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公开(公告)号：US08449752B2
公开(公告)日：2013-05-28
申请号：US12569973
申请日：2009-09-30
CPC分类号： G11B5/3116 , G11B5/1278 , G11B5/3163
摘要： Methods for fabrication of magnetic write heads, and more specifically to fabrication of magnetic poles and trailing magnetic pole steps. A write pole may first be patterned on a substrate. Then a side gap material may be patterned along sidewall portions of the write pole. Thereafter, a masking layer may be deposited and patterned to expose a portion of the write pole. A trailing magnetic pole step may be formed on the exposed portion of the write pole.
摘要翻译： 用于制造磁写头的方法，更具体地说是制造磁极和后磁极台阶。 写极可以首先在衬底上图案化。 然后，侧面间隙材料可以沿着写入极的侧壁部分被图案化。 此后，可以沉积和图案化掩模层以暴露写入极的一部分。 可以在写入极的暴露部分上形成尾部磁极台阶。
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公开(公告)号：US20110076393A1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：US12569973
申请日：2009-09-30
IPC分类号： G11B5/17
CPC分类号： G11B5/3116 , G11B5/1278 , G11B5/3163
摘要： Methods for fabrication of magnetic write heads, and more specifically to fabrication of magnetic poles and trailing magnetic pole steps. A write pole may first be patterned on a substrate. Then a side gap material may be patterned along sidewall portions of the write pole. Thereafter, a masking layer may be deposited and patterned to expose a portion of the write pole. A trailing magnetic pole step may be formed on the exposed portion of the write pole.
摘要翻译： 用于制造磁写头的方法，更具体地说是制造磁极和后磁极台阶。 写极可以首先在衬底上图案化。 然后，侧面间隙材料可以沿着写入极的侧壁部分被图案化。 此后，可以沉积和图案化掩模层以暴露写入极的一部分。 可以在写入极的暴露部分上形成尾部磁极台阶。
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公开(公告)号：US08673161B2
公开(公告)日：2014-03-18
申请号：US12345457
申请日：2008-12-29
CPC分类号： G11B5/3163 , G11B5/1278 , G11B5/3123
摘要： Methods for fabricating a device component are provided. A substrate comprising a RIE stop layer, an oxide layer formed on the RIE stop layer, and a RIE-able layer formed on the oxide layer may be provided. A resist layer may be patterned on the RIE-able layer. A metal layer may be formed on portions of the RIE-able layer that are not covered by the resist layer. The resist layer may be removed and an RIE performed to remove exposed portions of the RIE-able layer and portions of the oxide layer beneath the exposed portions of the RIE-able layer. Thereafter, the metal layer may be removed, and the component may be formed in an opening in the oxide layer formed during the RIE.
摘要翻译： 提供了制造器件部件的方法。 可以提供包括RIE停止层，形成在RIE停止层上的氧化物层和形成在氧化物层上的RIE能层的衬底。 抗蚀剂层可以在RIE能层上图案化。 可以在RIE能层的未被抗蚀剂层覆盖的部分上形成金属层。 可以去除抗蚀剂层，并且执行RIE以去除RIE能层的暴露部分和在RIE能层的暴露部分下方的氧化物层的部分。 此后，可以去除金属层，并且可以在RIE中形成的氧化物层的开口中形成该部件。
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