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    Pressure Sensitive Adhesives Containing Reactive, Surface-Modified Nanoparticles
    2.
    发明申请
    Pressure Sensitive Adhesives Containing Reactive, Surface-Modified Nanoparticles 审中-公开
    含有活性表面改性纳米粒子的压敏粘合剂

    公开(公告)号：US20130035433A1

    公开(公告)日：2013-02-07

    申请号：US13641208

    申请日：2011-04-07

    申请人： Silke D. Mechernich ,  Adrian S. Eckert ,  Steffen Traser ,  Belma Erdogan-Haug

    发明人： Silke D. Mechernich ,  Adrian S. Eckert ,  Steffen Traser ,  Belma Erdogan-Haug

    IPC分类号： C09J133/10 ,  C08K7/18 ,  C08K3/36

    CPC分类号： C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C08K9/06

    摘要： Acrylic copolymer pressure sensitive adhesive compositions containing surface-modified nanoparticles are described. The surface-modified nanoparticles are based on nanoparticles having a silica surface and a plurality of silane surface-modifying groups covalently bonded to the silica surface. Although some of the silane surface modifying groups may be non-reactive, at least 25 mole percent, and up to 100 mole percent, of the silane surface-modifying groups are reactive silane surface-modifying groups.

    摘要翻译： 描述了含有表面改性纳米颗粒的丙烯酸共聚物压敏粘合剂组合物。 表面改性的纳米粒子基于具有二氧化硅表面的纳米颗粒和共价键合到二氧化硅表面上的多个硅烷表面改性基团。 尽管硅烷表面改性基团中的一些可以是非反应性的，但至少25摩尔％和高达100摩尔％的硅烷表面改性基团是反应性硅烷表面改性基团。

    PHOTORESISTS CONTAINING POLYMER-TETHERED NANOPARTICLES
    10.
    发明申请
    PHOTORESISTS CONTAINING POLYMER-TETHERED NANOPARTICLES 有权
    含有聚合物纳米粒子的光催化剂

    公开(公告)号：US20140080061A1

    公开(公告)日：2014-03-20

    申请号：US14007270

    申请日：2012-05-23

    申请人： David H. Redinger ,  Robert J. DeVoe ,  Belma Erdogan-Haug

    发明人： David H. Redinger ,  Robert J. DeVoe ,  Belma Erdogan-Haug

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/004 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/003 ,  A61M2037/0053 ,  F04C2270/0421 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70375

    摘要： Compositions such as photoresists and microfabrication processes are provided that can produce high-fidelity microfabricated structures. The provided photoresists can have reduced swelling during the development phase and can give tight tolerances for products, such as microneedles, that can be used, for example, in the medical field. The provided compositions include a photoresist, a photoinitiator system dispersed in the photoresist, and a polymer-tethered nanoparticle dispersed in the photoresist. The photoresist can be a negative photoresist and the photoinitiator system can include a two-photoinitiator system. The polymer-tethered nanoparticle can include an acrylic polymer and, in some embodiments, can include poly(methyl methacrylate). The nanoparticles can include silica.

    摘要翻译： 提供了诸如光致抗蚀剂和微细加工方法的组合物，其可以产生高保真的微制造结构。 所提供的光致抗蚀剂在显影阶段可以减少溶胀，并且可以为可用于例如医疗领域的产品（例如微针）提供严格的公差。 所提供的组合物包括光致抗蚀剂，分散在光致抗蚀剂中的光引发剂体系和分散在光致抗蚀剂中的聚合物 - 束缚的纳米颗粒。 光致抗蚀剂可以是负性光致抗蚀剂，并且光引发剂体系可以包括双光引发剂体系。 聚合物束缚的纳米颗粒可以包括丙烯酸聚合物，并且在一些实施方案中可以包括聚（甲基丙烯酸甲酯）。 纳米颗粒可以包括二氧化硅。