公开(公告)号：US06221221B1

公开(公告)日：2001-04-24

申请号：US09192872

申请日：1998-11-16

申请人： Ayad Al-Shaikh ,  Michael Rosenstein ,  Bradley O. Stimson ,  Jianming Fu ,  Praburam Gopalraja

发明人： Ayad Al-Shaikh ,  Michael Rosenstein ,  Bradley O. Stimson ,  Jianming Fu ,  Praburam Gopalraja

IPC分类号： C23C1434

CPC分类号： H01J37/32577

摘要： Apparatus providing a low impedance RF return current path between a shield member and a pedestal in a semiconductor wafer processing chamber. The return path reduces RF voltage drop between the shield member and the pedestal during processing. The return path comprises a conductive strap connected to the pedestal and a conductive bar attached to the strap. A toroidal spring makes multiple parallel electrical connections between the conductive bar and the shield member. A support assembly, attached to a collar on the chamber wall, supports the conductive bar.

摘要翻译： 一种在半导体晶片处理室中提供屏蔽构件和基座之间的低阻抗RF返回电流路径的装置。 返回路径在处理期间降低了屏蔽构件和基座之间的RF电压降。 返回路径包括连接到基座的导电带和附接到带的导电条。 环形弹簧在导电棒和屏蔽构件之间形成多个平行的电连接。 附接到室壁上的套环的支撑组件支撑导电棒。

公开(公告)号：US20070095285A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：US11612931

申请日：2006-12-19

申请人： Randhir Thakur ,  Alfred Mak ,  Ming Xi ,  Walter Glenn ,  Ahmad Khan ,  Ayad Al-Shaikh ,  Avgerinos Gelatos ,  Salvador Umotoy

发明人： Randhir Thakur ,  Alfred Mak ,  Ming Xi ,  Walter Glenn ,  Ahmad Khan ,  Ayad Al-Shaikh ,  Avgerinos Gelatos ,  Salvador Umotoy

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/45544 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45582 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/6719

摘要： An apparatus for cyclical depositing of thin films on semiconductor substrates, comprising a process chamber having a gas distribution system with separate paths for process gases and an exhaust system synchronized with operation of valves dosing the process gases into a reaction region of the chamber.

摘要翻译： 一种用于在半导体衬底上循环沉积薄膜的装置，包括具有气体分配系统的处理室，该气体分配系统具有用于处理气体的独立路径，以及与将所述工艺气体计量到所述室的反应区域的阀的操作同步的排气系统。