公开(公告)号：US08411252B2

公开(公告)日：2013-04-02

申请号：US12639457

申请日：2009-12-16

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler is provided. The substrate handler includes a support surface configured to carry a substrate and a pre-conditioning unit configured to pre-condition the substrate. The substrate handler is configured to move the substrate relative to a substrate table.

摘要翻译： 提供衬底处理器。 衬底处理器包括被配置为承载衬底的支撑表面和被配置为预处理衬底的预调节单元。 衬底处理器被配置为相对于衬底台移动衬底。

公开(公告)号：US08174680B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12512220

申请日：2009-07-30

申请人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

发明人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7075

摘要： An apparatus, method, and system is provided to condition a substrate. The apparatus can include a substrate handler, an array of diodes, and a projection system. The substrate handler can include a conditioning device, a float device, and a displacing device. The array of diodes can be configured to provide a patterned radiation beam, where the projection system projects the patterned radiation beam onto a target portion of a conditioned substrate.

摘要翻译： 提供了一种装置，方法和系统来调节基板。 该装置可以包括基板处理器，二极管阵列和投影系统。 衬底处理器可以包括调节装置，浮子装置和置换装置。 二极管阵列可以被配置为提供图案化的辐射束，其中投影系统将图案化的辐射束投影到经调理的基底的目标部分上。

公开(公告)号：US07538857B2

公开(公告)日：2009-05-26

申请号：US11157201

申请日：2005-06-21

申请人： Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis

发明人： Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler for moving a substrate relative to a substrate table of a lithographic apparatus. The substrate handler comprises at least one support surface or platform adapted to carry a plurality of independent substrates simultaneously. The substrate handler adapted to load substrates onto and unload substrates from the substrate table before and after exposure.

摘要翻译： 一种用于相对于光刻设备的衬底台移动衬底的衬底处理器。 衬底处理器包括至少一个支撑表面或平台，其适于同时承载多个独立衬底。 衬底处理器适于在曝光之前和之后将衬底加载到衬底台上并从衬底台卸载衬底。

公开(公告)号：US20100085553A1

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：US12639457

申请日：2009-12-16

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler is provided. The substrate handler includes a support surface configured to carry a substrate and a pre-conditioning unit configured to pre-condition the substrate. The substrate handler is configured to move the substrate relative to a substrate table.

摘要翻译： 提供衬底处理器。 衬底处理器包括被配置为承载衬底的支撑表面和被配置为预处理衬底的预调节单元。 衬底处理器被配置为相对于衬底台移动衬底。

公开(公告)号：US07656506B2

公开(公告)日：2010-02-02

申请号：US11320494

申请日：2005-12-29

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler for moving a substrate relative to a substrate table of a lithographic apparatus. The substrate handler comprises at least one support surface or platform adapted to carry a plurality of independent substrates simultaneously. The substrate handler adapted to load substrates onto and unload substrates from the substrate table before and after exposure.

摘要翻译： 一种用于相对于光刻设备的衬底台移动衬底的衬底处理器。 衬底处理器包括至少一个支撑表面或平台，其适于同时承载多个独立衬底。 衬底处理器适于在曝光之前和之后将衬底加载到衬底台上并从衬底台卸载衬底。

公开(公告)号：US07576835B2

公开(公告)日：2009-08-18

申请号：US11175037

申请日：2005-07-06

申请人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

发明人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7075

摘要： Embodiments of the invention relates to a substrate handler for handling a substrate, including a conditioning device for conditioning the substrate. In an embodiment, the substrate handler includes a displacing device configured to displace the substrate in a direction substantially parallel to the support surface, wherein the displacing device is configured to displace the substrate during the conditioning process from one conditioning position to one or more other conditioning positions. According to another embodiment of the invention, the substrate handler includes a float device for providing an air bed above a support surface of the substrate handler, the substrate handler being configured to support the substrate on an air bed during conditioning of the substrate.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及一种用于处理基板的基板处理器，包括用于调节基板的调节装置。 在一个实施例中，衬底处理器包括移位装置，其配置成在基本上平行于支撑表面的方向上移动衬底，其中，移位装置构造成在调节过程期间将衬底从一个调节位置移位到一个或多个其他调节 职位 根据本发明的另一实施例，衬底处理器包括用于在衬底处理器的支撑表面上方提供空气床的浮动装置，衬底处理器被配置为在衬底调节期间将衬底支撑在空气床上。

