：US07453078B2

公开(公告)日：2008-11-18

申请号：US11896981

申请日：2007-09-07

申请人： Haico Victor Kok ,  Marcus Adrianus Van De Kerhof ,  Borgert Kruizinga ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Bearrach Moest ,  Marc Antonius Maria Haast ,  Peter Weissbrodt ,  Manfred Schrenk ,  Torsten Harzendorf

发明人： Haico Victor Kok ,  Marcus Adrianus Van De Kerhof ,  Borgert Kruizinga ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Bearrach Moest ,  Marc Antonius Maria Haast ,  Peter Weissbrodt ,  Manfred Schrenk ,  Torsten Harzendorf

IPC分类号： G01N21/84 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7085

摘要： A sensor for use at substrate level in a high numerical aperature lithographic apparatus, the sensor having a transparent plate that covers a sensing element and includes elements that improve coupling of radiation into the sensing element. The elements include Fresnel lenses, holographic optical elements, inverted Winston Cones, spherical lenses and surface roughening.

摘要翻译： 一种用于高数值温度光刻设备中的衬底级别的传感器，该传感器具有覆盖感测元件的透明板，并且包括改善辐射与感测元件的耦合的元件。 元件包括菲涅尔透镜，全息光学元件，倒置的温斯顿锥体，球面透镜和表面粗糙化。

公开(公告)号：US07282701B2

公开(公告)日：2007-10-16

申请号：US11067491

申请日：2005-02-28

申请人： Haico Victor Kok ,  Marcus Adrianus Van De Kerhof ,  Borgert Kruizinga ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Bearrach Moest ,  Marc Antonius Maria Haast ,  Peter Weissbrodt ,  Manfred Schrenk ,  Torsten Harzendorf

发明人： Haico Victor Kok ,  Marcus Adrianus Van De Kerhof ,  Borgert Kruizinga ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Bearrach Moest ,  Marc Antonius Maria Haast ,  Peter Weissbrodt ,  Manfred Schrenk ,  Torsten Harzendorf

IPC分类号： H01J3/14 ,  H01J5/16 ,  H01J40/14

CPC分类号： G03F7/7085

摘要： A sensor for use at substrate level in a high numerical aperature lithographic apparatus, the sensor having a transparent plate that covers a sensing element and includes elements that improve coupling of radiation into the sensing element. The elements include Fresnel lenses, holographic optical elements, inverted Winston Cones, spherical lenses and surface roughening.

摘要翻译： 一种用于高数值温度光刻设备中的衬底级别的传感器，该传感器具有覆盖感测元件的透明板，并且包括改善辐射与感测元件的耦合的元件。 元件包括菲涅尔透镜，全息光学元件，倒置的温斯顿锥体，球面透镜和表面粗糙化。

公开(公告)号：US08542341B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US12232967

申请日：2008-09-26

申请人： Arjen Boogaard ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Antonius Spee

发明人： Arjen Boogaard ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Antonius Spee

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958

摘要： An exposure apparatus includes a radiation system configured to supply a projection beam of radiation, and a patterning device configured to pattern the projection beam according to a desired pattern. The apparatus includes a substrate table having an area configured to support a substrate, and a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate. At least a part of the apparatus that during use of the apparatus is exposed to radiation is coated with a coating. The coating includes a metal oxide, or a photocatalyst, or a semiconductor, or any combination thereof.

公开(公告)号：US07450217B2

公开(公告)日：2008-11-11

申请号：US11033485

申请日：2005-01-12

申请人： Arjen Boogaard ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Antonius Spee

发明人： Arjen Boogaard ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Wilhelmus Sebastianus Marcus Maria Ketelaars ,  Carolus Ida Maria Antonius Spee

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958

摘要： A coating for sensors and/or parts of an exposure apparatus, for example a sensor on a substrate table of a lithography apparatus, include a semiconductor, a photocatalyst, and/or a metal oxide.

摘要翻译： 用于传感器和/或曝光装置的部件的涂层，例如光刻设备的衬底台上的传感器，包括半导体，光催化剂和/或金属氧化物。