公开(公告)号：US08663903B2

公开(公告)日：2014-03-04

申请号：US13264285

申请日：2010-04-20

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08F20/22

CPC分类号： C08F20/22 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a top coating composition formed on a resist film, for protecting the resist film, the top coating composition being a top coating composition for photoresist, characterized by containing a fluorine-containing polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). This composition is capable of controlling developing solution solubility and has a high water repellency. [In the formula, R1 represents a hydrogen atom, fluorine atom, methyl group or trifluoromethyl group, R2 represents a heat-labile protecting group, R3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W is a bivalent linking group.]

摘要翻译： 公开了一种形成在抗蚀剂膜上的用于保护抗蚀剂膜的顶部涂料组合物，该顶部涂料组合物是用于光致抗蚀剂的顶部涂料组合物，其特征在于含有具有由以下通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物 ）。 该组合物能够控制显影溶液的溶解度并具有高斥水性。 [式中，R1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基，R2表示热不稳定保护基，R3表示氟原子或含氟烷基，W表示二价连接基。

公开(公告)号：US20120064459A1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：US13320871

申请日：2010-05-14

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F20/22 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/20 ,  C08F20/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a water repellent additive for an immersion resist, which is composed of a fluorine-containing polymer that has a repeating unit represented by general formula (1). By adding the water repellent additive to a resist composition, the resist composition can be controlled to have high water repellency during exposure and to exhibit improved solubility in a developing solution during development. [In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group; R2 represents a heat-labile protecting group; R3 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; and W represents a divalent linking group.]

摘要翻译： 公开了一种浸渍抗蚀剂的防水添加剂，其由具有由通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物组成。 通过将防水添加剂添加到抗蚀剂组合物中，可以将抗蚀剂组合物控制为在曝光期间具有高的拒水性，并且在显影期间在显影液中表现出改善的溶解性。 [式中，R 1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基。 R2代表热不稳定保护基; R3表示氟原子或含氟烷基; W表示二价连接基。]

公开(公告)号：US20120040294A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：US13264285

申请日：2010-04-20

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08K5/05 ,  C09D135/02

CPC分类号： C08F20/22 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a top coating composition formed on a resist film, for protecting the resist film, the top coating composition being a top coating composition for photoresist, characterized by containing a fluorine-containing polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). This composition is capable of controlling developing solution solubility and has a high water repellency. [In the formula, R1 represents a hydrogen atom, fluorine atom, methyl group or trifluoromethyl group, R2 represents a heat-labile protecting group, R3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W is a bivalent linking group.]

摘要翻译： 公开了一种形成在抗蚀剂膜上的用于保护抗蚀剂膜的顶部涂料组合物，该顶部涂料组合物是用于光致抗蚀剂的顶部涂料组合物，其特征在于含有具有由以下通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物 ）。 该组合物能够控制显影溶液的溶解度并具有高斥水性。 [式中，R1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基，R2表示热不稳定保护基，R3表示氟原子或含氟烷基，W表示二价连接基。

公开(公告)号：US09204652B2

公开(公告)日：2015-12-08

申请号：US13876406

申请日：2011-09-28

申请人： Haruhiko Komoriya ,  Katsutoshi Suzuki ,  Toru Tanaka ,  Takamasa Kitamoto ,  Masayuki Shiota ,  Ryoko Shimada ,  Kazuki Tanaka

发明人： Haruhiko Komoriya ,  Katsutoshi Suzuki ,  Toru Tanaka ,  Takamasa Kitamoto ,  Masayuki Shiota ,  Ryoko Shimada ,  Kazuki Tanaka

IPC分类号： A01N55/00 ,  A01N41/10 ,  A01N47/02 ,  C08F12/30 ,  C08F20/38 ,  C09D5/14 ,  C08F220/38

CPC分类号： A01N55/00 ,  A01N41/10 ,  A01N47/02 ,  A01N47/04 ,  C08F12/30 ,  C08F20/38 ,  C08F2220/382 ,  C09D5/14 ,  A01N25/10

摘要： [Problem] To provide an antibacterial agent which can be limited to the required location on the surface of a material without mixing and has excellent antibacterial, antifungal and antiviral effects even at low concentrations of the active component without elution or volatilization.[Solution] An antibacterial agent that contains as an active component a resin having an organic group represented by general formula (I-1). (In the formula (I-1), R1 and R2 mutually independently represent a C1-C4 fluoroalkyl group. “C” and “A” are bonded to each other through a covalent bond or an ionic bond, and “A” represents a hydrogen atom or a cation.)

摘要翻译： [问题]提供可以限制在材料表面上的所需位置而不混合的抗菌剂，即使在低浓度的活性组分没有洗脱或挥发的情况下也具有优异的抗菌，抗真菌和抗病毒作用。 [溶液]作为活性成分含有具有由通式（I-1）表示的有机基团的树脂的抗菌剂。 （式（I-1）中，R 1和R 2相互独立地表示C1〜C4氟代烷基，“C”和“A”通过共价键或离子键彼此键合，“A”表示 氢原子或阳离子）

公开(公告)号：US08592508B2

公开(公告)日：2013-11-26

申请号：US13139641

申请日：2009-12-11

申请人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

发明人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

IPC分类号： C09D133/16

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a top coat composition for photoresist, which is characterized by containing a fluorinated polymer having a repeating unit represented by general formula (5). In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group; n represents 0 or 1; m represents an integer of 1 to (3+n); and R2 or R3 represents a hydrogen atom or a protecting group. The top coat composition has a proper degree of solubility in a developing solution.

