公开(公告)号：US20080066676A1

公开(公告)日：2008-03-20

申请号：US11549968

申请日：2006-10-16

申请人： John Mariner ,  Ajit Sane ,  Toshiki Ebata ,  Marc Schaepkens ,  Xiang Liu ,  Wei Fan

发明人： John Mariner ,  Ajit Sane ,  Toshiki Ebata ,  Marc Schaepkens ,  Xiang Liu ,  Wei Fan

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4586 ,  H01L21/67103

摘要： A heating apparatus for regulating/controlling the surface temperature of a substrate is provided. At least a thermal pyrolytic graphite (TPG) layer is embedded in the heater to diffuse the temperature difference of the various components in the heating apparatus and provide temporal and spatial control of the surface temperature of the substrate, for a relatively uniform substrate temperature with the difference between the maximum and minimum temperature points on the substrate of less than 10° C.

摘要翻译： 提供一种用于调节/控制基板的表面温度的加热装置。 至少一个热解石墨（TPG）层嵌入在加热器中以扩散加热装置中的各种组分的温度差，并提供衬底的表面温度的时间和空间控制，对于相对均匀的衬底温度， 基板上最大和最小温度点之间的差值小于10°C

公开(公告)号：US07901509B2

公开(公告)日：2011-03-08

申请号：US11549968

申请日：2006-10-16

申请人： John Mariner ,  Ajit Sane ,  Toshiki Ebata ,  Marc Schaepkens ,  Xiang Liu ,  Wei Fan

发明人： John Mariner ,  Ajit Sane ,  Toshiki Ebata ,  Marc Schaepkens ,  Xiang Liu ,  Wei Fan

IPC分类号： C23C16/00 ,  H01L21/306

CPC分类号： C23C16/4586 ,  H01L21/67103

摘要： A heating apparatus for regulating/controlling the surface temperature of a substrate is provided. At least a thermal pyrolytic graphite (TPG) layer is embedded in the heater to diffuse the temperature difference of the various components in the heating apparatus and provide temporal and spatial control of the surface temperature of the substrate, for a relatively uniform substrate temperature with the difference between the maximum and minimum temperature points on the substrate of less than 10° C.

摘要翻译： 提供一种用于调节/控制基板的表面温度的加热装置。 至少一个热解石墨（TPG）层被嵌入在加热器中以扩散加热装置中的各种组分的温度差，并提供衬底的表面温度的时间和空间控制，对于相对均匀的衬底温度， 基板上最大和最小温度点之间的差值小于10°C

公开(公告)号：US07777160B2

公开(公告)日：2010-08-17

申请号：US12002381

申请日：2007-12-17

申请人： Wei Fan ,  Benjamin J. Olechnowicz ,  Marc Schaepkens ,  David M. Rusinko, Jr. ,  Xiang Liu ,  John T. Mariner

发明人： Wei Fan ,  Benjamin J. Olechnowicz ,  Marc Schaepkens ,  David M. Rusinko, Jr. ,  Xiang Liu ,  John T. Mariner

IPC分类号： H05B3/68 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/68735 ,  H01L21/67103 ,  H05B3/143

摘要： A layered heater structure including an electrode layer and a localized tuning method for tuning the electrode layer of a layered heater structure with high precision is provided. The localized tuning method tunes the electrode layer to its proper local resistance to minimize temperature offsets on the heater surface and thus provide a desired thermal profile that is in marked contrast to conventional, non-localized resistance tuning approaches based on thickness trimming practices, such as grinding or blasting, or resistivity adjustment, such as local heat treatment.

