公开(公告)号：US06413389B1

公开(公告)日：2002-07-02

申请号：US09467295

申请日：1999-12-17

申请人： Hong Shih ,  Danny Lu ,  Nianci Han ,  Li Xu ,  Diana Ma

发明人： Hong Shih ,  Danny Lu ,  Nianci Han ,  Li Xu ,  Diana Ma

IPC分类号： C02F1461

CPC分类号： C22B11/042 ,  Y02P10/214

摘要： A method and assembly for recovering a metal from by-products produced from etching a metal (e.g., platinum, iridium, aluminum, etc.) in a plasma processing chamber. The method includes recovering from the plasma processing chamber a deposit of the by-products containing the metal. The deposit is dissolved in an acid, and the metal is recovered from the acid by inserting a working electrode, a reference electrode, and a counter electrode into the acid and applying a difference in potential between the working and reference electrodes to cause current to flow through the working and counter electrodes and the metal to be removed from the liquid and deposit on the working electrode. The metal is removed from the working electrode to recover the metal. The assembly for recovering the metal from the by-products includes a potentiostat for effecting a difference in potential between the working and reference electrodes and causing current to flow through the working and counter electrodes in response to the difference in potential between the working and reference electrodes.

摘要翻译： 一种用于从在等离子体处理室中蚀刻金属（例如，铂，铱，铝等）产生的副产物中回收金属的方法和组件。 该方法包括从等离子体处理室回收含有金属的副产物的沉积物。 将沉积物溶解在酸中，通过将工作电极，参比电极和对电极插入酸中并在工作电极和参考电极之间施加电位差以使电流流动从酸中回收金属 通过工作电极和对电极以及从液体中除去的金属沉积在工作电极上。 从工作电极上除去金属以回收金属。 用于从副产物中回收金属的组件包括用于实现工作电极和参考电极之间的电位差的恒电位仪，并且响应于工作电极和参考电极之间的电位差而导致电流流过工作电极和对电极 。

公开(公告)号：US06641697B2

公开(公告)日：2003-11-04

申请号：US10083738

申请日：2001-10-24

申请人： Nianci Han ,  Hong Shih ,  Jie Yuan ,  Danny Lu ,  Diana Ma

发明人： Nianci Han ,  Hong Shih ,  Jie Yuan ,  Danny Lu ,  Diana Ma

IPC分类号： H05H100

CPC分类号： H01J37/32467 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32642 ,  Y10S156/914

摘要： An erosion resistant member that may be used in the processing of a substrate in a plasma of a processing gas, comprises at least a portion that may be exposed to the plasma of the processing gas and that contains more than about 3% by weight of an oxide of a Group IIIB metal. The portion may also further contain a ceramic compound selected from silicon carbide, silicon nitride, boron carbide, boron nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, and mixtures thereof.

公开(公告)号：US06352611B1

公开(公告)日：2002-03-05

申请号：US09589871

申请日：2000-06-02

申请人： Nianci Han ,  Hong Shih ,  Jie Yuan ,  Danny Lu ,  Diana Ma

发明人： Nianci Han ,  Hong Shih ,  Jie Yuan ,  Danny Lu ,  Diana Ma

IPC分类号： H05H100

CPC分类号： H01J37/32467 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32642 ,  Y10S156/914

摘要： A ceramic composition of matter for a process kit and a dielectric window of a reactor chamber wherein substrates are processed in a plasma of a processing gas. The ceramic composition of matter contains a ceramic compound (e.g. Al2O3) and an oxide of a Group IIIB metal (e.g., Y2O3). A method for processing (e.g. etching) a substrate in a chamber containing a plasma of a processing gas. The method includes passing processing power through a dielectric window which is formed from the ceramic composition of matter.

摘要翻译： 用于处理试剂盒的物质陶瓷组合物和反应器室的介电窗口，其中基板在处理气体的等离子体中进行处理。 物质的陶瓷组合物含有陶瓷化合物（例如Al 2 O 3）和IIIB族金属（例如Y 2 O 3）的氧化物。 一种用于在包含处理气体的等离子体的室中处理（例如蚀刻）基板的方法。 该方法包括使处理能力通过由陶瓷组合物形成的电介质窗口。

公开(公告)号：US6123791A

公开(公告)日：2000-09-26

申请号：US124323

申请日：1998-07-29

申请人： Nianci Han ,  Hong Shih ,  Jie Yuan ,  Danny Lu ,  Diana Ma

发明人： Nianci Han ,  Hong Shih ,  Jie Yuan ,  Danny Lu ,  Diana Ma

IPC分类号： C04B35/50 ,  B01J19/08 ,  C23C14/00 ,  C23C16/44 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/00 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01J37/32467 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32642 ,  Y10S156/914

摘要： A ceramic composition of matter for a process kit and a dielectric window of a reactor chamber wherein substrates are processed in a plasma of a processing gas. The ceramic composition of matter contains a ceramic compound (e.g. Al.sub.2 O.sub.3) and an oxide of a Group IIIB metal (e.g., Y.sub.2 O.sub.3). A method for processing (e.g. etching) a substrate in a chamber containing a plasma of a processing gas. The method includes passing processing power through a dielectric window which is formed from the ceramic composition of matter.

