公开(公告)号：US07330238B2

公开(公告)日：2008-02-12

申请号：US11090699

申请日：2005-03-28

申请人： Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Evert Hendrik Jan Draaijer ,  Nicolaas Ten Kate ,  Frits Van Der Meulen ,  Mark Johannes Hermanus Frencken ,  Martijn Houkes ,  Antonius Henricus Arends ,  Minne Cuperus

发明人： Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Evert Hendrik Jan Draaijer ,  Nicolaas Ten Kate ,  Frits Van Der Meulen ,  Mark Johannes Hermanus Frencken ,  Martijn Houkes ,  Antonius Henricus Arends ,  Minne Cuperus

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus comprises a substrate table to hold a substrate and a projection system to project a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The lithographic apparatus further comprises a fluid supply system to supply a fluid between the substrate and a final lens element of the projection system as well as a position controller to control a position of the fluid supply system. The position controller is configured to, being provided with a position quantity of the substrate, determine a desired position of the liquid supply system by adding a position offset to the position quantity of the substrate, and position the liquid supply system according to the desired position. The position quantity may comprise a position and/or rotational position of the substrate table and/or a height function of a substrate height.

摘要翻译： 光刻设备包括用于保持基板的基板台和将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。 光刻设备还包括一个流体供应系统，用于在基板和投影系统的最终透镜元件之间提供流体，以及位置控制器，用于控制流体供应系统的位置。 位置控制器被配置为具有基板的位置量，通过向基板的位置量添加位置偏移来确定液体供应系统的期望位置，并且根据期望位置定位液体供应系统 。 位置量可以包括衬底台的位置和/或旋转位置和/或衬底高度的高度函数。

公开(公告)号：US07295283B2

公开(公告)日：2007-11-13

申请号：US10816189

申请日：2004-04-02

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Petrus Marinus Christianus Maria Van Den Biggelaar ,  Frits Van Der Meulen ,  Franciscus Andreas Cornelis Johannes Spanjers ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Arend-Jan Migchelbrink

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Petrus Marinus Christianus Maria Van Den Biggelaar ,  Frits Van Der Meulen ,  Franciscus Andreas Cornelis Johannes Spanjers ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Arend-Jan Migchelbrink

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus for immersion lithography is described in which a compensation controller controls actuators to apply forces to the substrate equal in magnitude and opposite in direction to forces which are applied to the substrate by a liquid supply system which supplies liquid between the projection system and the substrate.

摘要翻译： 描述了一种用于浸没式光刻的光刻设备，其中补偿控制器控制致动器以将力施加到基板上，其尺寸相等，方向与施加到基板的力相反，该液体供应系统在投影系统和 基质。

公开(公告)号：US07265813B2

公开(公告)日：2007-09-04

申请号：US11022950

申请日：2004-12-28

申请人： Martijn Houkes ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox

发明人： Martijn Houkes ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70725

摘要： A lithographic apparatus includes a first movable element (such as an immersion liquid supply system), which is in operation in contact with a surface of a second movable element (such as a substrate table). Further, the lithographic apparatus includes a second element controller (such as a substrate table controller) to control a position quantity of the second movable element. Disturbance forces caused by, e.g., movements of the first and second movable elements with respect to each other, due to capillary forces disturb a position of the first and second movable elements. To at least partly correct a position of the second movable element due to such disturbance forces, the lithographic apparatus includes a feedforward control path to provide a disturbance force feedforward signal to the second element controller, the feedforward control path including a disturbance force estimator to estimate a disturbance force from a position quantity of the first movable element.

摘要翻译： 光刻设备包括与第二可移动元件（例如基板台）的表面接触的第一可移动元件（例如浸没液体供应系统）。 此外，光刻设备包括用于控制第二可移动元件的位置量的第二元件控制器（诸如基板台控制器）。 由于毛细作用力引起的第一和第二可移动元件相对于彼此的运动引起的干扰力会扰乱第一和第二可移动元件的位置。 为了由于这种干扰力至少部分地校正第二可移动元件的位置，光刻设备包括前馈控制路径以向第二元件控制器提供干扰力前馈信号，前馈控制路径包括扰动力估计器以估计 来自第一可移动元件的位置量的扰动力。

公开(公告)号：US07239369B2

公开(公告)日：2007-07-03

申请号：US10670791

申请日：2003-09-26

申请人： Hernes Jacobs ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70766

摘要： A lithographic projection apparatus in which a balance mass is supported by a base frame using at least one supporting member which is coupled to both the base frame and balance mass. Free horizontal movement is provided by providing the supporting member with at least two pivot points.

摘要翻译： 一种光刻投影装置，其中平衡块由基架支撑，所述平衡块使用耦合到所述基架和平衡块的至少一个支撑构件。 通过为支撑构件提供至少两个枢转点来提供自由水平运动。

公开(公告)号：US07170580B2

公开(公告)日：2007-01-30

申请号：US10823772

申请日：2004-04-14

申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Leon Martin Levasier

发明人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Leon Martin Levasier

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/70

CPC分类号： G03F9/7019 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/709 ,  G03F9/7011

摘要： A projection system includes at least one projection device configured to receive a beam of radiation coming from a first object and project the beam to a second object. The projection system further includes a sensor configured to measure a spatial orientation of the at least one projection device and a processing unit configured to communicate with the at least one sensor. The processing unit is configured to communicate with a positioning device configured to adjust the position of at least one of the first object and the second object based on the measured spatial orientation of the at least one projection device.

