公开(公告)号：US20140012672A1

公开(公告)日：2014-01-09

申请号：US13543708

申请日：2012-07-06

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng ,  Hong Chen

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng ,  Hong Chen

IPC分类号： G06Q30/02

CPC分类号： G06Q30/0241

摘要： A method of providing targeted online advertisement includes receiving a request for an ad impression. The request includes a first content and a second content. The method also includes determining information related to (i) a context of the first content, (ii) a context of the second content, and (iii) a correlation between the context of the first content and the context of the second content, and providing the determined information to a bidding service, thereby enabling one or more advertisers to place one or more bids on the ad impression based on the provided information. Each of the one or more bids includes a bid price. The method further includes receiving the one or more bids for the ad impression, selecting one of the one or more received bids based at least in part on the bid prices, and providing an ad impression associated with the selected bid.

摘要翻译： 提供有针对性的在线广告的方法包括接收对广告印象的请求。 该请求包括第一内容和第二内容。 该方法还包括确定与（i）第一内容的上下文相关的信息，（ii）第二内容的上下文，以及（iii）第一内容的上下文与第二内容的上下文之间的相关性，以及 将确定的信息提供给投标服务，从而使得一个或多个广告商能够基于所提供的信息对广告印象进行一个或多个出价。 每个一个或多个出价都包含一个出价。 所述方法还包括接收针对所述广告展示的所述一个或多个出价，至少部分地基于所述出价来选择所述一个或多个所接收的出价中的一个，以及提供与所选择的出价相关联的广告展示。

公开(公告)号：US20140012671A1

公开(公告)日：2014-01-09

申请号：US13543705

申请日：2012-07-06

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng ,  Hong Chen

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng ,  Hong Chen

IPC分类号： G06Q30/02

CPC分类号： G06Q30/0251

摘要： A method of providing targeted online advertisement includes receiving a request for an ad impression to be provided to a user in a network environment. The request includes a first content and a second content. The method also includes, using a processor, determining a context of the first content and a context of the second content, determining a correlation between the context of the first content and the context of the second content, and identifying a plurality of ads as candidates for consideration. The method further includes, using the processor, ranking the plurality of identified ads, selecting an ad among the plurality of identified ads based at least in part on a result of the ranking, and providing the selected ad as the ad impression to be displayed to the user in response to receiving the request.

摘要翻译： 提供目标在线广告的方法包括在网络环境中接收要向用户提供的广告印象的请求。 该请求包括第一内容和第二内容。 该方法还包括使用处理器确定第一内容的上下文和第二内容的上下文，确定第一内容的上下文与第二内容的上下文之间的相关性，以及将多个广告标识为候选 审议。 所述方法还包括：使用所述处理器对所述多个识别的广告进行排名，至少部分地基于所述排名的结果来选择所述多个识别的广告中的广告，并且将所选择的广告提供为要显示的广告展示 用户响应于接收到请求。

公开(公告)号：US20130041750A1

公开(公告)日：2013-02-14

申请号：US13209256

申请日：2011-08-12

申请人： Jun YE ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng

发明人： Jun YE ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06Q30/00

CPC分类号： G06Q30/02

摘要： The various embodiments described in the present disclosure, in at least one aspect, relate to computer-implemented methods of online advertisement. In one embodiment, a method includes determining an attention score for each of a plurality of ad creatives corresponding to a common ad content based on at least a correlation between each ad creative and a user's subconscious interest. The method further includes selecting an ad creative among the plurality of ad creatives based at least in part on the attention scores, and presenting the ad content with the selected ad creative as an ad impression to the user.

摘要翻译： 在至少一个方面，在本公开中描述的各种实施例涉及计算机实现的在线广告的方法。 在一个实施例中，一种方法包括至少基于每个广告创意和用户的潜意识兴趣之间的相关性来确定对应于普通广告内容的多个广告素材中的每一个的注意分数。 所述方法还包括至少部分地基于所述注意分数来选择所述多个广告创意中的广告创意，以及向所述用户呈现作为广告展示的所选广告素材的广告内容。

公开(公告)号：US20130066716A1

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：US13230720

申请日：2011-09-12

申请人： Luoqi Chen ,  Jun Ye ,  Ya Luo ,  Yu Cao ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng

发明人： Luoqi Chen ,  Jun Ye ,  Ya Luo ,  Yu Cao ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06Q30/00

CPC分类号： G06Q30/00

摘要： The various embodiments described in the present disclosure, in at least one aspect, relate to computer-implemented methods of online advertisement. In one embodiment, a method includes, in response to receiving a request for an ad to be provided to a user in an online session, identifying a plurality of ads as candidates for consideration, determining one or more sentiments of a content of the online session, and ranking the plurality of identified ads based at least in part on (i) a correlation between the content of the online session and a content of each identified ad, and (ii) a correlation between the one or more sentiments of the content of the online session and the content of each identified ad.