公开(公告)号：US08114525B2

公开(公告)日：2012-02-14

申请号：US12151842

申请日：2008-05-08

申请人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

发明人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

IPC分类号： B32B15/04 ,  B32B15/20 ,  B01J19/02 ,  B05C11/00

CPC分类号： C25D3/54 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4411 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  C23C30/005 ,  C25D3/44 ,  C25D3/56 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  H01J37/32477 ,  H01L21/67115 ,  Y10T428/12458 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12618 ,  Y10T428/12667 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/12806

摘要： A component capable of being exposed to a plasma in a process chamber has a structure having an electroplated coating comprising yttrium-containing species. The electroplated coating can include zirconium oxide, or can have an oxide layer thereon. In another embodiment the electroplated coating comprises a first species and is coated with a second electroplated coating comprising a second species that is different from the first species. The electroplated coating is resistant to corrosion in the plasma. In another embodiment, the electroplated coating has an interface having a thickness with a first concentration gradient of an yttrium-containing species and a second concentration gradient of a second species. An electroplated coating having a layer comprising first and second concentration gradients of first and second metals can be formed by varying the concentration of the first and second metal electrolyte species in the electroplating bath to electroplate the coating.

摘要翻译： 能够在处理室中暴露于等离子体的组分具有包含含钇物质的电镀涂层的结构。 电镀涂层可以包括氧化锆，或者可以在其上具有氧化物层。 在另一个实施方案中，电镀涂层包括第一种，并涂覆有包含与第一种不同的第二物质的第二电镀涂层。 电镀涂层耐等离子体腐蚀。 在另一个实施方案中，电镀涂层具有具有包含钇的物质的第一浓度梯度和第二种类的第二浓度梯度的厚度的界面。 具有包含第一和第二金属的第一和第二浓度梯度的层的电镀涂层可以通过改变电镀浴中的第一和第二金属电解质种类的浓度以电镀该涂层来形成。

公开(公告)号：US07371467B2

公开(公告)日：2008-05-13

申请号：US10824123

申请日：2004-04-13

申请人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

发明人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

IPC分类号： B32B15/04 ,  B32B15/20 ,  B01J19/02 ,  B05C11/00 ,  G03F7/16

CPC分类号： C25D3/54 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4411 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  C23C30/005 ,  C25D3/44 ,  C25D3/56 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  H01J37/32477 ,  H01L21/67115 ,  Y10T428/12458 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12618 ,  Y10T428/12667 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/12806

摘要： A component capable of being exposed to a plasma in a process chamber has a structure having an electroplated coating comprising yttrium-containing species. The electroplated coating is resistant to corrosion in the plasma, and can have a compositional gradient of yttrium-containing species through a thickness of the coating. In one embodiment, the coating is formed by electroplating a layer comprising yttrium onto the surface, and then electroplating a second layer onto the first layer, and annealing the first and second layers. The second layer can comprise aluminum or zirconium. In another embodiment, the coating is formed by electroplating a layer comprising a mixture of aluminum and yttrium onto the surface and annealing the layer.

摘要翻译： 能够在处理室中暴露于等离子体的组分具有包含含钇物质的电镀涂层的结构。 电镀涂层在等离子体中具有耐腐蚀性，并且可以通过涂层的厚度具有包含钇的物质的组成梯度。 在一个实施例中，通过将包含钇的层电镀到表面上，然后将第二层电镀到第一层上，并对第一和第二层退火来形成涂层。 第二层可以包括铝或锆。 在另一个实施方案中，通过将包含铝和钇的混合物的层电镀在表面上并使层退火来形成涂层。

公开(公告)号：US20120138472A1

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：US13372435

申请日：2012-02-13

申请人： Nianci HAN ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

发明人： Nianci HAN ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

IPC分类号： C25D5/10 ,  C25D5/50

CPC分类号： C25D3/54 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4411 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  C23C30/005 ,  C25D3/44 ,  C25D3/56 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  H01J37/32477 ,  H01L21/67115 ,  Y10T428/12458 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12618 ,  Y10T428/12667 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/12806

摘要： Methods of fabricating a chamber component capable of being exposed to a plasma in a process chamber includes: providing a component structure composed of metal; immersing the surface of the component structure in an electroplating bath comprising first metal electrolyte species and second metal electrolyte species; forming a cathode by connecting the component structure to a negative terminal of a voltage source; immersing in the electroplating bath, an anode comprising an inert material or material to be electroplated, and connecting the anode to a positive terminal of the voltage source; and electroplating a layer having a concentration gradient of the first metal, second metal, or both.

