公开(公告)号：US07239370B2

公开(公告)日：2007-07-03

申请号：US10738992

申请日：2003-12-19

申请人： Albert Johannes Maria Jansen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Johannes Christiaan Maria Jasper ,  Raymond Laurentius Johannes Schrijver ,  Richard Joseph Bruls ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Willem Richard Pongers ,  Tammo Uitterdijk

发明人： Albert Johannes Maria Jansen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Johannes Christiaan Maria Jasper ,  Raymond Laurentius Johannes Schrijver ,  Richard Joseph Bruls ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Willem Richard Pongers ,  Tammo Uitterdijk

IPC分类号： G21K5/10 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70983

摘要： In a projection system a pattern plane on a reticle is illuminated to have a projection image focussed on an image plane. The presence of a pellicle in the optical path causes a virtual shift of the position of the pattern plane on the reticle. Depending on the presence or absence of the pellicle the image plane of the projection image needs to be adapted for proper focussing. A compensator counteracts the virtual shift of pattern plane due to the pellicle, by shifting the position of the pattern plane.

摘要翻译： 在投影系统中，将光罩上的图案平面照亮以将投影图像聚焦在图像平面上。 光路中的防护薄膜组件的存在导致图案平面在掩模版上的位置的虚拟移位。 根据防护薄膜的存在或不存在，投影图像的图像平面需要适应适当的聚焦。 补偿器通过移动图形平面的位置来抵消由于防护薄膜组成的图案平面的虚拟移位。

公开(公告)号：US06933513B2

公开(公告)日：2005-08-23

申请号：US10140437

申请日：2002-05-08

申请人： Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Raymond Laurentius Johannes Schrijver ,  Johannes Andreas Henricus Maria Jacobs ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Nicolaas Franciscus Koppelaars

发明人： Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Raymond Laurentius Johannes Schrijver ,  Johannes Andreas Henricus Maria Jacobs ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Nicolaas Franciscus Koppelaars

IPC分类号： G03F7/20 ,  G21G5/00 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G21G4/00

CPC分类号： G03F7/70983 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70933

摘要： In a lithographic apparatus using exposure radiation of a relatively short wavelength, e.g. 157 or 126 nm, a laminar flow of N2 is provided across parts of the beam path in or adjacent to moving components of the apparatus. A variety of structures may be used to provide the laminar flow including a screen, a settling chamber, an angled inlet port and a flow path having increasing cross-sectional area.

摘要翻译： 在使用相对较短波长的曝光辐射的光刻设备中，例如， 157或126nm，在设备的移动部件中或与其邻近的横梁的横跨两部分提供了N 2层的流动。 可以使用各种结构来提供层流，包括筛网，沉降室，成角度的入口和具有增加的横截面积的流动路径。

公开(公告)号：US07423722B2

公开(公告)日：2008-09-09

申请号：US10766526

申请日：2004-01-29

申请人： Albert Johannes Maria Jansen ,  Jan Jaap Kuit ,  Erik Roelof Loopstra ,  Raymond Laurentius Johannes Schrijver

发明人： Albert Johannes Maria Jansen ,  Jan Jaap Kuit ,  Erik Roelof Loopstra ,  Raymond Laurentius Johannes Schrijver

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70475 ,  G03F7/707

摘要： A lithographic apparatus has a mask table adapted to accommodate a mask in at least two positions so that a mask with a pattern area larger than the exposure field can be imaged by first performing an exposure with the mask in the first position and then performing a second exposure with the mask in the second position.

摘要翻译： 光刻设备具有适于在至少两个位置容纳掩模的掩模台，使得具有大于曝光场的图案区域的掩模可以通过首先在掩模的第一位置进行曝光，然后执行第二 第二位置的面罩曝光。

公开(公告)号：US06707530B2

公开(公告)日：2004-03-16

申请号：US10138506

申请日：2002-05-06

申请人： Raymond Laurentius Johannes Schrijver ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Marcel Koenraad Marie Baggen

发明人： Raymond Laurentius Johannes Schrijver ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Marcel Koenraad Marie Baggen

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus has an inner purge compartment surrounding and moving with a moveable component such as a mask table or a substrate table and an outer purge compartment surrounding the inner purge compartment. Purge gas is supplied to the inner compartment and exhausted from the outer compartment so that the inner purge compartment is at an average pressure higher than ambient and the outer compartment is at a pressure lower than ambient. Even when acceleration of the moveable object and compartments cause local pressure variations, the inner compartment is at a higher pressure than the outer compartment so that any gas flow is outward and contamination is prevented from reaching the inner compartment.

摘要翻译： 光刻设备具有围绕并且与可移动部件（例如掩模台或基板台）和围绕内部净化隔室的外部净化室一起移动的内部净化室。 吹扫气体被供应到内部隔室并从外部隔室排出，使得内部净化室处于高于环境的平均压力，并且外部隔室处于低于环境的压力。 即使可移动物体和隔间的加速导致局部压力变化，内部隔室处于比外部隔室更高的压力，使得任何气体流向外，并且防止污染物到达内部隔室。