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    MULTI-PARTICLE BEAM COLUMN HAVING AN ELECTRODE LAYER INCLUDING AN ECCENTRIC APERTURE
    1.
    发明申请
    MULTI-PARTICLE BEAM COLUMN HAVING AN ELECTRODE LAYER INCLUDING AN ECCENTRIC APERTURE 有权
    具有电极层的多颗粒束柱，包括偏心孔

    公开(公告)号：US20140209813A1

    公开(公告)日：2014-07-31

    申请号：US13752040

    申请日：2013-01-28

    申请人： Ho Seob Kim ,  Dae Wook Kim ,  Seung Jun Ahn ,  Tae Sik Oh

    发明人： Ho Seob Kim ,  Dae Wook Kim ,  Seung Jun Ahn ,  Tae Sik Oh

    IPC分类号： G21K1/08

    CPC分类号： G21K5/04 ,  H01J37/045 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/045 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/30483

    摘要： Disclosed herein is a multi-particle beam column including electrode layer with eccentric apertures. The multi-particle beam column includes two or more particle beam columns each comprising a particle beam emission source, a deflector, and two or more electrode layers. The multi-particle beam column includes at least one electrode layer having one or more apertures that are eccentric from respective beam optical axes of the particle beam columns.

    摘要翻译： 本文公开了包括具有偏心孔的电极层的多粒子束柱。 多粒子束柱包括两个或更多个粒子束柱，每个粒子束柱包括粒子束发射源，偏转器和两个或更多个电极层。 多粒子束柱包括至少一个具有一个或多个孔的至少一个电极层，所述孔径与颗粒束柱的各个光束轴线偏心。