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    Nanocomposite material for the production of index of refraction gradient films
    2.
    发明授权
    Nanocomposite material for the production of index of refraction gradient films 有权
    用于生产折射率梯度膜的纳米复合材料

    公开(公告)号：US07473721B2

    公开(公告)日：2009-01-06

    申请号：US10500194

    申请日：2003-01-03

    申请人： Takamasa Harada ,  Fumio Kita ,  Andreas Zimmermann ,  Ulrike Dellwo ,  Martin Mennig ,  Peter W. Oliveira ,  Helmut Schmidt ,  Heike Schneider

    发明人： Takamasa Harada ,  Fumio Kita ,  Andreas Zimmermann ,  Ulrike Dellwo ,  Martin Mennig ,  Peter W. Oliveira ,  Helmut Schmidt ,  Heike Schneider

    IPC分类号： C08K9/12

    CPC分类号： C08L83/06 ,  C08K3/013 ,  C09D183/06 ,  G02B1/04 ,  G03H2260/12 ,  C08L2666/04

    摘要： The invention relates to solid or gel-type nanocomposite material which can be polymerised, containing a) 4.9 95.9 wt. % of a soluble polymer; b) 4-95 wt. % of a partially or totally condensed silane selected from the group of epoxyalkoxysilanes, alkoxysilanes and alkylalkoxysilanes, the silane having an inorganic condensation degree of between 33-100% and an organic conversion degree of between 0-95%; c) 0-60 wt. % of an acrylate; d) 0.1-50 wt. % of surface modified nanometric particles selected from the group of oxides, sulphides, selenides, tellurides, halogenides, carbides, arsenides, antimonides, nitrides, phosphides, carbonates, carboxylates, phosphates, sulphates, silicates, titanates, zirconates, aluminates, stannates, plumbates and a mixed oxides; e) 0-50 wt.-% of a plasticizer; f) 0-5 wt. % of a thermal or photochemical cross-linking initiator, sensitizer, auxiliary wetting agent, adhesive agent, antioxidant, stabiliser, coloring agent, photochrome material and thermochrome material in relation to the total weight (dry weight) of the nanocomposite material.

    摘要翻译： 本发明涉及可以聚合的固体或凝胶型纳米复合材料，其包含a）4.9 95.9wt。 ％的可溶性聚合物; b）4-95wt。 选自环氧烷氧基硅烷，烷氧基硅烷和烷基烷氧基硅烷的部分或全部冷凝的硅烷的％，硅烷的无机缩合度在33-100％之间，有机转化度在0-95％之间; c）0-60wt。 ％的丙烯酸酯; d）0.1-50wt。 选自氧化物，硫化物，硒化物，碲化物，卤化物，碳化物，砷化物，锑化物，氮化物，磷化物，碳酸盐，羧酸盐，磷酸盐，硫酸盐，硅酸盐，钛酸盐，锆酸盐，铝酸盐，锡酸盐，铅酸铅的表面改性纳米颗粒的％ 和混合氧化物; e）0-50重量％的增塑剂; f）0-5wt。 相对于纳米复合材料的总重量（干重），热或光化学交联引发剂，敏化剂，辅助润湿剂，粘合剂，抗氧化剂，稳定剂，着色剂，感光材料和热变色材料的％。

    Nanocomposite material for the production of index of refraction gradient films
    5.
    发明申请
    Nanocomposite material for the production of index of refraction gradient films 有权
    用于生产折射率梯度膜的纳米复合材料

    公开(公告)号：US20050101698A1

    公开(公告)日：2005-05-12

    申请号：US10500194

    申请日：2003-01-03

    申请人： Takamasa Harada ,  Fumio Kita ,  Andreas Zimmermann ,  Ulrike Dellwo ,  Martin Mennig ,  Peter Oliveira ,  Helmut Schmidt ,  Heike Schneider

    发明人： Takamasa Harada ,  Fumio Kita ,  Andreas Zimmermann ,  Ulrike Dellwo ,  Martin Mennig ,  Peter Oliveira ,  Helmut Schmidt ,  Heike Schneider

    IPC分类号： G03H1/02 ,  B32B27/18 ,  C08J7/04 ,  C08K3/00 ,  C08K9/04 ,  C08L83/04 ,  C08L101/00 ,  C09D4/02 ,  C09D7/12 ,  C09D163/00 ,  C09D183/06 ,  C09D183/07 ,  C09D201/00 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  C08K9/10

