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    Method for focusing electron beam in electron column
    1.
    发明授权
    Method for focusing electron beam in electron column 有权
    电子束聚焦电子束的方法

    公开(公告)号：US07902521B2

    公开(公告)日：2011-03-08

    申请号：US12096095

    申请日：2006-12-05

    申请人： Ho Seob Kim ,  Seung Joon Ahn ,  Dae Wook Kim ,  Young Chul Kim

    发明人： Ho Seob Kim ,  Seung Joon Ahn ,  Dae Wook Kim ,  Young Chul Kim

    IPC分类号： H01J37/06 ,  H01J37/12

    CPC分类号： H01J37/12 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3174

    摘要： The present invention relates to a method for improving focusing in an electron column that generates an electron beam. The method for controlling the focusing of an electron beam in according to the present invention reduces the spot size of the electron beam when the electron beam reaches a specimen, so that resolution can be increased and the line width of a pattern in a semiconductor lithography process can be reduced, with the result that the performance of the electron can be improved.

    摘要翻译： 本发明涉及一种改善产生电子束的电子束聚焦的方法。 根据本发明的用于控制电子束的聚焦的方法当电子束到达样本时减小了电子束的光斑尺寸，从而可以提高分辨率，并且半导体光刻工艺中的图案的线宽 可以减少，结果可以提高电子的性能。

    Method for Focusing Electron Beam in Electron Column
    2.
    发明申请
    Method for Focusing Electron Beam in Electron Column 有权
    电子束聚焦电子束的方法

    公开(公告)号：US20090200482A1

    公开(公告)日：2009-08-13

    申请号：US12096095

    申请日：2006-12-05

    申请人： Ho Seob Kim ,  Seung Joon Ahn ,  Dae Wook Kim ,  Young Chul Kim

    发明人： Ho Seob Kim ,  Seung Joon Ahn ,  Dae Wook Kim ,  Young Chul Kim

    IPC分类号： H01J3/14

    CPC分类号： H01J37/12 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3174

    摘要： The present invention relates to a method for improving focusing in an electron column that generates an electron beam. The method for controlling the focusing of an electron beam in according to the present invention reduces the spot size of the electron beam when the electron beam reaches a specimen, so that resolution can be increased and the line width of a pattern in a semiconductor lithography process can be reduced, with the result that the performance of the electron can be improved.

    摘要翻译： 本发明涉及一种改善产生电子束的电子束聚焦的方法。 根据本发明的用于控制电子束的聚焦的方法当电子束到达样本时减小了电子束的光斑尺寸，从而可以提高分辨率，并且半导体光刻工艺中的图案的线宽 可以减少，结果可以提高电子的性能。

    MULTI-PARTICLE BEAM COLUMN HAVING AN ELECTRODE LAYER INCLUDING AN ECCENTRIC APERTURE
    4.
    发明申请
    MULTI-PARTICLE BEAM COLUMN HAVING AN ELECTRODE LAYER INCLUDING AN ECCENTRIC APERTURE 有权
    具有电极层的多颗粒束柱，包括偏心孔

    公开(公告)号：US20140209813A1

    公开(公告)日：2014-07-31

    申请号：US13752040

    申请日：2013-01-28

    申请人： Ho Seob Kim ,  Dae Wook Kim ,  Seung Jun Ahn ,  Tae Sik Oh

    发明人： Ho Seob Kim ,  Dae Wook Kim ,  Seung Jun Ahn ,  Tae Sik Oh

    IPC分类号： G21K1/08

    CPC分类号： G21K5/04 ,  H01J37/045 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/045 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/30483

    摘要： Disclosed herein is a multi-particle beam column including electrode layer with eccentric apertures. The multi-particle beam column includes two or more particle beam columns each comprising a particle beam emission source, a deflector, and two or more electrode layers. The multi-particle beam column includes at least one electrode layer having one or more apertures that are eccentric from respective beam optical axes of the particle beam columns.

    摘要翻译： 本文公开了包括具有偏心孔的电极层的多粒子束柱。 多粒子束柱包括两个或更多个粒子束柱，每个粒子束柱包括粒子束发射源，偏转器和两个或更多个电极层。 多粒子束柱包括至少一个具有一个或多个孔的至少一个电极层，所述孔径与颗粒束柱的各个光束轴线偏心。

    Magnetic deflector for an electron column
    6.
    发明授权
    Magnetic deflector for an electron column 有权
    用于电子柱的磁偏转器

    公开(公告)号：US08071955B2

    公开(公告)日：2011-12-06

    申请号：US12600266

    申请日：2008-05-15

    申请人： Ho Seob Kim ,  Young Chul Kim

    发明人： Ho Seob Kim ,  Young Chul Kim

    IPC分类号： H01J3/26 ,  H01J37/14 ,  H01J37/147

    CPC分类号： H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/1532

    摘要： The present invention relates, in general, to a deflector for microcolumns for generating electron beams, and, more particularly, to a deflector capable of scanning or shifting electron beams or functioning as a stigmator using a magnetic field. The deflector (100) according to the present invention includes one or more deflector electrodes. Each of the deflector electrodes includes a core (12) made of a conductor or a semiconductor, and a coil (11) wound around the core (12).