摘要翻译： 在至少一个方面，在本公开中描述的各种实施例涉及计算机实现的在线广告的方法。 在一个实施例中，一种方法包括响应于在在线会话中接收到要提供给用户的广告的请求，将多个广告标识为候选作为考虑，确定在线会话的内容的一个或多个情绪 并且至少部分地基于（i）在线会话的内容与每个所识别的广告的内容之间的相关性，以及（ii）所述内容的一个或多个情绪之间的相关性来对多个所识别的广告进行排名 在线会话和每个已识别广告的内容。

公开(公告)号：US08930172B2

公开(公告)日：2015-01-06

申请号：US13128630

申请日：2009-11-10

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng ,  Wenjin Shao

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng ,  Wenjin Shao

IPC分类号： G06F17/50 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F1/44

CPC分类号： G06F17/50 ,  G03F1/14 ,  G03F1/44 ,  G03F1/68 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/705 ,  G06F17/10 ,  G06F17/5009

摘要： Methods according to the present invention provide computationally efficient techniques for designing gauge patterns for calibrating a model for use in a simulation process, and which minimize degeneracy between model parameters, and thus maximize pattern coverage for parameter calibration. More specifically, the present invention relates to methods of designing gauge patterns that achieve complete coverage of parameter variations with minimum number of gauges and corresponding measurements in the calibration of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features. According to some aspects, a method according to the invention includes transforming the space of model parametric space (based on CD sensitivity or Delta TCCs), then iteratively identifying the direction that is most orthogonal to existing gauges' CD sensitivities in this new space, and determining most sensitive line width/pitch combination with optimal assist feature placement which leads to most sensitive CD changes along that direction in model parametric space.

摘要翻译： 根据本发明的方法提供用于设计用于校准用于模拟过程中的模型的计量模式的计算有效的技术，并且使模型参数之间的简并性最小化，并且因此使参数校准的模式覆盖最大化。 更具体地说，本发明涉及设计规格图案的方法，该图形模式可以用最小数量的量规完成覆盖参数变化，并且在用于对具有多个特征的目标设计进行成像的光刻处理的校准中的对应测量。 根据一些方面，根据本发明的方法包括改变模型参数空间的空间（基于CD灵敏度或Delta TCC），然后迭代地识别在该新空间中与现有计量器的CD灵敏度最正交的方向，以及 确定最敏感的线宽/间距组合与最佳辅助功能放置，导致在模型参数空间中沿着该方向的最敏感的CD变化。

公开(公告)号：US20120124529A1

公开(公告)日：2012-05-17

申请号：US13293118

申请日：2011-11-09

申请人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

发明人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/50 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/705

摘要： Described herein are methods for matching the characteristics of a lithographic projection apparatus to a reference lithographic projection apparatus, where the matching includes optimizing illumination source and projection optics characteristics. The projection optics can be used to shape wavefront in the lithographic projection apparatus. According to the embodiments herein, the methods can be accelerated by using linear fitting algorithm or using Taylor series expansion using partial derivatives of transmission cross coefficients (TCCs).

摘要翻译： 这里描述了将光刻投影设备的特性与参考光刻投影设备进行匹配的方法，其中匹配包括优化照明源和投影光学特性。 投影光学元件可用于在光刻投影装置中形成波前。 根据本文的实施例，可以通过使用线性拟合算法或使用使用传输交叉系数（TCC）的偏导数的泰勒级数扩展来加速该方法。

公开(公告)号：US20120117522A1

公开(公告)日：2012-05-10

申请号：US13293114

申请日：2011-11-09

申请人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

发明人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5068 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G06F17/5009 ,  G06F2217/06 ,  G06F2217/08 ,  G06F2217/10 ,  G06F2217/12

摘要： Embodiments of the present invention provide methods for optimizing a lithographic projection apparatus including optimizing projection optics therein, and preferably including optimizing a source, a mask, and the projection optics. The projection optics is sometimes broadly referred to as “lens”, and therefore the joint optimization process may be termed source mask lens optimization (SMLO). SMLO is desirable over existing source mask optimization process (SMO), partially because including the projection optics in the optimization can lead to a larger process window by introducing a plurality of adjustable characteristics of the projection optics. The projection optics can be used to shape wavefront in the lithographic projection apparatus, enabling aberration control of the overall imaging process. According to the embodiments herein, the optimization can be accelerated by iteratively using linear fitting algorithm or using Taylor series expansion using partial derivatives of transmission cross coefficients (TCCs).

