公开(公告)号：US08368868B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US20100159399A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US20120327386A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：US13494638

申请日：2012-06-12

申请人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

发明人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system, a substrate table, a plurality of sensors, an actuator and a controller. The projection system is configured to project a patterned beam of radiation onto a substrate. The substrate table is configured to support the substrate and to move relative to the projection system. The plurality of sensors is configured to measure a deformation of the substrate table. The actuator is configured to deform the substrate table. The controller is configured to control the actuator to deform the substrate table based on measurements made by the sensors. The plurality of sensors is located on a first side of the substrate table opposite to a second side of the substrate table facing the projection system. The plurality of sensors is substantially stationary relative to the projection system.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，衬底台，多个传感器，致动器和控制器。 投影系统被配置为将图案化的辐射束投射到衬底上。 衬底台被配置为支撑衬底并相对于投影系统移动。 多个传感器被配置成测量衬底台的变形。 致动器构造成使基板台变形。 控制器被配置成基于由传感器进行的测量来控制致动器使基板台变形。 多个传感器位于与衬底台面对投影系统的第二侧相对的衬底台的第一侧上。 多个传感器相对于投影系统基本上是静止的。

公开(公告)号：US09329501B2

公开(公告)日：2016-05-03

申请号：US13494638

申请日：2012-06-12

申请人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

发明人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system, a substrate table, a plurality of sensors, an actuator and a controller. The projection system is configured to project a patterned beam of radiation onto a substrate. The substrate table is configured to support the substrate and to move relative to the projection system. The plurality of sensors is configured to measure a deformation of the substrate table. The actuator is configured to deform the substrate table. The controller is configured to control the actuator to deform the substrate table based on measurements made by the sensors. The plurality of sensors is located on a first side of the substrate table opposite to a second side of the substrate table facing the projection system. The plurality of sensors is substantially stationary relative to the projection system.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，衬底台，多个传感器，致动器和控制器。 投影系统被配置为将图案化的辐射束投射到衬底上。 衬底台被配置为支撑衬底并相对于投影系统移动。 多个传感器被配置成测量衬底台的变形。 致动器构造成使基板台变形。 控制器被配置成基于由传感器进行的测量来控制致动器使基板台变形。 多个传感器位于与衬底台面对投影系统的第二侧相对的衬底台的第一侧上。 多个传感器相对于投影系统基本上是静止的。

公开(公告)号：US08482719B2

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：US12830963

申请日：2010-07-06

申请人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/32 ,  G03B27/62 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783

摘要： A positioning system to position a movable object having a body, the positioning system includes an object position measurement system, an object actuator, and an object controller, wherein the positioning system further includes a stiffener to increase the stiffness and/or to damp relative movements within the body of the object, the stiffener including; one or more sensors, wherein each sensor is arranged to determine a measurement signal representative of an internal strain or relative displacement in the body, one or more actuators, wherein each actuator is arranged to exert an actuation force on a part of the body, and at least one controller, configured to provide on the basis of the measurement signal of at least one of the sensors, an actuation signal to at least one of the actuators to increase the stiffness and/or to damp movements within the body.

摘要翻译： 一种定位系统，用于定位具有主体的可移动物体，所述定位系统包括物体位置测量系统，物体致动器和物体控制器，其中所述定位系统还包括加强件，以增加刚度和/或阻尼相对运动 在物体的身体内，加强筋包括; 一个或多个传感器，其中每个传感器布置成确定表示体内的内部应变或相对位移的测量信号，一个或多个致动器，其中每个致动器布置成在身体的一部分上施加致动力，以及 至少一个控制器，被配置为基于所述传感器中的至少一个传感器的测量信号提供到所述致动器中的至少一个致动器的致动信号，以增加所述刚度和/或抑制所述主体内的运动。

公开(公告)号：US20130194586A1

公开(公告)日：2013-08-01

申请号：US13564665

申请日：2012-08-01

申请人： Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B11/14 ,  G01D5/38 ,  G03F7/70775

摘要： A system for detecting motion of a body, the system comprising: a body; a first grating mounted substantially stationary relative to a frame of reference; a second grating mounted on the body; a detector arranged to receive one or more radiation beams diffracted at the first and second gratings thereby to detect motion of the body relative to the frame of reference; wherein the detector is coupled to the body and moveable relative to the body.