公开(公告)号：US07256867B2

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：US11018928

申请日：2004-12-22

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70733

摘要： A lithographic method and apparatus comprises an illumination system that supplies a beam of radiation, a patterning device that patterns the beam, and a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of a substrate. A metrology system is provided adjacent the projection system for aligning the substrate with the projection system. Two or more movable chucks are each arranged to support a substrate and move between a loading device and the projection system. The chucks are independently movable so that one substrate can be passed through the metrology system and patterned beam while the other substrates are moved between the loading system and projection system.

摘要翻译： 光刻方法和装置包括提供辐射束的照明系统，对光束进行图案化的图案形成装置，以及将图案化光束投影到基板的目标部分上的投影系统。 在投影系统附近提供了一种计量系统，用于将基板与投影系统对准。 两个或更多个可移动卡盘分别布置成支撑基板并在加载装置和投影系统之间移动。 卡盘可独立移动，使得一个基板可以通过计量系统和图案化梁，同时其它基板在装载系统和投影系统之间移动。

公开(公告)号：US07230254B2

公开(公告)日：2007-06-12

申请号：US11231791

申请日：2005-09-22

申请人： Martinus Arnoldus Henricus Terken ,  Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal

发明人： Martinus Arnoldus Henricus Terken ,  Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal

IPC分类号： G21K5/10

CPC分类号： G03F7/70716

摘要： A movable carriage for moving an article support member in a lithographic apparatus is provided. The article support member is constructed and arranged to move and support an article to be placed in a beam path of the lithographic apparatus. The carriage includes a compartmented composite structure.

摘要翻译： 提供了用于在光刻设备中移动物品支撑构件的可动托架。 物品支撑构件被构造和布置成移动和支撑待放置在光刻设备的光束路径中的物品。 托架包括隔层复合结构。

公开(公告)号：US06970230B2

公开(公告)日：2005-11-29

申请号：US10458727

申请日：2003-06-11

申请人： Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Peter Rutgers

发明人： Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Peter Rutgers

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42 ,  F16J15/16 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70808

摘要： A linear seal seals over a slot formed in a wall of a vacuum chamber of a lithographic projection apparatus. The linear seal includes an elongate sealing member which is locally displaced from the slot at a selectable position such that conduits may pass from outside of the vacuum chamber to the inside of the vacuum chamber at the local displacement of the elongate sealing member.

摘要翻译： 线形密封件密封在形成在光刻投影设备的真空室的壁中的狭槽上。 线性密封件包括细长的密封构件，其在可选择的位置处从狭槽局部移位，使得导管可以在细长密封构件的局部位移处从真空室的外部通过到真空室的内部。

公开(公告)号：US07292317B2

公开(公告)日：2007-11-06

申请号：US11147467

申请日：2005-06-08

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/709

摘要： A lithographic apparatus has an illumination system that conditions a radiation beam and a patterning device support that supports a patterning device. The patterning device patterns the radiation beam. The lithographic apparatus also has a substrate support that supports a substrate, a machine frame that supports the substrate support, a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a substrate support drive that moves the substrate support in at least one direction. The lithographic apparatus can have a reaction mass, a balance mass, a base frame, where the substrate support drive is configured to generate a force in the at least one direction between the substrate support and the reaction mass, the balance mass, or the support frame.

摘要翻译： 光刻设备具有调节辐射束的照明系统和支持图案形成装置的图案形成装置支撑件。 图案形成装置对辐射束进行图案化。 光刻设备还具有支撑基板的基板支撑件，支撑基板支撑件的机架，将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统以及将基板支撑件移动到基​​板支撑驱动器 至少一个方向。 光刻设备可以具有反应物料，平衡物质，基底框架，其中基底支撑驱动器构造成在基底支撑体和反应块之间的至少一个方向上产生力，平衡块或支撑体 帧。