    CPC分类号： C08L83/06 ,  C08K3/013 ,  C09D183/06 ,  G02B1/04 ,  G03H2260/12 ,  C08L2666/04

    摘要： The invention relates to solid or gel-type nanocomposite material which can be polymerised, containing a) 4.9 95.9 wt. % of a soluble polymer; b) 4-95 wt. % of a partially or totally condensed silane selected from the group of epoxyalkoxysilanes, alkoxysilanes and alkylalkoxysilanes, the silane having an inorganic condensation degree of between 33-100% and an organic conversion degree of between 0-95%; c) 0-60 wt. % of an acrylate; d) 0.1-50 wt. % of surface modified nanometric particles selected from the group of oxides, sulphides, selenides, tellurides, halogenides, carbides, arsenides, antimonides, nitrides, phosphides, carbonates, carboxylates, phosphates, sulphates, silicates, titanates, zirconates, aluminates, stannates, plumbates and a mixed oxides; e) 0-50 wt.-% of a plasticiser, f) 0-5 wt. % of a thermal or photochemical cross-linking initiator, sensitizer, auxiliary wetting agent, adhesive agent, antioxidant, stabiliser, colouring agent, photochrome material and thermochrome material in relation to the total weight (dry weight) of the nanocomposite material.

    摘要翻译： 本发明涉及可以聚合的固体或凝胶型纳米复合材料，其包含a）4.9 95.9wt。 ％的可溶性聚合物; b）4-95wt。 选自环氧烷氧基硅烷，烷氧基硅烷和烷基烷氧基硅烷的部分或全部冷凝的硅烷的％，硅烷的无机缩合度在33-100％之间，有机转化度在0-95％之间; c）0-60wt。 ％的丙烯酸酯; d）0.1-50wt。 选自氧化物，硫化物，硒化物，碲化物，卤化物，碳化物，砷化物，锑化物，氮化物，磷化物，碳酸盐，羧酸盐，磷酸盐，硫酸盐，硅酸盐，钛酸盐，锆酸盐，铝酸盐，锡酸盐，铅酸铅的表面改性纳米颗粒的％ 和混合氧化物; e）0-50重量％的增塑剂，f）0-5重量％ 相对于纳米复合材料的总重量（干重），热或光化学交联引发剂，敏化剂，辅助润湿剂，粘合剂，抗氧化剂，稳定剂，着色剂，感光材料和热变色材料的％。

    Nanoimprint resist
    7.
    发明授权
    Nanoimprint resist 有权
    纳米抗蚀剂

    公开(公告)号：US07431858B2

    公开(公告)日：2008-10-07

    申请号：US10511402

    申请日：2003-04-09

    申请人： Walter Spiess ,  Fumio Kita ,  Michael Meier ,  Andreas Gier ,  Martin Mennig ,  Peter W Oliveira ,  Helmut Schmidt

    发明人： Walter Spiess ,  Fumio Kita ,  Michael Meier ,  Andreas Gier ,  Martin Mennig ,  Peter W Oliveira ,  Helmut Schmidt

    IPC分类号： B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/0047

    摘要： The invention relates to a method for microstructuring electronic components, which yields high resolutions (≦200 nm) at a good aspect ratio while being significantly less expensive than photolithographic methods. The inventive method comprises the following steps: i) a planar unhardened sol film of a nanocomposite composition according to claim 1 is produced; ii) a target substrate consisting of a bottom coat (b) and a support (c) is produced; iii) sol film material obtained in step i) is applied to the bottom coat (b) obtained in step ii) by means of a microstructured transfer embossing stamp; iv) the applied sol film material is hardened; v) the transfer embossing stamp is separated, whereby an embossed microstructure is obtained as a top coat (a). The method for producing a microstructured semiconductor material comprises the following additional steps: vi) the remaining layer of the nanocomposite sol film is plasma etched, preferably with CHF3/O2 plasma; vii) the bottom coat is plasma etched, preferably with O2 plasma; viii) the semiconductor material is etched or the semiconductor material is doped in the etched areas.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于微结构化电子部件的方法，其以良好的纵横比产生高分辨率（<= 200nm），同时显着地低于光刻方法。 本发明的方法包括以下步骤：i）制备根据权利要求1的纳米复合组合物的平面未硬化溶胶膜; ii）制备由底涂层（b）和载体（c）组成的靶基材; iii）在步骤i）中获得的溶胶膜材料通过微结构转印压花印刷施加到在步骤ii）中获得的底涂层（b） iv）涂覆的溶胶膜材料硬化; v）分离转印压花印模，由此获得作为顶涂层（a）的压花微结构。 制造微结构化半导体材料的方法包括以下附加步骤：vi）纳米复合溶胶膜的剩余层被等离子体蚀刻，优选地具有CHF 3 O 2 / O 2等离子体 ; vii）底涂层被等离子体蚀刻，优选为O 2等离子体; viii）蚀刻半导体材料或者在蚀刻区域中掺杂半导体材料。