摘要翻译： 一种用于检测身体运动的系统，所述系统包括：主体; 相对于参考框架基本上固定的第一光栅; 安装在本体上的第二光栅; 检测器，布置成接收在第一和第二光栅处衍射的一个或多个辐射束，从而检测身体相对于参考系的运动; 其中所述检测器联接到所述主体并且相对于所述主体可移动。

公开(公告)号：US09019470B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US12627094

申请日：2009-11-30

申请人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/44 ,  G03B27/42 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate support constructed to hold a substrate; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and an encoder-type measurement system configured to at least during projection of the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate continuously determine a position quantity of a patterning device supported on the patterning device support using a grid or grating provided on the patterning device.

摘要翻译： 本发明涉及一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予辐射束以形成图案， 图案化的辐射束，被构造成保持衬底的衬底支撑件; 配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统，以及配置成至少在将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的编码器型测量系统中，连续地确定 使用设置在图案形成装置上的格栅或格栅支撑在图案形成装置支撑体上的图案形成装置。

公开(公告)号：US08982359B2

公开(公告)日：2015-03-17

申请号：US13564665

申请日：2012-08-01

申请人： Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G01B11/14 ,  G01B11/24 ,  G01D5/38 ,  G03F7/20

CPC分类号： G01B11/14 ,  G01D5/38 ,  G03F7/70775

摘要： A system for detecting motion of a body, the system comprising: a body; a first grating mounted substantially stationary relative to a frame of reference; a second grating mounted on the body; a detector arranged to receive one or more radiation beams diffracted at the first and second gratings thereby to detect motion of the body relative to the frame of reference; wherein the detector is coupled to the body and moveable relative to the body.

摘要翻译： 一种用于检测身体运动的系统，所述系统包括：主体; 相对于参考框架基本上固定的第一光栅; 安装在本体上的第二光栅; 检测器，布置成接收在第一和第二光栅处衍射的一个或多个辐射束，从而检测身体相对于参考系的运动; 其中所述检测器联接到所述主体并且相对于所述主体可移动。

公开(公告)号：US20100157263A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627094

申请日：2009-11-30

申请人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F1/44 ,  G03B27/42 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate support constructed to hold a substrate; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and an encoder-type measurement system configured to at least during projection of the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate continuously determine a position quantity of a patterning device supported on the patterning device support using a grid or grating provided on the patterning device.

摘要翻译： 本发明涉及一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予辐射束以形成图案， 图案化的辐射束，被构造成保持衬底的衬底支撑件; 配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统，以及配置成至少在将图案化的辐射束投射到基板的目标部分上的编码器型测量系统中，连续地确定 使用设置在图案形成装置上的格栅或格栅支撑在图案形成装置支撑体上的图案形成装置。

公开(公告)号：US09110387B2

公开(公告)日：2015-08-18

申请号：US13477748

申请日：2012-05-22

申请人： Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Yang-Shan Huang

发明人： Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Yang-Shan Huang

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70783 ,  G03F7/70758

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The lithographic apparatus further includes a substrate table constructed to hold a substrate; a positioner constructed to position the substrate table; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate; a substrate surface actuator arranged to engage a part of a surface of the substrate facing the projection system, and a position controller configured to control a position of the substrate table, the position controller being arranged to drive the positioner and the substrate surface actuator.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为调节辐射束和构造成支撑图案形成装置的支撑件的照明系统，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。 所述光刻设备还包括构造成保持基板的基板台; 定位器，其被构造成定位所述衬底台; 投影系统，被配置为将所述图案化的辐射束投影到所述基板的目标部分上; 衬底表面致动器，布置成接合面向投影系统的衬底的表面的一部分;以及位置控制器，其被配置为控制衬底台的位置，位置控制器布置成驱动定位器和衬底表面致动器。