公开(公告)号：US20120141925A1

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：US13178013

申请日：2011-07-07

申请人： Ki Hoon Kim ,  Ji-Yong Park ,  Jin-Suk Park ,  Sunghyuk Kim ,  Min-Chang Kim ,  Kyung Hyun Choi

发明人： Ki Hoon Kim ,  Ji-Yong Park ,  Jin-Suk Park ,  Sunghyuk Kim ,  Min-Chang Kim ,  Kyung Hyun Choi

IPC分类号： G03F1/00 ,  H01J9/24

CPC分类号： G02F1/133351 ,  G02F2001/133796 ,  G02F2001/13415 ,  G03F1/54

摘要： A photo-mask is capable of preventing stain defects and a method for fabricating a liquid crystal display device using the photo-mask which achieves the same capability. The photo-mask includes a transparent substrate configured to transmit ultraviolet light and a light shielding layer configured to block ultraviolet light on a surface of the transparent substrate. The light shielding layer includes an absorption layer configured to absorb ultraviolet light.

摘要翻译： 光掩模能够防止污点缺陷，以及使用实现相同能力的光掩模制造液晶显示装置的方法。 光掩模包括被配置为透射紫外光的透明基板和被构造为在透明基板的表面上阻挡紫外光的遮光层。 遮光层包括吸收紫外线的吸收层。

公开(公告)号：US08852853B2

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：US13178013

申请日：2011-07-07

申请人： Ki Hoon Kim ,  Ji-Yong Park ,  Jin-Suk Park ,  Sunghyuk Kim ,  Min-Chang Kim ,  Kyung Hyun Choi

发明人： Ki Hoon Kim ,  Ji-Yong Park ,  Jin-Suk Park ,  Sunghyuk Kim ,  Min-Chang Kim ,  Kyung Hyun Choi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02F1/1333 ,  G03F1/54 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1341

CPC分类号： G02F1/133351 ,  G02F2001/133796 ,  G02F2001/13415 ,  G03F1/54

摘要： A photo-mask is capable of preventing stain defects and a method for fabricating a liquid crystal display device using the photo-mask which achieves the same capability. The photo-mask includes a transparent substrate configured to transmit ultraviolet light and a light shielding layer configured to block ultraviolet light on a surface of the transparent substrate. The light shielding layer includes an absorption layer configured to absorb ultraviolet light.

摘要翻译： 光掩模能够防止污点缺陷，以及使用实现相同能力的光掩模制造液晶显示装置的方法。 光掩模包括被配置为透射紫外光的透明基板和被构造为在透明基板的表面上阻挡紫外光的遮光层。 遮光层包括吸收紫外线的吸收层。

公开(公告)号：US20110147757A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US12968456

申请日：2010-12-15

申请人： Ki-Hoon KIM ,  Jin-Suk PARK ,  Ji-Yong PARK ,  Kyung-Min PARK ,  Kyung-Hyun CHOI ,  Gyung-Soon PARK ,  Dae-Won LEE

发明人： Ki-Hoon KIM ,  Jin-Suk PARK ,  Ji-Yong PARK ,  Kyung-Min PARK ,  Kyung-Hyun CHOI ,  Gyung-Soon PARK ,  Dae-Won LEE

IPC分类号： H01L29/786 ,  H01L33/00 ,  H01L33/08 ,  H01L29/04

CPC分类号： H01L29/78633 ,  H01L27/1255

摘要： An array substrate of a display device, the array substrate: a substrate having a first region and a second region spaced apart from the first region; a blocking layer located on the substrate; a first electrode located on the blocking layer in the second region; an insulating film located on the blocking layer to cover the first electrode; a second electrode located on the insulating film to overlap the first electrode; and a third electrode overlapping the first electrode between the substrate and the blocking layer. Accordingly, it is possible to reduce an area that is occupied by a storage capacitor in a pixel region and to achieve high luminance by increasing the aperture ratio, by providing a structure and method of increasing a storage capacitance of the same area.

摘要翻译： 一种显示装置的阵列基板，所述阵列基板：具有与所述第一区域间隔开的第一区域和第二区域的基板; 位于所述基板上的阻挡层; 位于第二区域中的阻挡层上的第一电极; 绝缘膜，位于所述阻挡层上以覆盖所述第一电极; 位于所述绝缘膜上以与所述第一电极重叠的第二电极; 以及在所述基板和所述阻挡层之间与所述第一电极重叠的第三电极。 因此，通过提供增加同一区域的存储电容的结构和方法，可以减少像素区域中的存储电容器所占据的面积并且通过增加开口率来实现高亮度。