摘要翻译： 投影系统包括至少一个投影装置，其被配置为接收来自第一物体的辐射束并且将光束投射到第二物体。 投影系统还包括被配置为测量所述至少一个投影装置的空间取向的传感器和被配置为与所述至少一个传感器通信的处理单元。 处理单元被配置成与定位装置进行通信，该定位装置被配置为基于所测量的至少一个投影装置的空间取向来调整第一物体和第二物体中的至少一个的位置。

公开(公告)号：US07016013B2

公开(公告)日：2006-03-21

申请号：US10755666

申请日：2004-01-13

申请人： Petrus Marinus Christianus Maria Van Der Biggelaar ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Johannes Heintze ,  Tim Tso

发明人： Petrus Marinus Christianus Maria Van Der Biggelaar ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Johannes Heintze ,  Tim Tso

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70725

摘要： A lithographic apparatus capable of reducing sensitivity to fluctuating scanning speed and improve lithographic scanning processing time, is presented herein. In one embodiment, the apparatus comprises a modulator that modulates a patterned lithographic beam based on the scanning speed as the beam and substrate move relative to each other. The modulator is configured to modulate an attribute of a patterned lithographic beam, such as, the intensity or size of the beam.

摘要翻译： 本文提供能够降低对波动的扫描速度的灵敏度并提高光刻扫描处理时间的光刻设备。 在一个实施例中，该装置包括调制器，当光束和衬底相对于彼此移动时，基于扫描速度来调制图案化的光刻光束。 调制器被配置为调制图案化光刻光束的属性，例如光束的强度或尺寸。

公开(公告)号：US08724083B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US13082038

申请日：2011-04-07

申请人： Bob Streefkerk ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Gerardus Petrus Mattijs Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Antonius Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

发明人： Bob Streefkerk ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Gerardus Petrus Mattijs Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Antonius Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/709

摘要： In a lithographic apparatus, a localized area of the substrate surface under a projection system is immersed in liquid. The height of a liquid supply system above the surface of the substrate can be varied using actuators. A control system uses feedforward or feedback control with input of the surface height of the substrate to maintain the liquid supply system at a predetermined height above the surface of the substrate.

摘要翻译： 在光刻设备中，将投影系统下的基板表面的局部区域浸入液体中。 可以使用致动器来改变衬底表面上方的液体供应系统的高度。 控制系统使用前馈或反馈控制输入基板的表面高度，以将液体供应系统保持在基板表面上方的预定高度。

公开(公告)号：US08681316B2

公开(公告)日：2014-03-25

申请号：US13116934

申请日：2011-05-26

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Thomas Augustus Mattaar ,  Martinus Theodorus Jacobus Pieterse ,  Rob Antonius Andries Verkooijen

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Thomas Augustus Mattaar ,  Martinus Theodorus Jacobus Pieterse ,  Rob Antonius Andries Verkooijen

IPC分类号： G01C9/00 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  H02K41/02

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70508

摘要： A measurement system is configured to derive a position quantity of an object, the measurement system includes at least one position quantity sensor configured to provide respective position quantity measurement signals; a position quantity calculator configured to determine a position quantity of the object from the position quantity measurement signal, wherein the position quantity calculator includes a torsion estimator configured to estimate a torsion of the object, the position quantity calculator being configured to correct the determined position quantity of the object for the estimated torsion.

摘要翻译： 测量系统被配置为导出物体的位置量，测量系统包括配置成提供各个位置量测量信号的至少一个位置量传感器; 位置量计算器，其被配置为根据所述位置量测量信号确定所述物体的位置量，其中所述位置量计算器包括被配置为估计所述物体的扭转的扭转估计器，所述位置量计算器被配置为校正所确定的位置量 的物体估计扭转。

公开(公告)号：US08102513B2

公开(公告)日：2012-01-24

申请号：US12243233

申请日：2008-10-01

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Thomas Augustus Mattaar

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Thomas Augustus Mattaar

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70758

摘要： A method for positioning an object by an electromagnetic motor which, in use, produces a plurality of primary forces and a pitch torque associated with the primary forces. The method includes a cycle which includes: determining the desired forces and torques for positioning the object, determining the primary forces to be generated by the motor, determine the pitch torque from either the primary forces or from the desired forces and torques, determine the desired signals for the motor to generate the primary forces. In a next cycle, prior to the determination of the primary forces, the desired forces and torques for positioning the object are modified using the pitch torque determined in the previous cycle of steps.

摘要翻译： 一种用于通过电磁马达定位物体的方法，该电磁马达在使用中产生与主力相关联的多个主力和俯仰力矩。 该方法包括循环，其包括：确定用于定位物体的期望的力和扭矩，确定由马达产生的主力，从主力或从所需的力和扭矩确定俯仰扭矩，确定期望的 电机产生主力的信号。 在下一个循环中，在确定主力之前，使用在前一步骤循环中确定的俯仰扭矩修改用于定位物体的期望力和扭矩。

公开(公告)号：US20110279795A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：US13189255

申请日：2011-07-22

申请人： Bob STREEFKERK ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Gerardus Petrus Matthijs Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Antonius Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

发明人： Bob STREEFKERK ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Gerardus Petrus Matthijs Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Antonius Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/709

摘要： In a lithographic apparatus, a localized area of the substrate surface under a projection system is immersed in liquid. The height of a liquid supply system above the surface of the substrate can be varied using actuators. A control system uses feedforward or feedback control with input of the surface height of the substrate to maintain the liquid supply system at a predetermined height above the surface of the substrate.