摘要翻译： 制造能够在处理室中暴露于等离子体的室部件的方法包括：提供由金属构成的部件结构; 将组件结构的表面浸入包括第一金属电解质种类和第二金属电解质种类的电镀浴中; 通过将部件结构连接到电压源的负端来形成阴极; 浸渍在电镀浴中，包含惰性材料或待电镀材料的阳极，并将阳极连接到电压源的正端子; 以及电镀具有第一金属，第二金属或两者的浓度梯度的层。

公开(公告)号：US07833401B2

公开(公告)日：2010-11-16

申请号：US11766723

申请日：2007-06-21

申请人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

发明人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

IPC分类号： C25D5/10 ,  C25D5/50 ,  C25D3/54

CPC分类号： C25D3/54 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4411 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  C23C30/005 ,  C25D3/44 ,  C25D3/56 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  H01J37/32477 ,  H01L21/67115 ,  Y10T428/12458 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12618 ,  Y10T428/12667 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/12806

摘要： A method of forming a component capable of being exposed to a plasma in a process chamber comprises forming a structure comprising a surface and electroplating yttrium, and optionally aluminum or zirconium, onto the surface. Thereafter, the electroplated layer can be annealed to oxide the yttrium and other electroplated species.

摘要翻译： 形成能够在处理室中暴露于等离子体的组分的方法包括在表面上形成包括表面和电镀钇以及任选的铝或锆的结构。 此后，可以将电镀层退火以氧化钇和其它电镀物质。

公开(公告)号：US20080017516A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11766723

申请日：2007-06-21

申请人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Sun

发明人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Sun

IPC分类号： C25D5/16

CPC分类号： C25D3/54 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4411 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  C23C30/005 ,  C25D3/44 ,  C25D3/56 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  H01J37/32477 ,  H01L21/67115 ,  Y10T428/12458 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12618 ,  Y10T428/12667 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/12806

摘要： A method of forming a component capable of being exposed to a plasma in a process chamber comprises forming a structure comprising a surface and electroplating yttrium, and optionally aluminum or zirconium, onto the surface. Thereafter, the electroplated layer can be annealed to oxide the yttrium and other electroplated species.

摘要翻译： 形成能够在处理室中暴露于等离子体的组分的方法包括在表面上形成包括表面和电镀钇以及任选的铝或锆的结构。 此后，可以将电镀层退火以氧化钇和其它电镀物质。

公开(公告)号：US20080223725A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：US12151842

申请日：2008-05-08

申请人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

发明人： Nianci Han ,  Li Xu ,  Hong Shih ,  Yang Zhang ,  Danny Lu ,  Jennifer Y. Sun

IPC分类号： C25D5/00 ,  B29C31/00 ,  C23C16/00

CPC分类号： C25D3/54 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4411 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  C23C30/005 ,  C25D3/44 ,  C25D3/56 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  H01J37/32477 ,  H01L21/67115 ,  Y10T428/12458 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12618 ,  Y10T428/12667 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/12806

摘要： A component capable of being exposed to a plasma in a process chamber has a structure having an electroplated coating comprising yttrium-containing species. The electroplated coating can include zirconium oxide, or can have an oxide layer thereon. In another embodiment the electroplated coating comprises a first species and is coated with a second electroplated coating comprising a second species that is different from the first species. The electroplated coating is resistant to corrosion in the plasma. In another embodiment, the electroplated coating has an interface having a thickness with a first concentration gradient of an yttrium-containing species and a second concentration gradient of a second species. An electroplated coating having a layer comprising first and second concentration gradients of first and second metals can be formed by varying the concentration of the first and second metal electrolyte species in the electroplating bath to electroplate the coating.

摘要翻译： 能够在处理室中暴露于等离子体的组分具有包含含钇物质的电镀涂层的结构。 电镀涂层可以包括氧化锆，或者可以在其上具有氧化物层。 在另一个实施方案中，电镀涂层包括第一种，并涂覆有包含与第一种不同的第二物质的第二电镀涂层。 电镀涂层耐等离子体腐蚀。 在另一个实施方案中，电镀涂层具有具有包含钇的物质的第一浓度梯度和第二种类的第二浓度梯度的厚度的界面。 具有包含第一和第二金属的第一和第二浓度梯度的层的电镀涂层可以通过改变电镀浴中的第一和第二金属电解质种类的浓度以电镀该涂层来形成。