摘要翻译： 本发明的实施例提供了优化包括优化其中的投影光学元件的光刻投影设备的方法，并且优选地包括优化源，掩模和投影光学器件。 投影光学器件有时被广泛地称为“透镜”，因此联合优化过程可以被称为源掩模透镜优化（SMLO）。 SMLO对于现有的源掩码优化处理（SMO）是期望的，部分原因在于，通过引入投影光学器件的多个可调特性，优化中的投影光学器件可以导致更大的处理窗口。 投影光学元件可用于在光刻投影设备中形成波前，从而实现整个成像过程的像差控制。 根据本文的实施例，可以通过迭代地使用线性拟合算法或者使用使用传输交叉系数（TCC）的偏导数的泰勒级数扩展来加速优化。

公开(公告)号：US20090157360A1

公开(公告)日：2009-06-18

申请号：US12315849

申请日：2008-12-05

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06F7/60 ,  G06G7/48

CPC分类号： G06F17/5009 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70991

摘要： A method of efficient simulating imaging performance of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features. The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and generating the simulated image utilizing the function, where the simulated image represents the imaging result of the target design for the lithographic process. In one given embodiment, the function for simulating the aerial images with focus and dose (exposure) variation is defined as: I(x,f,1+ε)=I0(x)+[ε·I0(x)+(1+ε)·a(x)·(f−f0)+(1+ε)·b(x)·(f−f0)2] where IO represents image intensity at nominal focus and exposure, fO represents nominal focus, f and ε represents an actual focus-exposure level at which the simulated image is calculated, and parameter “a” and “b” represent first order and second order derivative images with respect to focus change.

摘要翻译： 一种有效地模拟用于对具有多个特征进行成像的目标设计的光刻工艺的成像性能的方法。 该方法包括以下步骤：确定用于产生模拟图像的功能，其中该功能考虑到与光刻工艺相关联的工艺变化; 并利用该功能产生模拟图像，其中模拟图像表示用于光刻工艺的目标设计的成像结果。 在一个给定的实施例中，模拟具有焦点和剂量（曝光）变化的空间图像的功能被定义为：<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> I（x， f（1 +ε）= I0（x）+ε1（x）+（1 +ε）.a（x）（f-f0）+（1 +ε） -f0）2] <？in-line-formula description =“在线公式”end =“tail”？>其中IO表示标称焦点和曝光时的图像强度，fO表示标称焦点，f和epsilon表示实际焦距 - 计算模拟图像的曝光度，参数“a”和“b”表示关于焦点变化的一阶和二阶导数图像。

公开(公告)号：US08893060B2

公开(公告)日：2014-11-18

申请号：US13293114

申请日：2011-11-09

申请人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

发明人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50 ,  G03F1/70 ,  G03F7/20

CPC分类号： G06F17/5068 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G06F17/5009 ,  G06F2217/06 ,  G06F2217/08 ,  G06F2217/10 ,  G06F2217/12

摘要： Embodiments of the present invention provide methods for optimizing a lithographic projection apparatus including optimizing projection optics therein, and preferably including optimizing a source, a mask, and the projection optics. The projection optics is sometimes broadly referred to as “lens”, and therefore the joint optimization process may be termed source mask lens optimization (SMLO). SMLO is desirable over existing source mask optimization process (SMO), partially because including the projection optics in the optimization can lead to a larger process window by introducing a plurality of adjustable characteristics of the projection optics. The projection optics can be used to shape wavefront in the lithographic projection apparatus, enabling aberration control of the overall imaging process. According to the embodiments herein, the optimization can be accelerated by iteratively using linear fitting algorithm or using Taylor series expansion using partial derivatives of transmission cross coefficients (TCCs).

摘要翻译： 本发明的实施例提供了优化包括优化其中的投影光学元件的光刻投影设备的方法，并且优选地包括优化源，掩模和投影光学器件。 投影光学器件有时被广泛地称为“透镜”，因此联合优化过程可以被称为源掩模透镜优化（SMLO）。 SMLO对于现有的源掩码优化处理（SMO）是期望的，部分原因在于，通过引入投影光学器件的多个可调特性，优化中的投影光学器件可以导致更大的处理窗口。 投影光学元件可用于在光刻投影设备中形成波前，从而实现整个成像过程的像差控制。 根据本文的实施例，可以通过迭代地使用线性拟合算法或者使用使用传输交叉系数（TCC）的偏导数的泰勒级数扩展来加速优化。

公开(公告)号：US08443307B2

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：US12613285

申请日：2009-11-05

申请人： Yu Cao ,  Hanying Feng ,  Jun Ye

发明人： Yu Cao ,  Hanying Feng ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/58

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/144 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70991 ,  G06F17/5068

摘要： The present invention relates to a method for tuning lithography systems so as to allow different lithography systems to image different patterns utilizing a known process that does not require a trial and error process to be performed to optimize the process and lithography system settings for each individual lithography system. According to some aspects, the present invention relates to a method for a generic model-based matching and tuning which works for any pattern. Thus it eliminates the requirements for CD measurements or gauge selection. According to further aspects, the invention is also versatile in that it can be combined with certain conventional techniques to deliver excellent performance for certain important patterns while achieving universal pattern coverage at the same time.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于调整光刻系统的方法，以便允许不同的光刻系统利用不需要进行试验和误差处理的已知工艺对不同的图案进行成像，以优化每个单独光刻的工艺和光刻系统设置 系统。 根据一些方面，本发明涉及一种用于任何模式的基于模型的通用匹配和调整的方法。 因此，它消除了对CD测量或量规选择的要求。 根据其它方面，本发明也是通用的，因为它可以与某些常规技术相结合，以在同时实现通用图案覆盖的同时为某些重要图案提供优异的性能。