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    Lithographic apparatus and a device manufacturing method
    1.
    发明授权
    Lithographic apparatus and a device manufacturing method 有权
    光刻设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07126664B2

    公开(公告)日：2006-10-24

    申请号：US10888513

    申请日：2004-07-12

    申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Rutgerus Bartray ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Thijs Harink ,  Paulus Martinus Maria Liebregts

    发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Rutgerus Bartray ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Thijs Harink ,  Paulus Martinus Maria Liebregts

    IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03B27/62

    CPC分类号： G03F7/70841

    摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. A projection system is configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. A first vacuum environment contains the projection system, a second vacuum environment contains the patterning device support, and a separator separates the first and second vacuum environments. The separator includes an aperture for passing the projection beam from the first vacuum environment towards the patterning device and/or vice-versa. The patterning device forms at least part of a seal for substantially sealing the aperture of the separator.

    摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 该装置包括构造成支撑图案形成装置的支撑件，该图案形成装置能够在其横截面中赋予具有图案的辐射束以形成图案化的辐射束。 投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。 第一真空环境包含投影系统，第二真空环境包含图案形成装置支撑件，分离器分离第一和第二真空环境。 分离器包括用于使投影束从第一真空环境朝向图案形成装置传递的孔，和/或反之亦然。 图案形成装置形成用于基本上密封隔膜的孔的密封件的至少一部分。

    Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
    2.
    发明授权
    Lithographic projection apparatus and device manufacturing method 失效
    平版印刷设备及其制造方法

    公开(公告)号：US07274431B2

    公开(公告)日：2007-09-25

    申请号：US10875510

    申请日：2004-06-25

    申请人： Wilhelmus Josephus Box ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Thijs Harink

    发明人： Wilhelmus Josephus Box ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Thijs Harink

    IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70916

    摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a substrate support for supporting at least one substrate, a radiation system for providing at least one beam of radiation, and a vacuum chamber. The vacuum chamber includes a patterning device and/or a projection system. The patterning device is arranged for patterning the beam of radiation according to a desired pattern, and the projection system is arranged for projecting the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate. The apparatus also includes at least one thermal shield for thermally conditioning at least part of the apparatus. The thermal shield includes particle transmission channels for transmitting particles through the shield, from a first side of the shield to a second side of the shield.

    摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于支撑至少一个基板的基板支撑件，用于提供至少一个辐射束的辐射系统和真空室。 真空室包括图案形成装置和/或投影系统。 图案形成装置被布置成根据期望的图案图案化辐射束，并且投影系统被布置用于将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。 该装置还包括至少一个热屏蔽件，用于热调节装置的至少一部分。 热屏蔽包括用于将颗粒从屏蔽件的第一侧传送到屏蔽件的第二侧的颗粒传输通道。