摘要翻译： 公开了光致抗蚀剂的面漆组合物，其特征在于含有具有由通式（5）表示的重复单元的含氟聚合物。 在该式中，R 1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基; n表示0或1; m表示1〜（3 + n）的整数。 R 2或R 3表示氢原子或保护基。 面漆组合物在显影液中具有适度的溶解度。

公开(公告)号：US20110245395A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13139641

申请日：2009-12-11

申请人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

发明人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

IPC分类号： C09D133/16 ,  C08K5/05

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a top coat composition for photoresist, which is characterized by containing a fluorinated polymer having a repeating unit represented by general formula (5). In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group; n represents 0 or 1; m represents an integer of 1 to (3+n); and R2 or R3 represents a hydrogen atom or a protecting group. The top coat composition has a proper degree of solubility in a developing solution.

摘要翻译： 公开了光致抗蚀剂的面漆组合物，其特征在于含有具有由通式（5）表示的重复单元的含氟聚合物。 在该式中，R 1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基; n表示0或1; m表示1〜（3 + n）的整数。 R 2或R 3表示氢原子或保护基。 面漆组合物在显影液中具有适度的溶解度。

公开(公告)号：US20130189220A1

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：US13876406

申请日：2011-09-28

申请人： Haruhiko Komoriya ,  Katsutoshi Suzuki ,  Toru Tanaka ,  Takamasa Kitamoto ,  Masayuki Shiota ,  Ryoko Shimada ,  Kazuki Tanaka

发明人： Haruhiko Komoriya ,  Katsutoshi Suzuki ,  Toru Tanaka ,  Takamasa Kitamoto ,  Masayuki Shiota ,  Ryoko Shimada ,  Kazuki Tanaka

IPC分类号： A01N55/00 ,  A01N41/10

CPC分类号： A01N55/00 ,  A01N41/10 ,  A01N47/02 ,  A01N47/04 ,  C08F12/30 ,  C08F20/38 ,  C08F2220/382 ,  C09D5/14 ,  A01N25/10

摘要： [Problem] To provide an antibacterial agent which can be limited to the required location on the surface of a material without mixing and has excellent antibacterial, antifungal and antiviral effects even at low concentrations of the active component without elution or volatilization.[Solution] An antibacterial agent that contains as an active component a resin having an organic group represented by general formula (I-1). (In the formula (I-1), R1 and R2 mutually independently represent a C1-C4 fluoroalkyl group. “C” and “A” are bonded to each other through a covalent bond or an ionic bond, and “A” represents a hydrogen atom or a cation.)

摘要翻译： [问题]提供可以限制在材料表面上的所需位置而不混合的抗菌剂，即使在低浓度的活性组分没有洗脱或挥发的情况下也具有优异的抗菌，抗真菌和抗病毒作用。 [溶液]作为活性成分含有具有由通式（I-1）表示的有机基团的树脂的抗菌剂。 （式（I-1）中，R 1和R 2相互独立地表示C1〜C4氟代烷基，“C”和“A”通过共价键或离子键彼此键合，“A”表示 氢原子或阳离子）

公开(公告)号：US08716385B2

公开(公告)日：2014-05-06

申请号：US13139665

申请日：2009-12-03

申请人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

发明人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

IPC分类号： C09D133/16

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479

摘要： Disclosed is a polymerizable fluoromonomer represented by the following general formula (1). In the formula, R1 represents a hydrogen atom, methyl group, fluorine atom, or trifluoromethyl group. n is an integer of 0 or 1, and m is that of from 1 to (3+n). R2 and R3 each independently represents a hydrogen atom or a protective group. A resist containing a fluoropolymer obtained by polymerizing or copolymerizing the monomer is suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure.

摘要翻译： 公开了由以下通式（1）表示的可聚合的含氟单体。 在该式中，R 1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基。 n为0或1的整数，m为1〜（3 + n）的整数。 R2和R3各自独立地表示氢原子或保护基。 含有通过聚合或共聚单体获得的含氟聚合物的抗蚀剂适用于通过浸渍曝光的微细加工或基于浸渍曝光的双重图案化工艺。

公开(公告)号：US20110244188A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13139665

申请日：2009-12-03

申请人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

发明人： Haruhiko Komoriya ,  Shinichi Sumida ,  Kenjin Inomiya ,  Takashi Mori ,  Takamasa Kitamoto ,  Yusuke Kanto

IPC分类号： B32B3/30 ,  C08F18/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07C69/54

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479

摘要： Disclosed is a polymerizable fluoromonomer represented by the following general formula (1). In the formula, R1 represents a hydrogen atom, methyl group, fluorine atom, or trifluoromethyl group. n is an integer of 0 or 1, and m is that of from 1 to (3+n). R2 and R3 each independently represents a hydrogen atom or a protective group. A resist containing a fluoropolymer obtained by polymerizing or copolymerizing the monomer is suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure.

摘要翻译： 公开了由以下通式（1）表示的可聚合的含氟单体。 在该式中，R 1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基。 n为0或1的整数，m为1〜（3 + n）的整数。 R2和R3各自独立地表示氢原子或保护基。 含有通过聚合或共聚单体获得的含氟聚合物的抗蚀剂适用于通过浸渍曝光的微细加工或基于浸渍曝光的双重图案化工艺。