摘要翻译： 提供了包括电极层和用于高精度地调谐层状加热器结构的电极层的局部调谐方法的层状加热器结构。 局部调谐方法将电极层调整到其适当的局部电阻以最小化加热器表面上的温度偏移，并因此提供期望的热分布，其与基于厚度修整实践的常规非局部电阻调谐方法形成鲜明对比，例如 研磨或爆破，或电阻率调整，如局部热处理。

公开(公告)号：US20090152259A1

公开(公告)日：2009-06-18

申请号：US12002381

申请日：2007-12-17

申请人： Wei Fan ,  Benjamin J. Olechnowicz ,  Marc Schaepkens ,  David M. Rusinko, JR. ,  Xiang Liu ,  John T. Mariner

发明人： Wei Fan ,  Benjamin J. Olechnowicz ,  Marc Schaepkens ,  David M. Rusinko, JR. ,  Xiang Liu ,  John T. Mariner

IPC分类号： H05B3/68 ,  G06F17/50 ,  G06G7/62

CPC分类号： H01L21/68735 ,  H01L21/67103 ,  H05B3/143

摘要： A layered heater structure including an electrode layer and a localized tuning method for tuning the electrode layer of a layered heater structure with high precision is provided. The localized tuning method tunes the electrode layer to its proper local resistance to minimize temperature offsets on the heater surface and thus provide a desired thermal profile that is in marked contrast to conventional, non-localized resistance tuning approaches based on thickness trimming practices, such as grinding or blasting, or resistivity adjustment, such as local heat treatment.

摘要翻译： 提供了包括电极层和用于高精度地调谐层状加热器结构的电极层的局部调谐方法的层状加热器结构。 局部调谐方法将电极层调整到其适当的局部电阻以最小化加热器表面上的温度偏移，并因此提供期望的热分布，其与基于厚度修整实践的常规非局部电阻调谐方法形成鲜明对比，例如 研磨或爆破，或电阻率调整，如局部热处理。

公开(公告)号：US20070053168A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US11555681

申请日：2006-11-01

申请人： Haluk Sayir ,  Arik Mehmet ,  Evan Cooper ,  Tunc Icoz ,  Marc Schaepkens ,  Xiang Liu

发明人： Haluk Sayir ,  Arik Mehmet ,  Evan Cooper ,  Tunc Icoz ,  Marc Schaepkens ,  Xiang Liu

IPC分类号： H05K7/20

CPC分类号： H01L23/3672 ,  B32B18/00 ,  B32B2315/02 ,  C04B35/522 ,  C04B35/645 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2237/086 ,  C04B2237/32 ,  C04B2237/363 ,  C04B2237/66 ,  C04B2237/704 ,  C04B2237/82 ,  C04B2237/84 ,  F28F3/02 ,  F28F3/022 ,  F28F3/025 ,  F28F13/18 ,  F28F21/02 ,  G06F1/20 ,  H01L23/367 ,  H01L23/3677 ,  H01L23/373 ,  H01L23/3735 ,  H01L23/467 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A heat sink assembly for an electronic device or a heat generating device(s) is constructed from an ultra-thin graphite layer. The ultra-thin graphite layer exhibits thermal conductivity which is anisotropic in nature and is greater than 500 W/m° C. in at least one plane and comprises at least a graphene layer. The ultra-thin graphite layer is structurally supported by a layer comprising at least one of a metal, a polymeric resin, a ceramic, and a mixture thereof, which is disposed on at least one surface of the graphite layer.

摘要翻译： 用于电子装置或发热装置的散热器组件由超薄石墨层构成。 超薄石墨层本质上具有各向异性的热导率，并且在至少一个平面中大于500W / m℃，并且至少包括石墨烯层。 超薄石墨层在结构上由包含金属，聚合物树脂，陶瓷及其混合物中的至少一种的层支撑，该层设置在石墨层的至少一个表面上。

公开(公告)号：US20080128067A1

公开(公告)日：2008-06-05

申请号：US11983288

申请日：2007-11-08

申请人： Haluk Sayir ,  Bob Marchiando ,  Evan Cooper ,  Xiang Liu ,  Marc Schaepkens

发明人： Haluk Sayir ,  Bob Marchiando ,  Evan Cooper ,  Xiang Liu ,  Marc Schaepkens

IPC分类号： B32B37/00 ,  B05D1/12 ,  B32B7/02 ,  B32B15/04

CPC分类号： H01L23/373 ,  C09K5/14 ,  H01L23/3733 ,  H01L23/3736 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/31678 ,  H01L2924/00

摘要： A heat transfer composite including a plurality of pyrolytic graphite parts and a non-carbonaceous matrix holding the pyrolytic graphite parts in a consolidated mass. In one embodiment, the heat transfer composite includes a quantity of pyrolytic graphite parts randomly distributed in the non-carbonaceous matrix. In another embodiment, the heat transfer composite includes distinct layers of pyrolytic graphite parts disposed in between the layers of sheets comprising non-carbonaceous materials. In still another embodiment, the heat transfer composite comprises a substrate containing at least one non-carbonaceous matrix containing at least one pyrolytic graphite part in a consolidated mass. The matrix is affixed to the substrate for conveying heat away from a heat source.

