公开(公告)号：US20030235824A1

公开(公告)日：2003-12-25

申请号：US10177169

申请日：2002-06-20

Applicant: Affymetrix, INC.

Inventor： Mark Trulson ,  Glenn H. McGall ,  Bei-Shen Sywe ,  Lisa T. Kajisa ,  Dana Truong

IPC: C12Q001/68 ,  C12M001/34 ,  G01N033/543 ,  B05D003/00

CPC classification number: B82Y30/00 ,  B01J19/0046 ,  B01J2219/00608 ,  B01J2219/0061 ,  B01J2219/00612 ,  B01J2219/00626 ,  B01J2219/00637 ,  B01J2219/00711 ,  B01J2219/00722 ,  C12Q1/6837 ,  C40B40/06 ,  G03F7/091 ,  C12Q2545/101

Abstract: The present invention provides an array of polymers and methods of forming arrays of polymers by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support and a second layer including a plurality of polymers disposed on the first layer. The invention also provides methods for forming an array of polymers on a substrate using light-directed synthesis by providing a substrate having a first layer including one or more dielectric coatings on a solid support; derivatizing the first layer by contacting the first layer with a silanation reagent, and a second layer disposed on said first layer wherein the second layer includes functional groups protected with a photolabile protecting group.

Abstract translation: 本发明提供了一种聚合物阵列和通过提供一种具有第一层的衬底来形成聚合物阵列的方法，所述第一层包括在固体载体上的一个或多个电介质涂层和包含设置在第一层上的多个聚合物的第二层。 本发明还提供了使用光引导合成在衬底上形成聚合物阵列的方法，该衬底具有在固体支持体上具有一个或多个电介质涂层的第一层; 通过使第一层与硅烷化试剂接触来衍生第一层，以及设置在所述第一层上的第二层，其中第二层包括用光不稳定保护基团保护的官能团。