    摘要翻译： 本发明一般涉及用于产生电子束的微柱偏转器，更具体地，涉及一种能够扫描或移动电子束或用作使用磁场的标称器的偏转器。 根据本发明的偏转器（100）包括一个或多个偏转器电极。 每个偏转器电极包括由导体或半导体制成的芯体（12）和缠绕在芯部（12）上的线圈（11）。

    MAGNETIC DEFLECTOR FOR AN ELECTRON COLUMN
    7.
    发明申请
    MAGNETIC DEFLECTOR FOR AN ELECTRON COLUMN 有权
    用于电子柱的磁性偏转器

    公开(公告)号：US20100148086A1

    公开(公告)日：2010-06-17

    申请号：US12600266

    申请日：2008-05-15

    申请人： Ho Seob Kim ,  Young Chul Kim

    发明人： Ho Seob Kim ,  Young Chul Kim

    IPC分类号： H01J3/26 ,  H01F7/00

    CPC分类号： H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/1532

    摘要： The present invention relates, in general, to a deflector for microcolumns for generating electron beams, and, more particularly, to a deflector capable of scanning or shifting electron beams or functioning as a stigmator using a magnetic field. The deflector (100) according to the present invention includes one or more deflector electrodes. Each of the deflector electrodes includes a core (12) made of a conductor or a semiconductor, and a coil (11) wound around the core (12).

    摘要翻译： 本发明一般涉及用于产生电子束的微柱偏转器，更具体地，涉及一种能够扫描或移动电子束或用作使用磁场的标称器的偏转器。 根据本发明的偏转器（100）包括一个或多个偏转器电极。 每个偏转器电极包括由导体或半导体制成的芯体（12）和缠绕在芯部（12）上的线圈（11）。

    Scanning Field Emission Display
    9.
    发明申请
    Scanning Field Emission Display 审中-公开
    扫描场发射显示

    公开(公告)号：US20080211380A1

    公开(公告)日：2008-09-04

    申请号：US11573612

    申请日：2005-08-11

    申请人： Ho Seob Kim ,  Byeng Jin Kim

    发明人： Ho Seob Kim ,  Byeng Jin Kim

    IPC分类号： H01J1/62

    CPC分类号： H01J31/127

    摘要： Provided is a scanning field emission display (SFED). The SFED includes an electron emitter and a module for inducing electron emission of the electron emitter and deflecting an electron beam. A multi-SFED may be realized as a large-sized thin and flat display by arranging in an n×m array.

    摘要翻译： 提供了扫描场发射显示（SFED）。 SFED包括电子发射器和用于诱导电子发射体的电子发射和偏转电子束的模块。 多SFED可以通过以n×m阵列排列而实现为大尺寸的薄型平板显示器。

    Device for sustaining differential vacuum degrees for electron column
    10.
    发明授权
    Device for sustaining differential vacuum degrees for electron column 有权
    用于维持电子柱的差分真空度的装置

    公开(公告)号：US08912506B2

    公开(公告)日：2014-12-16

    申请号：US12278219

    申请日：2007-02-02

    申请人： Ho Seob Kim

    发明人： Ho Seob Kim

    IPC分类号： G01F23/00 ,  H01J37/18

    CPC分类号： H01J37/18 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/188

    摘要： Disclosed is a device for sustaining different vacuum degrees for an electron column, including an electron emitter, a lens part, and a housing for securing them, to maintain the electron column and a sample under different vacuum degrees. The device comprises a column housing coupling part coupled to the housing to isolate a vacuum; a hollow part defined through the center portion of the device to allow an electron beam emitted from the electron column to pass therethrough; and a vacuum isolation part having a structure of a gasket for vacuum coupling, wherein a difference of no less than 10 torr in a vacuum degree is maintained between both sides of the device by selecting an appropriate diameter of a lens electrode layer which is finally positioned in a path along which the electron beam is emitted or by using the hollow part.

    摘要翻译： 公开了一种用于维持用于电子柱的不同真空度的装置，包括电子发射器，透镜部分和用于固定它们的壳体，以保持电子柱和样品处于不同的真空度。 该装置包括一个联接到壳体上的柱壳体联接部分以隔离真空; 通过装置的中心部分限定出允许从电子塔发射的电子束通过的中空部分; 以及具有用于真空联接的衬垫的结构的真空隔离部分，其中通过选择最终定位的透镜电极层的适当直径，在装置的两侧之间保持真空度不小于10托的差异 在发射电子束的路径中或通过使用中空部分。