摘要翻译： 一种传热复合材料，其包括多个热解石墨部件和将热解石墨部件保持在固结质量中的非碳质基体。 在一个实施方案中，传热复合材料包括一定数量的随机分布在非碳质基质中的热解石墨部件。 在另一个实施方案中，传热复合材料包括布置在包含非碳质材料的片层之间的不同层的热解石墨部件。 在另一个实施方案中，传热复合材料包含含有至少一种在固结体中含有至少一个热解石墨部分的非碳质基质的基材。 基体固定在基板上，用于将热量从热源传送出去。

公开(公告)号：US20070181065A1

公开(公告)日：2007-08-09

申请号：US11550785

申请日：2006-10-18

申请人： Akinobu Otaka ,  Takeshi Higuchi ,  Sridhar Ramaprasad Prasad ,  Wei Fan ,  Marc Schaepkens ,  Douglas A. Longworth

发明人： Akinobu Otaka ,  Takeshi Higuchi ,  Sridhar Ramaprasad Prasad ,  Wei Fan ,  Marc Schaepkens ,  Douglas A. Longworth

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4581 ,  C23C16/46 ,  H01L21/67103

摘要： An etch resistant heater for use in a wafer processing assembly with an excellent ramp rate of at least 20° C. per minute. The heater is coated with a protective overcoating layer allowing the heater to have a radiation efficiency above 70% at elevated heater temperatures of >1500° C., and an etch rate in NF3 at 600° C. of less than 100 A/min.

摘要翻译： 用于晶片加工组件的耐蚀刻加热器，具有至少20℃/分钟的优异的斜坡速率。 加热器涂覆有保护性外涂层，允许加热器在升高的加热器温度> 1500℃时具有高于70％的辐射效率，并且在600℃下具有NF 3 N的蚀刻速率。 小于100A / min。

公开(公告)号：US20080016684A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11557905

申请日：2006-11-08

申请人： Benjamin J. Olechnowicz ,  David M. Rusinko ,  Wei Fan ,  Demetrius Sarigiannis ,  Marc Schaepkens ,  Douglas A. Longworth

发明人： Benjamin J. Olechnowicz ,  David M. Rusinko ,  Wei Fan ,  Demetrius Sarigiannis ,  Marc Schaepkens ,  Douglas A. Longworth

IPC分类号： H01R43/00

CPC分类号： H01L21/67103 ,  C03C3/062 ,  C03C4/20 ,  H01L21/6875 ,  H01L21/68757 ,  H01L21/68785 ,  Y10T29/53213

摘要： A wafer processing apparatus characterized by having corrosion resistant connections for its electrical connections, gas feed-through channels, recessed areas, raised areas, MESA, through-holes such as lift-pin holes, threaded bolt holes, blind holes, and the like, with the special configurations employing connectors and fillers having excellent chemical resistant properties and optimized CTEs, i.e., having a coefficient of thermal expansion (CTE) that closely matches the CTE of the base substrate layer, the electrode(s), as well as the CTE of coating layer. In one embodiment, a nickel plated molybdenum insert is employed.

摘要翻译： 一种晶片处理装置，其特征在于具有用于其电连接，气体馈通通道，凹陷区域，凸起区域，MESA，诸如提升针孔，螺纹孔，盲孔等通孔的耐腐蚀连接， 具有采用具有优异的耐化学性能和优化的CTE的连接器和填料的特殊构造，即具有与基底衬底层，电极以及CTE的CTE密切匹配的热膨胀系数（CTE） 的涂层。 在一个实施例中，使用镀镍的钼插入件。

公开(公告)号：US08940397B2

公开(公告)日：2015-01-27

申请号：US13036348

申请日：2011-02-28

申请人： Honnaiah Mallesha ,  Anantharaman Dhanabalan ,  Robert F. Hayes ,  Narayana Padmanabha Iyer ,  Marc Schaepkens

发明人： Honnaiah Mallesha ,  Anantharaman Dhanabalan ,  Robert F. Hayes ,  Narayana Padmanabha Iyer ,  Marc Schaepkens

IPC分类号： C08K3/22 ,  C09D7/12 ,  C09D169/00 ,  C08L75/08 ,  C09D175/08 ,  C08G18/10 ,  C08G18/44 ,  C08J7/04 ,  C09D175/06 ,  B05D1/00 ,  B05D5/00 ,  B05D7/02 ,  B05D7/00 ,  C08L75/04 ,  C08K3/00 ,  C08K3/20

CPC分类号： C09D169/00 ,  B05D1/62 ,  B05D5/00 ,  B05D7/02 ,  B05D7/52 ,  C08G18/10 ,  C08G18/44 ,  C08J7/042 ,  C08J2469/00 ,  C08J2475/04 ,  C08K3/014 ,  C08K3/20 ,  C08K3/22 ,  C08K2003/2213 ,  C08K2003/2241 ,  C08K2003/2244 ,  C08K2003/2296 ,  C08L75/04 ,  C08L75/08 ,  C09D7/61 ,  C09D175/06 ,  C09D175/08 ,  Y10T428/31507 ,  C08G18/718

摘要： Disclosed herein is a primer composition comprising an inorganic UV absorbing agent and a polymer selected from (i) a copolycarbonate, and (ii) a polyurethane obtained by reaction of a polyisocyanate and a copolycarbonate diol. Also disclosed is a coated article comprising a polymeric substrate, a primer layer disposed on at least one surface of said substrate, and an abrasion-resistant layer disposed on said primer layer, where the primer layer is made from the primer composition of the invention.

摘要翻译： 本文公开了包含无机UV吸收剂和选自（i）共聚碳酸酯和（ii）通过多异氰酸酯和共聚碳酸酯二醇反应获得的聚氨酯的聚合物的底漆组合物。 还公开了一种涂覆制品，其包括聚合物基材，设置在所述基材的至少一个表面上的底漆层和设置在所述底漆层上的耐磨层，其中底漆层由本发明的底漆组合物制成。

公开(公告)号：US08236424B2

公开(公告)日：2012-08-07

申请号：US12352386

申请日：2009-01-12

申请人： Marc Schaepkens ,  Gregory Ronald Gillette ,  Charles Dominic Iacovangelo

发明人： Marc Schaepkens ,  Gregory Ronald Gillette ,  Charles Dominic Iacovangelo

IPC分类号： C08G63/00 ,  C08G63/02

CPC分类号： H01L31/0203 ,  C23C14/022 ,  C23C14/06 ,  H01L31/0216 ,  H01L31/0392 ,  H01L31/03926 ,  H01L33/44 ,  H01L51/5256 ,  H01L2251/5338 ,  Y02E10/50 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31855

摘要： An electro-optical device having at least one base and a multilayer coating surface disposed on at least one surface of the base. The at least one base may comprise either an optically or electronically active portion or a flexible polymeric material. The multilayer coating set comprises at least one organic layer and at least one inorganic layer. The base and multilayer coating set are transparent. The multilayer coating set provides a barrier to moisture and oxygen and provides chemical resistance. The multilayer coating set is also mechanically flexible and thermally stable up to a glass transition temperature of the base.

摘要翻译： 一种具有至少一个基底和设置在基底的至少一个表面上的多层涂层表面的电光装置。 所述至少一个基底可以包括光学或电子活性部分或柔性聚合材料。 多层涂层组包括至少一个有机层和至少一个无机层。 基底和多层涂层是透明的。 多层涂层提供了水分和氧气的屏障，并提供耐化学性。 该多层涂层组合也是机械柔性且热稳定的，直到基底的玻璃化转变温度。